355nm激光曝光SU-8胶的XPS谱和FT—IR谱研究
静电纺丝制备SU-8光刻胶纳米纤维及图案阵列
案阵列 、三维等各种常见的纳米纤维结构中，高度有序 用 ＳＵ ８进行纳米纤维 因其 可作为 功能基 底 和器 件结构 少 。
而受到人们的高度关 注 ，如纳米纤维 图案 已被集 成到 微 流 控 芯片 中进 行 细胞培 养分 析研 究 ｌ ＿８ Ｊ。
ｍａｔｅｒｉａｌｓ［Ｊ］．Ｎａｎｏｓ ｃａｌｅ，２０１２，４：ｌ７０７．１７ｌ６． 吴卫逢 ，李好 义，张爱 军，等．熔体 静电纺丝制 备吸油材料 ［Ｊ］． 化工新型材料 ，２０１５，４３（１）：４６．４８． Ｗ ｕ Ｗ Ｆ，Ｌｉ Ｈ Ｙ，Ｚｈａｎｇ Ａ Ｊ，ｅｔ ａ１．Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ ｏｆ ｏｉｌ ｓｏｒｂｅｎｔ ｂｙ ｍｅｌｔ ｅｌｅｃｔｒｏｓｐｉｎｎｉｎｇ［Ｊ］．Ｎｅｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｍａｔｅｒ ｉａｌｓ，２０１５，４３（１）：
关键词 ：静 电纺丝 ；纳米纤维 ；ＳＵ一８光刻胶 ；纤维 图案 中图分类号 ：ＴＱ３４０．６４９ 文献标识码 ：Ａ 文章编号 ：１０００—７５５５（２０１６）０４—０１２１—０５
静 电纺 丝是 一种 简单 、高效 的纳米 纤维制 备技 阵列。ＳＵ－８光刻胶 的主要成分是环氧型光敏性 高分
本文选取了紫外光刻胶 ＳＵ－８为静电纺丝前驱体 溶液 ，进行 纳米 纤维 、结构及 有序 图案 的制备工 艺研 究 。重 点 研 究 了 ＳＵ－８黏 度 对 纤 维 形 貌 和 直 径 的 影 响 ，分别利 用 不 同结 构 的铝 箔 电极 和 针 头结 构 形 成 了 理想的平行纳米纤维薄膜和空心纤维结构 。这种利用 紫外光 刻技 术 ，将 得 到 的 ＳＵ．８纳 米 纤 维 成 功 制 备 成 结构和尺寸可控 图案阵列与微流体通道的基底结构有 望 作 为细胞 行 为研究 分 析 的重要 功 能基底 材料 。
355nm皮秒激光辐照下熔石英的损伤特性
［ ２ ３ Ｃ ａ ｍｐ ｂ ｅ ｌ ｌ Ｊ Ｈ， Ｈａ ｗｌ ｅ ｙ — Ｆ ｅ ｄ ｄ ｅ ｒ Ｒ Ａ， Ｓ ｔ ｏ ｌ ｚ Ｃ Ｊ ，ｅ ｔ ａ １ ．ＮＩ Ｆ ｏ ｐ ｔ ｉ ｃ ａ ｌ ｍａ ｔ ｅ ｒ ｉ ａ ｌ ｓ ａ ｎ ｄ ｆ ａ ｂ ｒ ｉ ｃ ａ ｔ ｉ ｏ ｎ ｔ ｅ ｃ ｈ ｎ ｏ ｌ ｏ ｇ ｉ ｅ ｓ ：ａ ｎ ｏ ｖ ｅ ｒ ｖ ｉ ｅ ｗ［ Ｃ ］ ／ ／ Ｐ ｒ ｏ ｃ ｏ ｆ Ｓ Ｐ Ｉ Ｅ
