薄膜
薄膜的基本性质
电介质膜
• 电介质多数是化合物,由它们制备的薄膜是作为
绝缘体使用的,但其中包含的缺陷比金属膜要多 得多,且组成成分得差异也很大,因此,在多数 场合下,绝缘性和介电特性都比整块材料要差。 为了除去这些缺陷,在薄膜制成之后,需要进行 热处理。 从制法上来说,溅射方法容易得到电介质膜。将 电介质直接进行溅射时,可得到100~200nm/s的 电介质直接进行溅射时,可得到100~200nm/s的 沉积速率。也可以利用其它的反应性溅射来制造 电介质膜。
电子必须以某种方法通过微晶体之间的空间,因此,在膜 电子必须以某种方法通过微晶体之间的空间,因此, 层较薄时,电阻率是非常大的。当膜厚增加达到数百埃, 层较薄时,电阻率是非常大的。当膜厚增加达到数百埃, 电阻率就会急剧地减小;但是, 电阻率就会急剧地减小;但是,因晶粒界面的接触电阻起 很大的作用,所以和整块材料时相比, 很大的作用,所以和整块材料时相比,电阻率还是要大的 晶粒界面上会吸附气体,发生氧化, 多。晶粒界面上会吸附气体,发生氧化,当这些地方为半 导体时,甚至会出现随温度的升高电阻减小的情况。 导体时,甚至会出现随温度的升高电阻减小的情况。 单晶膜是在高温下生成的,没有晶粒界面的问题, 单晶膜是在高温下生成的,没有晶粒界面的问题,所以一 般说来电阻率小些。如果蒸镀和溅射比较, 般说来电阻率小些。如果蒸镀和溅射比较,溅射的膜由于 核的密度较高,电阻率也较小些。 核的密度较高,电阻率也较小些。
• (3)空位的消除 • 在薄膜中经常含有许多晶格缺陷,其中空位和孔隙等缺陷经 在薄膜中经常含有许多晶格缺陷,
过热退火处理,原子在表面扩散时消灭这些缺陷可使体积发 过热退火处理, 生收缩,从而形成拉应力性质的内应力。 生收缩,从而形成拉应力性质的内应力。
• (4)界面失配 • 当薄膜材料的晶格结构与基体材料的晶格结构不同时,薄膜 当薄膜材料的晶格结构与基体材料的晶格结构不同时,
第5章+薄膜的生长过程和薄膜结构
特点:每一层原子都自发地平铺于衬底或 者薄膜的表面,降低系统的总能量。
典型例子:沉积ZnSe薄膜时, 一种原子会自发地键合到另 一种原子所形成的表面上。
12
3. 层状-岛状(Stranski-Krastanov)生长模式
在层状—岛状生长模式中,在最开始的一两个原子层厚 度的层状生长之后,生长模式转化为岛状模式。 根本原因:薄膜生长过程中各种能量的相互消长。
3
第一节 薄膜生长过程概述
薄膜的生长过程直接影响到薄膜的结构以 及它最终的性能。 薄膜的生长过程大致划分为两个阶段:新 相形核阶段、薄膜生长阶段。
4
一.薄膜的生长过程
1. 在薄膜形成的最初阶段,一些气态的原子 或分子开始凝聚到衬底表面上,从而开始 了形核阶段。
2. 在衬底表面上形成一些均匀、细小而且可 以运动的原子团,这些原子团称为“岛”。
讨论:
27a12GV 2
(1)在热涨落作用下,半径r< r 的核心由于
降低的趋势而倾向于消失。
(2)r> r 的核心则可伴随着自由能不断下降
而长大。
36
(3) G* 可写为:
G*
16vf 3 3GV 2
(2 3cos 4
cos2
)
其中,
第一项
16
3 vf
是自发形核过程的临界自由能变化,
一.形核过程的分类:
在薄膜沉积过程 的最初阶段,都需 要有新核心形成。
新相的形核过程 自发形核
非自发形核
17
自发形核:指的是整个形核过程完全是在相变
自由能的推动下进行的。 发生条件:一般只是发生在一些精心控制的环 境中。
非自发形核过程:指的是除了有相变自由能作
各种塑料薄膜特性比较
各种塑料薄膜特性比较塑料薄膜是一种广泛应用于包装、农业、建筑、医疗和电子等领域的薄片状材料。
在不同的应用领域,塑料薄膜需要具备不同的特性。
本文将比较几种常见的塑料薄膜的特性,包括聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚氯乙烯(PVC)、聚酯(PET)和聚四氟乙烯(PTFE)。
1.聚乙烯(PE)薄膜:聚乙烯薄膜是一种具有良好耐热性、耐候性和耐腐蚀性的材料。
它具有较高的抗拉强度和抗冲击性,同时也具有较好的透明度和柔韧性。
聚乙烯薄膜适用于各种包装应用,尤其是食品包装。
2.聚丙烯(PP)薄膜:聚丙烯薄膜是一种透明度较高、具有较好的耐热性和耐腐蚀性的材料。
它具有较高的刚度和强度,同时也具有一定的柔韧性。
聚丙烯薄膜适用于各种包装应用,尤其是药品和化妆品包装。
3.聚氯乙烯(PVC)薄膜:聚氯乙烯薄膜是一种具有良好耐候性和抗腐蚀性的材料。
它具有较高的耐热性和耐撕裂性,同时也具有较好的柔韧性和可塑性。
聚氯乙烯薄膜适用于各种包装应用,尤其是药品和电子产品包装。
4.聚酯(PET)薄膜:聚酯薄膜是一种具有较好机械性能、耐候性和透明度的材料。
它具有较高的耐热性和耐腐蚀性,同时也具有较好的柔韧性和刚度。
聚酯薄膜适用于各种包装应用,尤其是食品包装和药品包装。
5.聚四氟乙烯(PTFE)薄膜:聚四氟乙烯薄膜是一种具有极低摩擦系数和优异耐高温性能的材料。
它具有较高的耐腐蚀性和阻隔性,同时也具有良好的绝缘性和柔韧性。
聚四氟乙烯薄膜适用于高温、高压和腐蚀性环境下的包装应用,尤其是在化工、电子和航空航天领域。
综上所述,不同种类的塑料薄膜具有不同的特性,适用于不同的包装应用。
选择合适的塑料薄膜取决于具体的使用需求,如耐热性、耐候性、耐腐蚀性、透明度、柔韧性、刚度等。
在选择塑料薄膜时,还需要考虑生产成本、环境友好性和可回收性等因素。
薄膜物理与技术
将气体在电场的作用下离化,形成离子束或等离子体,然后轰击材 料表面,使其原子或分子沉积在基底表面形成薄膜。
化学气相沉积(CVD)
常压化学气相沉积(APCVD)
在常压下,将反应气体在气相中发生化学反应,生成固态物质并沉积在基底表面形成薄膜 。
低压化学气相沉积(LPCVD)
在较低的压力下,将反应气体在气相中发生化学反应,生成固态物质并沉积在基底表面形 成薄膜。
等离子体增强化学气相沉积(PECVD)
利用等离子体激活反应气体,使其发生化学反应,生成固态物质并沉积在基底表面形成薄 膜。
液相外延(LPE)
溶胶-凝胶法
将金属盐溶液通过脱水、聚合 等过程转化为凝胶,然后在一
定条件下转化为薄膜。
化学镀
利用化学反应在基底表面沉积 金属或合金薄膜。
电镀
利用电解原理在基底表面沉积 金属或合金薄膜。
薄膜的特性与性能参数
特性
薄膜具有一些独特的物理和化学特性, 如高表面面积、高纯度、高密度等, 这些特性使得薄膜在电子、光学、磁 学等领域具有广泛的应用前景。
性能参数
评估薄膜性能的参数包括表面粗糙度、 透光性、导电性、硬度等,这些参数 决定了薄膜在不同领域的应用效果。
薄膜的形成与生长机制
形成
薄膜的形成通常是通过物理或化学方法将物质蒸发或溅射到基材表面,然后凝 结或反应形成薄膜。
涉及其他非主要性能的表征,如化学稳定性、热稳定性等。
详细描述
除了光学、力学和电学性能表征外,还有其他一些非主要性能的表征方法,如化学稳定 性表征和热稳定性表征等。这些性能参数对于评估薄膜在不同环境条件下的稳定性和耐 久性具有重要意义,尤其在化学反应容器制造和高温环境应用等领域中具有重要价值。
薄膜材料的定义
薄膜材料的定义薄膜材料是一种具有特殊结构和性质的材料,广泛应用于各个领域。
它的定义可以从多个角度来解释,包括材料的厚度、结构和功能等方面。
从厚度角度来看,薄膜材料是指在纳米尺度下的材料,其厚度通常在几纳米到几微米之间。
相比之下,传统的材料通常具有更大的尺寸。
由于薄膜材料的特殊厚度,它们具有许多独特的性质和应用。
从结构角度来看,薄膜材料通常由一层或多层原子、分子或离子组成。
这些层状结构使得薄膜材料具有特殊的物理、化学和光学性质。
例如,由于薄膜材料的结构紧密,它们通常具有较高的表面积和较低的体积,从而表现出更高的反应活性和更好的传输性能。
从功能角度来看,薄膜材料具有广泛的应用。
它们可以用作表面涂层,以增强材料的硬度、耐腐蚀性和耐磨性。
薄膜材料还可以用于光学器件,例如太阳能电池板和液晶显示屏,以改善光的传输和控制。
此外,薄膜材料还可以应用于电子器件、传感器、生物医学和环境保护等领域。
薄膜材料的制备方法多种多样,可以通过物理蒸发、化学气相沉积、溶液法和电化学方法等来实现。
每种制备方法都有其优点和局限性,需根据具体应用需求来选择合适的方法。
薄膜材料的研究和应用正在不断发展。
随着纳米技术的发展,人们对薄膜材料的理解和掌握将更加深入。
通过对薄膜材料的研究,可以进一步改善材料的性能,拓宽其应用领域。
预计薄膜材料将在未来的科技发展中发挥重要作用。
薄膜材料是一种具有特殊结构和性质的材料,其定义可以从厚度、结构和功能等方面来解释。
薄膜材料具有广泛的应用前景,并且其研究和应用正在不断发展。
通过对薄膜材料的深入研究,可以进一步拓展其应用领域,推动科技的发展。
薄膜材料介绍
13种薄膜材料介绍薄膜具有良好的韧性、防潮性和热封性能,应用非常广泛;PVDC薄膜适合包装食品,并能长时间保鲜;而水溶性PVA薄膜不必XX直接投入水中即可使用;PC薄膜无味、无毒,有类似玻璃纸的透明度和光泽,可在高温高压下蒸煮杀菌。
本文将主要介绍几种塑料薄膜的性能及其使用。