Ｐｒ ｏ ｃ ｏ ｆ Ｓ ＰＩ Ｅ． ２ ０ ０ ２，４ ６ ７ ９：４ ８ － ５ ５ ．
［ ６ ］ Ｓ ｍｉ ｔ ｈ Ａ Ｖ，Ｄ ｏ Ｂ Ｔ．Ｐ ｉ ｃ ｏ ｓ ｅ ｃ ｏ ｎ ｄ — ｎ ａ ｎ ｏ ｓ ｅ ｃ ｏ ｎ ｄ ｂ ｕ ｌ ｋ ｄ ａ ｍａ ｇ ｅ ｏ ｆ ｆ ｕ ｓ ｅ ｄ ｓ ｉ ｌ ｉ ｃ ａ ａ ｔ １ ０ ６ ４ ｎ ｍ［ Ｃ ］ ／ ／ Ｐ ｒ ｏ ｃ ｏ ｆ Ｓ Ｐ Ｉ Ｅ ．２ ０ ０ ８ ： ７ １ ３ ２ １ Ｅ ． ［ ７ ］ Ｎ ｏ ｒ ｔ ｏ ｎ Ｍ Ａ， Ｈｒ ｕ ｂ ｅ ｓ ｈ Ｌ Ｗ， Ｗｕ Ｚ ，ｅ ｔ ａ １ ．Ｇｒ ｏ ｗｔ ｈ ｏ ｆ ｌ ａ ｓ ｅ ｒ ｉ ｎ ｉ ｔ ｉ ａ ｔ ｅ ｄ ｄ ａ ｍａ ｇ ｅ ｉ ｎ ｆ ｕ ｓ ｅ ｄ ｓ ｉ ｌ ｉ ｃ ａ ａ ｔ ３ ５ １ ｎ ｍ［ Ｒ］ ．ＵＣ Ｒ Ｌ － Ｊ Ｃ 一 １ ３ ９ ６ ２ ４ ，２ ０ ０ １ ． ［ ８ ］ Ｓ ｔ ｕ ａ ｒ ｔ Ｂ Ｃ，Ｆ ｅ ｉ ｔ Ｍ Ｄ， Ｈｅ ｒ ｍａ ｎ Ｓ ， ｅ ｔ ａ １ ．Ｎａ ｎ ｏ ｓ ｅ ｃ ｏ ｎ ｄ — ｔ ｏ — ｆ ｅ ｍｔ ｏ ｓ ｅ ｃ ｏ ｎ ｄ ｌ ａ ｓ ｅ ｒ － ｉ ｎ ｄ ｕ ｃ ｅ ｄ ｂ ｒ ｅ ａ ｋ ｄ ｏ ｗ ｎ ｉ ｎ ｄ ｉ ｅ ｌ ｅ ｃ ｔ ｒ ｉ ｃ ｓ ［ Ｊ ］ ．Ｐ ｈ ｙ ｓ Ｒ ｅ ｖ Ｂ，１ ９ ９ ６ ， ５ ３ （ ４ ） ：
355 nm脉冲激光在甲烷中的高效多波长拉曼转换
第17卷第7期强激光与粒子束V o l.17,N o.7 2005年7月H I G H P OW E R L A S E R A N D P A R T I C L E B E AM S J u l.,2005文章编号:1001-4322(2005)07-0987-08355n m脉冲激光在甲烷中的高效多波长拉曼转换*冷静,沙国河,杨何平,花晓清,张存浩(中国科学院大连化学物理研究所分子反应动力学国家重点实验室,辽宁大连116023)摘要:研究了脉冲N d:Y A G激光(355n m)泵浦的甲烷中多级S t o k e s光的产生和惰性气体对其转换效率的影响,其中一级和二级S t o k e s光的最大能量转换效率分别可达71%和38%(对应量子效率为79%和48%),大大高于已往文献报道的20%。
在0.5M P a下,可同时获得322n m(3.6%),355n m(24.5%),396n m(24.3%),448n m(22.3%)和515n m(9.3%)的多波长输出。