从商品生产到销售,再到使用,包装件要经过储存、装卸、运输、货架陈列以及在消费者手中存放,这个过程中即可能遇到严寒、酷暑、干燥、潮湿等恶劣的自然气候条件,也要遭受振动、冲击和挤压等各种机械破坏,甚至还有微生物和虫类的侵害。
要保证商品的质量,主要依靠包装材料来保护,所以包装材料非常重要。
塑料薄膜是最主要的软包装材料之一,塑料薄膜的种类繁多,特性各异,根据薄膜的不同特性,其用处也不同,下面介绍几种常见的塑料薄膜:聚乙烯薄膜PE薄膜使用大量最大的塑料包装薄膜,约占塑料薄膜总耗用量的40%以上。
PE薄膜虽然在外观、强度等方面并不十分理想,但它具有良好的韧性、防潮性和热封性能,且加工成型方便,价格便宜,所以应用非常广泛。
1、低密度聚乙烯薄膜。
LDPE薄膜主要采用挤出吹塑法和T模法生产的LDPE薄膜是一种柔韧而透明的薄膜,无毒、无嗅,厚度一般在0.02~0.1㎜之间。
具有良好的耐水性、防潮性、耐旱性和化学稳定性。
大量用于食品、药品、日用品及金属制品的一般防潮包装和冷冻食品的包装。
但对于吸湿性大,防潮性要求较高的物品,则需要采用防潮性更好的薄膜和复合薄膜包装。
LDPE薄膜的透气率大、无保香性且耐油性差,不能用于易氧化食品、风味食品和含油食品的包装。
但透气性好使它能用于水果、蔬菜等新鲜物品的保鲜包装。
LDPE薄膜的热粘合性和低温热封性好,因此常用作复合薄膜的粘合层和热封层等,但由于其耐热性差,故不能用作蒸煮袋的热封层。
2、高密度聚乙烯薄膜。
HDPE薄膜是一种韧性的半透明薄膜,其外观为乳白色,表面光泽度较差。
HDPE薄膜的抗X强度、防潮性、耐热性、耐油性和化学稳定性均优于LDPE薄膜,也可以热封合,但透明性不如LDPE。
薄膜生产工艺
薄膜生产工艺薄膜生产工艺是指生产薄膜产品的过程和方法。
薄膜是一种在厚度上远小于其宽度和长度的材料,具有轻、薄、柔性等特点,广泛用于包装、建筑、电子等领域。
以下是薄膜生产的一般工艺流程:第一步,原料准备。
薄膜的主要原料有聚乙烯、聚丙烯、聚酯等,需要根据产品特性选择合适的原料,并对原料进行处理,如加热、干燥等。
第二步,挤出成型。
挤出成型是薄膜生产中最常用的工艺,即将经过处理的原料放入挤出机,通过加热和压力,将原料融化,然后挤出成型,形成连续的薄膜。
第三步,拉伸冷却。
薄膜挤出成型后,需要进行拉伸来改善薄膜的性能,如拉伸后的薄膜更均匀,拉伸后的薄膜的机械性能更好等。
拉伸通常采用双辊或多组辊子进行,同时进行冷却以固化薄膜的形状。
第四步,切割。
拉伸冷却后的薄膜需要进行切割,根据不同产品的要求,可以采用不同的切割方式,如切割机、切割模具等,将连续的薄膜切割成所需的长度和宽度。
第五步,印刷。
有些薄膜产品需要进行印刷,以增加产品的附加值和美观度。
印刷可以采用凹版印刷、平版印刷、丝网印刷等方式,在薄膜表面印上所需的图案或文字。
第六步,检验。
生产出的薄膜产品需要进行质量检验,以确保产品达到相关标准和要求。
常见的检测项目包括薄膜的厚度、拉伸性能、透明度、表面平整度等。
第七步,包装。
薄膜产品生产完成后,需要进行包装,以便储存和运输。
常见的包装方式有卷装、片材装、袋装等。
通常将薄膜卷绕成卷筒形状,然后用塑料薄膜或纸箱进行包装。
总之,薄膜生产工艺是一个复杂的过程,需要综合考虑原料选择、挤出成型、拉伸冷却、切割、印刷、检验、包装等环节。
通过合理的工艺流程和技术手段,可以生产出高品质、符合需求的薄膜产品。
塑料薄膜是什么材料
塑料薄膜是什么材料塑料薄膜是一种由聚合物制成的薄膜材料,通常用于包装、保护和覆盖等用途。
它具有轻便、柔韧、耐磨、防水、防潮、绝缘等特点,因此在各个领域都有着广泛的应用。
首先,塑料薄膜的材料主要包括聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚氯乙烯(PVC)、聚酯(PET)等。
其中,聚乙烯是最常见的塑料薄膜材料,具有良好的抗拉伸性和耐磨性,适用于食品包装、农业覆盖、建筑防水等领域。
聚丙烯薄膜具有较好的耐高温性能,常用于微波食品包装、医疗用品包装等。
聚氯乙烯薄膜具有良好的透明度和耐候性,适用于窗户隔离膜、广告标识等。
聚酯薄膜具有良好的机械性能和化学稳定性,适用于电子产品保护膜、太阳能反射膜等。
其次,塑料薄膜的制备工艺主要包括挤出、吹膜、涂布等。
挤出法是将塑料颗粒加热熔融后通过挤出机挤出成型,适用于生产PE、PP等薄膜。
吹膜法是将熔化的塑料挤出成管状,然后通过风压或真空将其吹膨成薄膜,适用于生产PE、PVC等薄膜。
涂布法是将塑料熔融后涂布在基材表面并经过冷却固化,适用于生产PET等薄膜。
此外,塑料薄膜的应用领域非常广泛。
在农业领域,塑料薄膜被广泛应用于地膜覆盖、温室大棚覆盖、果蔬包装等,起到保温、保湿、抗虫、抗病等作用。
在工业领域,塑料薄膜被用于包装材料、建筑防水材料、电子产品保护材料等。
在日常生活中,塑料薄膜被用于食品包装、购物袋、保鲜膜、胶带等。
总的来说,塑料薄膜是一种非常常见且实用的包装材料,具有轻便、柔韧、耐磨、防水、防潮、绝缘等特点,广泛应用于农业、工业、日常生活等各个领域。
随着科技的进步和环保意识的增强,人们对塑料薄膜的环保性能和可降解性能提出了更高的要求,未来塑料薄膜将朝着更环保、更可持续的方向发展。
薄膜发展现状及未来趋势分析
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备等,对薄膜的需求将持续增长。
新能源领域
02
薄膜在太阳能电池、燃料电池等新能源领域的应用前景广阔,
未来市场需求旺盛。
生物医疗领域
03
薄膜在生物传感器、药物缓释等医疗领域的应用逐渐增多,市
场需求将持续扩大。
薄膜产业发展趋势与挑战
产业整合与合作
面对激烈的市场竞争,薄膜企业将通 过产业整合与合作,提升整体竞争力 和创新能力。
应用领域
下游环节涉及薄膜的应用领域,如电子、光伏、 包装、建筑等。
薄膜市场竞争格局分析
国际竞争
全球薄膜市场上存在众多国际知名品牌和企业,他们通过技术创 新、产品质量和品牌影响力等方面展开竞争。
国内竞争
中国薄膜市场上也有众多本土企业,他们在国内外市场上与国际企 业展开竞争,不断提升自身实力和市场地位。
薄膜发展现状及未来 趋势分析
汇报人:文小库 2023-11-21
目录
• 薄膜概述 • 薄膜技术发展现状 • 薄膜市场现状及分析 • 薄膜的未来发展趋势
01
薄膜概述
薄膜的定义和分类
定义
薄膜是一种具有厚度在纳米至微米尺度的二维材料。
分类
按照材料性质,薄膜可分为金属薄膜、半导体薄膜、绝缘薄膜等;按照制备方 法,可分为物理气相沉积薄膜、化学气相沉积薄膜、溶胶凝胶薄膜等。
其他领域
薄膜还在环保、航空航天、军 事等领域有着广泛的应用前景
。
02
薄膜技术发展现状
薄膜技术发展历程
初始阶段
薄膜技术起源于20世纪初 ,初期主要应用于军事和 航空领域。
发展阶段
随着科技的进步和工业的 需求,薄膜技术逐渐应用 于电子、光学、太阳能等 领域。
薄膜生长机理
例如,在还原气氛下,氧化物薄膜可能被还原为金属或金属氧化物; 在氧化气氛下,金属薄膜可能被氧化为金属氧化物。
04
气氛的均匀性和稳定性也会影响薄膜的均匀性和质量。
基片的影响
基片对薄膜生长的影响主要体 现在基片的表面结构和化学性
质上。
基片的表面结构对薄膜的附着 力、均匀性和致密性有重要影
响。
基片的化学性质可以与薄膜材 料发生相互作用,影响薄膜的 生长过程和结构。
的化学组成和结构。
化学气相沉积
通过化学反应将气态的化学物质转 化为固态薄膜,涉及复杂的化学反 应和相变过程。
氧化还原反应
在沉积过程中可能发生氧化还原反 应,影响薄膜的化学组成和电子结 构。
薄膜生长的动力学过程
相变动力学
薄膜生长过程中涉及的相变过程, 如气态到液态、液态到固态等, 需要遵循一定的相变动力学规律。
03
薄膜在生长过程中可能会发生相变,形成不同相的组成,从而
影响其整体性能。
薄膜的化学成分
01
化学成分对性能的 影响
薄膜的化学成分决定了其物理、 化学和机械性能,如电导率、光 学性能和耐腐蚀性等。
02
03
元素组成与比例
化学稳定性
薄膜中各元素的组成与比例对其 性能具有重要影响,如掺杂元素 可以提高薄膜的性能。
例如,基片表面的氧化物、杂 质等可能会影响薄膜的生长过 程和结构。
04 薄膜性能与表征
薄膜的晶体结构
晶体结构对性能的影响
01
薄膜的晶体结构决定了其物理、化学和机械性能,如硬度、韧
性和导电性等。
晶体取向与生长机制
02
薄膜的晶体取向与生长机制密切相关,不同的晶体取向会导致
常见的薄膜
铜
铜的特性
铜具有良好的导电性、导热性、耐腐蚀性 和延展性等物理化学特性。导电性和导热性 仅次于银。纯铜是玫瑰红色的, 氧化铜呈紫 红色。故称紫铜。在空气和水中不太稳定, 受潮湿、二氧化碳及硫气体的影响,易生氧 化膜、硫化物和碱式碳酸铜。
电阻率更小 ,ρ = 1.72 μΩ•cm;更小的功 耗和更快的芯片速度(更小的RC信号的延 时),更高的集成密度;良好的抗电迁移能 力。
常见的薄膜
常见的薄膜
薄膜的定义和特性
定义: 厚度远小于面积固态物质层,称为薄膜。
特性 1、好的台阶覆盖能力; 2、粘附性好; 3、高的深宽比填充; 4、厚度均匀; 5、应力小 6、结构完整,高纯度,高密度
薄膜的种类和生长
种类 1、绝缘介质:SiO2, Si3N4 BSG,PSG,BPSG,FSG 2、金属薄膜:铝、金、铜、钨 3、半导体薄膜:单晶硅外延层、多晶硅 生长
薄膜分子成核 → 聚集成膜 → 连续的膜
半导体生产中常用薄膜
二氧化硅(掺杂) 氮化硅 铝(铜) 铜(金) 多晶硅 单晶硅外延层
二氧化硅
掺杂的二氧化硅 B,P等
可以吸收钠离子,减少沾污 高温下流动性好,有利于回流工艺 ,更
好的填充空隙,实现表面平坦化
氮化硅
钨
钨的作用 利用CVD钨具有均匀的填充高深宽比
通孔的能力,作为金属填充物 。 工艺流程在CVD钨淀积之后,用干法
刻蚀或CMP法去除表面多余的钨仅保留 通孔内的钨以形成插塞的制作技术,可 以提供稳定可靠的多层金属内连线。
金
金的特性
金的密度较大,韧性很好,延展率高抗机械 强度高;
金的化学性质很稳定,通常,无论是稀的或 浓的盐酸、硝酸、硫酸单独使用均不能溶解 它,但是金可溶于王水(盐酸和硝酸的3:1的 混合剂 ) ,金与王水发生化学作用生成 HAuCL4四氯金酸,四氯金酸的腐蚀性能极 强,它能腐蚀一切金属。
薄膜的制备工艺
2.3.2溶胶-凝胶方法制备薄膜工艺
有机途径
通过有机金属醇盐的水解与缩聚而形成溶 胶。在该工艺过程中,因涉及水和有机物, 所以通过这种途径制备的薄膜在干燥过程 中容易龟裂(由大量溶剂蒸发而产生的残 余应力所引起)。客观上限制了制备薄膜 的厚度。
无机途径
通过某种方法制得的氧化物微粒,稳定地 悬浮在某种有机或无机溶剂中而形成溶胶。 通过无机途径制膜,有时只需在室温下干 燥即可,因此容易制得10层以上而无龟裂 的多层氧化物薄膜。
2.3.3Sol-Gel合成的工艺方法
用Sol-Gel法制备材料的具体技术和方法很多,按其溶胶、 凝胶的形成方式可分为传统胶体法、水解聚合法和络合物 法三种。
前驱物溶液 化学添加剂 水 催化剂 水解溶液 聚合 低压蒸发 凝 胶 络合剂
细密荷电颗粒溶胶 调节pH值, 添加电解质, 溶剂蒸发
络合物溶胶
2.2化学气相沉积 (chemical vapor deposition )
化学气相沉积:一定化学配比的反应气体, 在特定激活条件下(一般是利用加热、等离 子体和紫外线等各种能源激活气态物质), 通过气相化学反应生成新的膜层材料沉积 到基片上制取膜层的一种方法。
• 化学气相沉积,包括低压化学气相沉积(low pressure CVD,LPCVD)、离子增强型气相沉积 (plasma-enhanced CVD,PECVD)常压化学气相 沉积(atmosphere pressure CVD,APCVD)、金属 有机物气相沉积(MOCVD)和微波电子回旋共 振化学气相沉积(Microwave Electron cyclotron resonance chemical vapor deposition, MW-ECRCVD)等。 • 只要是气相沉积,其基本过程都包括三个步骤;
举例说明薄膜制备的几种方式及特点
薄膜制备是一种常见的工程技术,可以用于制备各种材料的薄膜,包括聚合物、金属和无机物等。
在实际应用中,薄膜制备的方式有很多种,每种方式都有其特点和适用范围。
本文将举例说明薄膜制备的几种常见方式及其特点,以便读者更好地了解薄膜制备技术。
一、溶液旋涂法溶液旋涂法是一种常用的薄膜制备方式,其原理是将制备材料溶解于适当的溶剂中,然后将溶液滴在旋转的基板上,通过离心力将溶液甩到基板上形成薄膜。
该方法具有以下特点:1. 简单易行,无需复杂的设备。
2. 可以制备较大面积的薄膜。
3. 适用于制备柔性基板上的薄膜。
然而,溶液旋涂法的缺点也很明显,例如溶液的浓度和旋转速度对薄膜质量的影响比较大,且薄膜厚度不易控制。
二、真空蒸发法真空蒸发法是一种常见的薄膜制备方式,其原理是将制备材料加热至蒸发温度,然后在真空条件下蒸发到基板表面形成薄膜。
该方法具有以下特点:1. 可以制备高纯度的薄膜。
2. 薄膜的厚度和组分可以精确控制。
3. 适用于制备高要求的光学薄膜和导电薄膜。
但真空蒸发法也存在一些问题,例如对制备材料的纯度要求较高,设备成本较高,且只能制备较小面积的薄膜。
三、喷雾法喷雾法是一种以喷雾技术为基础的薄膜制备方式,其原理是将制备材料溶解于适当的溶剂中,通过气雾喷射技术将溶液喷洒到基板上形成薄膜。
该方法具有以下特点:1. 可以制备均匀性较好的薄膜。
2. 适用于大面积薄膜的制备。
3. 可以制备复杂结构的薄膜。
喷雾法的缺点主要在于薄膜的厚度控制较难,且溶液浓度和喷雾条件对薄膜质量有较大影响。
四、离子束溅射法离子束溅射法是一种以物理气相沉积过程为基础的薄膜制备方式,其原理是利用离子束轰击靶材,使靶材表面蒸发形成薄膜。
该方法具有以下特点:1. 薄膜的成分均匀,密度高。
2. 可以制备复杂结构的薄膜。
3. 适用于制备高温材料的薄膜。
离子束溅射法的缺点在于设备成本较高,且只能制备较小面积的薄膜。
五、激光熔化法激光熔化法是一种以激光为能量源的薄膜制备方式,其原理是利用激光对基板上的薄膜进行加热,使薄膜融化后再凝固形成新的薄膜。
BOPP薄膜简介
BOPP薄膜简介BOPP(双向拉伸聚丙烯)薄膜是一种常用的包装材料,展示出卓越的性能和广泛的应用领域。
它由聚丙烯树脂加工而成,通过双向拉伸工艺获得均匀的拉伸和增强的物理性能。
在本文中,我们将详细介绍BOPP薄膜的制造工艺、性能特点以及应用领域。
制造工艺:BOPP薄膜的制造过程通常包括挤出、拉伸和定型三个步骤。
首先,聚丙烯树脂被通过挤出机熔化,并通过挤出嘴形成连续的薄膜片。
然后,薄膜片经过双向拉伸,即同时沿纵向和横向两个方向进行拉伸。
拉伸过程中,薄膜的拉伸倍数和拉伸温度会对其性能产生重要影响。
最后,薄膜经过定型,以恒定长度和宽度尺寸。
性能特点:BOPP薄膜具有一系列出色的性能特点。
首先,具有优异的透明度和高光泽度,使得其成为展示和包装应用的理想选择。
其次,BOPP薄膜具有良好的机械性能,如高拉伸强度、耐折性和抗撕裂性能。
这使得BOPP 薄膜具有优秀的包装性能,能够有效保护包装物。
此外,BOPP薄膜还具有耐潮湿性、耐化学品性、低气透性等特点,增加了其在包装领域的应用价值。
应用领域:BOPP薄膜由于其优越的性能而在各个领域中得到广泛应用。
在食品包装领域,BOPP薄膜可用于包装饼干、糖果、薯片、方便面等食品,用于保持食品的新鲜度和延长货架寿命。
在药品包装领域,BOPP薄膜可用于包装药片、药粉、保健食品等,保护药品免受湿气和污染。
此外,BOPP薄膜还可用于包装烟草、日用品、化妆品等,保护产品免受湿气、阳光和其他外界环境影响。
总结:BOPP薄膜是一种由聚丙烯树脂制成的包装材料,在制造工艺、性能特点和应用领域上都具有独特优势。
其制造工艺包括挤出、拉伸和定型,通过这些步骤获得优异的性能。
BOPP薄膜具有高透明度、高光泽度、高拉伸强度、耐折性等特点,具有良好的包装性能。
它在食品、药品、烟草、日用品等行业中得到广泛应用,同时也在印刷、广告和建筑等行业中发挥重要作用。
作为一种多功能的包装材料,BOPP薄膜在现代生活中起着不可或缺的作用。
薄膜材料有哪些
薄膜材料有哪些
薄膜材料是一种在工业和科技领域中广泛应用的材料,它具有许多独特的特性
和优势。
薄膜材料主要是指厚度在纳米级到微米级之间的材料,通常由聚合物、金属、陶瓷等材料制成。
在各种领域中,薄膜材料都发挥着重要作用,比如在光学、电子、医疗、能源等方面都有着广泛的应用。
首先,薄膜材料在光学领域中有着重要的应用。
光学薄膜材料具有优异的透明
性和反射性能,可以用于制造光学镜片、滤光片、太阳能电池等产品。
这些产品在光学仪器、光学通信、光学显示等领域中有着重要的作用,为人们的生活和工作提供了便利。
其次,薄膜材料在电子领域也有着广泛的应用。
例如,薄膜材料可以用于制造
柔性电子产品,比如柔性显示屏、柔性电池等。
与传统的硬性电子产品相比,柔性电子产品更轻薄便携,可以更好地适应各种复杂的环境和形状,因此备受市场青睐。
此外,薄膜材料在医疗领域中也有着重要的应用。
例如,医用薄膜材料可以用
于制造医用敷料、手术器械包装、医用隔膜等产品。
这些产品具有优异的透气性、防水性和抗菌性能,可以有效地保护伤口,预防感染,为患者的康复提供保障。
最后,薄膜材料在能源领域中也有着重要的应用。
例如,太阳能电池、燃料电池、锂离子电池等产品都需要使用薄膜材料作为关键部件。
薄膜材料具有优异的导电性、光学性能和化学稳定性,可以有效地提高能源转换效率,推动清洁能源的发展。
总的来说,薄膜材料是一种具有广泛应用前景的材料,它在光学、电子、医疗、能源等领域都有着重要的作用。
随着科技的不断进步和创新,相信薄膜材料将会有更多的新应用出现,为人类社会的发展和进步做出更大的贡献。
无机薄膜的概念
无机薄膜的概念无机薄膜是指由无机材料构成的薄膜,通常具有厚度少于1微米的特点。
无机薄膜具有多种应用领域,如电子器件、光学器件、能源存储和转换等。
本文将从无机薄膜的定义、制备方法、特性及应用等方面进行详细阐述。
首先,无机薄膜定义为由无机材料制成的具有特定厚度的薄膜。
无机材料一般指的是由金属、非金属和金属氧化物等组成的材料,如金属薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜等。
无机薄膜主要利用物质的特性和结构,通过不同的制备工艺将材料沉积在基底表面上形成薄膜。
无机薄膜的制备方法目前主要有物理气相沉积、化学气相沉积、溅射法、离子束法和溶液法等。
物理气相沉积是指通过蒸发、溅射或激发等方式将无机材料源料转化为气相,然后在基底表面进行沉积。
化学气相沉积是指通过化学反应将无机材料源料转化为气相,然后在基底表面沉积。
溅射法是指利用离子轰击的能量将无机材料源料从固体转变成气相,然后在基底表面沉积。
离子束法是指利用离子束轰击的能量将无机材料源料从固体转变成气相,然后在基底表面沉积。
溶液法是指将无机材料源料溶解在溶剂中,然后将溶液涂覆在基底表面,通过溶液蒸发或热处理等方式形成无机薄膜。
无机薄膜具有许多独特的特性,如光学、电子、磁性、导电性、机械性能等。
例如,氧化物薄膜具有良好的光学和电学性能,可用于太阳能电池、显示器和激光器等器件。
金属薄膜具有良好的导电性和热传导性能,广泛应用于微电子器件和传感器等领域。
氮化物薄膜具有较高的硬度和耐磨性能,可用于涂层材料和陶瓷材料等。
此外,无机薄膜还具有高温稳定性、化学稳定性和防腐性等特点,适用于各种恶劣环境条件下的应用。
无机薄膜在各个领域都具有广泛的应用。
在电子器件方面,无机薄膜可用于制备晶体管、存储器、显示器和太阳能电池等。
在光学器件方面,无机薄膜可用于制备滤光片、反射镜、光纤通信器件和激光器等。
在能源存储和转换方面,无机薄膜可用于制备锂电池、燃料电池、光电池和超级电容器等。
此外,无机薄膜还可以应用于防腐涂层、生物传感器、气敏传感器和防反射涂层等。
薄膜的性质
原子与原子间的相互作用往往是物理的和化学的作 用交织在一起,而不是单纯的某一种作用,因此, 薄膜对基片的附着常常不是单纯的某一种附着力。
4、附着力 (1)定义 指薄膜以多大的强度附着在基片上。
基准附着力:薄膜与基片完全接触时,在界面处的 结合力。
???1弹性模量薄膜的热胀系数基片的热胀系数薄膜淀积温度测量温度f??fsdfsde?ttett????????????薄膜热应力的表达式为3之热应力为负即为压应力
第九章 薄膜的性质
力学性质 电学性质 介电性质 半导体薄膜性质 其他性质
§9-1 薄膜的力学性质
薄膜的力学性质与其结构密切相关。 薄膜的主要力学性能:
剪切法:与拉伸法相类似,剪一叨法用私结的手段 将薄膜的表面与一块金属板私结在一起。然后, 在平行于薄膜表面的方向上对金属板施加载荷或 扭矩,并测量使薄膜从衬底上剥离所需要的临界 载荷,以作为薄膜附着力的量度。
另外有压痕法(类似于划痕法)、拉倒法(类似于 拉伸法)。
容易形成氧化物的薄膜其附着力则较大
之,热应力为负,即为压应力。
因此,可通过选择基片或者改变成膜温度的办法 来改变薄膜中热应力的性质和大小。
(4) 对于高熔点的金属薄膜及其他薄膜,随着成 膜温度的提高,热应力可能成为它内应力中的一 个主要部分。
对于低熔点金属和结构高度有序的薄膜,因为它 们的本征应力很小,所以热应力能成为它们内应 力中的绝大部分。
其附着能=分开单位附着面所需做的功 Wfs=Ef+Es-Efs
(Ef—薄膜的表面能,Es—基片的表面能,Efs—薄 膜与基片之间的界面能)
两个相似或相容的表面接触,Efs小,Wfs大,附着牢 两个完全不相似或不相容的表面接触, Efs大,Wfs小
薄膜及其特性
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另外,表面中含有大量的晶粒界面,而界面势垒 V 0 比电子能量E要大得多,根据量子力学知识,这些 电子有一定的几率,穿过势垒,称为隧道效应。 电子穿透势垒的几率为:
T1E 6 (V V 0 0 2E )ex 2 p h a2 m V 0E
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5
基片和薄膜属于不同种物质,附着现 象所考虑的对象是二者间的边界和界 面。
二者之间的相互作用能就是附着能, 附着能可看成是界面能的一种。附着 能对基片-薄膜间的距离微分,微分最 大值就是附着力。
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不同种物质原子之间最普遍的相互作用是范德 瓦耳斯力。这种力是永久偶极子、感应偶极子之 间的作用力以及其他色散力的总称。
在薄膜材料中还包含有大量的表面晶粒间界和 缺陷态,对电子输运性能也影响较大。
在基片和薄膜之间还存在有一定的相互作用, 因而就会出现薄膜与基片之间的粘附性和附着 力问题,以及内应力的问题。
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3
(1)表面能级很大
表面能级指在固体的表面,原子周期排列的连 续性发生中断,电子波函数的周期性也受到影 响,把表面考虑在内的电子波函数已由塔姆 (Tamm)在1932年进行了计算,得到了电子表 面能级或称塔姆能级。
射率膜(反射率可达99%以上)等等。
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(3)硬质膜、耐蚀膜、润滑膜
①硬质膜 用于工具、模具、量具、刀具表面的TiN、 TiC、TiB2、(Ti, Al)N、Ti(C, N)等硬质膜,以及 金刚石薄膜、C3N4薄膜和c-BN薄膜。
②耐蚀膜 用于化工容器表面耐化学腐蚀的非晶镍膜 和非晶与微晶不锈钢膜;用于涡轮发动机叶片表 面抗热腐蚀的NiCrAlY膜等。
③润滑膜 使用于真空、高温、低温、辐射等特殊场 合的MoS2、MoS2-Au、MoS2–Ni等固体润滑膜和 Au、Ag、Pb等软金属膜。
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光学薄膜在光通信中的应用
增益平坦器 掺饵光纤放大器(EDFA)在波长1550 nm附近30 40 nm的波长区间上的增益是不平坦的. 为了使增益频带拓宽和平坦 ,可以使用增益平滑 滤光片(GFF),即是用光学薄膜来衰减EDFA增益 较高的那些波长。 其一般采用Fabry-Perot型膜系,在平板的两面镀 上反射率一样的高反射膜,或在两平板上镀上同 反射率的高反射膜,中间为介质. LOGO
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薄膜波分复用器(WDM)
干涉在光学薄膜中的应用还有很多.薄膜光学是 物理学中比较年轻的分支,拥有很好的发展前景 与广泛的应用范围,并将在光通信、激光等领域 发挥重要作用. 光学是一门应用很广的学科,我们现在学得只是 基础与理论,还有很多实际应用等待我们去了解
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薄膜干涉原理
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经典光学薄膜分类 减反射膜 高反射膜 能量分光膜
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经典光学薄膜分类
光谱分光膜 带通滤光片
宽带通滤波器
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光学薄膜在光通信中的应用 介质薄膜干涉型滤光片 质薄膜干涉型滤光片可能是波分复用系统中应用最 广的光学薄膜器件,这项技术已十分成熟,它可 以提供良好的温度稳定性、通道隔离度和很宽的 带宽. 介质薄膜干涉型滤光器广泛应用于全光系统 中的重要器件有:波分复用/解复用器,光交叉连接 器(OXC),光分插复连接器(OADM)等.
干涉在光学薄膜中的应用
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Contents
光学薄膜简介
薄膜干涉原理
经典光学薄膜分类
光学薄膜在光通信中的应用
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光学薄膜 (optical coating)简介
由薄的分层介质构成的,通过界面传播光束的 一类光学介质材料。 光学薄膜的应用始于20世纪30年代。现代,光 学薄膜已广泛用于光学和光电子技术领域,制 造各种光学仪器。
薄膜波分复用器(WDM) 薄膜波分复用器是基于介质薄膜(DTF)构成的 薄膜WDM器的基本结构是基于法布里一泊罗(F一 P)标准具,F一P标准具由腔和反射镜构成,通带 的中心波长由腔长确定。
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薄膜波分复用器(WDM)
对一个确定的薄膜滤波器只能对一个波长进行滤 波,因此要实现WDM应用,需要多个这样的滤波 器级联
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薄膜波分复用器(WDM)
薄膜波分复用器的显著优势是结构简单,价格相 对较低。但是对较多通道复用的情况,需要大量 滤波器的级联,一方面会增加成本,另一方面会 引起较大插入损耗。因此这样的波分复用器主要 应用于通道数不多的小型网络里。
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