甲烷压力对多级S t o k e s转换有显著影响:高气压利于产生高效的一级S t o k e s光,而低气压则适合于高级S t o k e s光的产生。
根据级联受激拉曼散射(S R S)和四波混频(F WM)理论对实验结果进行了分析,结果表明甲烷中高级S t o k e s光的产生是S R S和F WM协同作用的结果。
加入的氦气增强了甲烷中S t o k e s光的转换效率,而氩气的作用恰恰相反,利用热透镜效应可以很好地解释这些现象。
关键词:N d:Y A G激光;级联受激拉曼散射;四波混频;热透镜效应中图分类号:O437.3文献标识码:A受激拉曼散射(S R S)作为一种产生新波长相干辐射的方法,具有转换效率高、波长选择范围广、结构简单、易操作等优点,已被广泛应用于海底通讯、光刻及数据存储、大气监测、环境检控和激光雷达等技术。
SU-8胶在深紫外光源下的光强分布模拟
Ｓ ｍ ｕ ａ ｉ ｎ ｏ ｈｅＤｉｔｉ ｕ ｉ ｎ ｏ ｈ ｅ ｉ ｌｔｏ ｆｔ ｓｒ ｂ ｔｏ ｆｔ ｅ Ｄｅ ｐ ＵＶ ｇ ｎｔｎｓｔ ｎ Ｓ ８ ＰＲ Ｌｉ ｈｔＩ ｅ ｉｙ ｉ Ｕ一
Ｆ ＮＧＭ ｉｇ， Ｕ Ｅ ｎ Ｈ ＡＮＧ Ｑ ｎ —ｎ ， ｉ ｕ Ｚ ｉｇａ Ｌ１ Ｗｅ— ａ， ＨＯＵ Ｚ ｉ厂 ＺＨＵ Ｚ ｅ ｈ ａ一 口， ＿ ｈｎ
（ ｔｔ Ｍｉｉ ｒ ｄ ｃ ｔ ｎＫｅ ａ ｏａｏｙｏ Ｓａ ｅ ｎｓ ｙＥ ｕａｉ ｙＬ ｂｒｔｒ ｆＭＥ Ｓ．Ｎ口 ｊｎ ｔ ｏ Ｍ ｎ ｉｇ・２０ ９ ・ ｈｎ ） １ ０ ６ Ｃ ｉａ
Ａｂ ｔａ ｔＯ ｎ ｔ ｅｂ ｓｓｏ ｅ ｎ ｌ ｉｆａ ｔｏ ｓｒ ｃ ： ｈ ａ ｉ ｆＦｒ ｓ ｅ ｆｒ ｃｉｎ，ａｍ ｅｈ ｄ ｏ ｈ ｉ ｕａ ｉｎ ｏ ｈ ｉｔｉｕ ｉｎｏ ｈ ｅ ｐＵＶ ｄ ｔ ｏ ｆｔ ｅｓｍ ｌｔｏ ｆｔ ｅｄｓ ｒｂ ｔ ｆ ｅｄ ｅ ｏ ｔ ｌ ｈ ｎ ｅ ｓｔ ｎＳ ８ ＰＲ ｓ ｇｖ ｎ ｉ Ｄ ｎ Ｄ ｙ ｃ ｎ ｉｅ ｉ ｇ ｏ ｈ ｅｒ ｃｉｎ，ａ ｄ ａ ｓ ｒ ａ ｃ ｆｔ ｅ ｉ ｔｉ ｔｎ ｉｙ ｉ Ｕ一 ｇ ｉ ｉｅ ｎ ２ ａ ｄ ３ ｂ ｏ ｓｄ ｒｎ ｆｔ ｅｒ ｆａ ｔｏ ｎ ｂ ｏ ｂ ｎ ｅｏ ｈ Ｓ ８ ｐ ｏ ｏ ｅ ｉｔａ ｄ ｔ ｅｒ ｆ ｃｉ ｎｏ ｈ ｆｒ Ｕ一 ｈ ｔ ｒｓｓ ｎ ｈ ｅ ｌ ｔ ｆｔ ｅｗａｅ ．Ｃｏ ｐ ｒ ｄｔ ｈ ｘ ｅ ｉ ｎ ｓ ｈ ｅ ｕ ｔ ｆ ｈ ｅｈ ｄ ｉ ｅ ｏ ｍ ａ ｅ ｏｔ ｅｅ ｐ ｒｍｅ ｔ ，ｔ ｅｒ ｓ ｌ ｏ ｅｍ ｔ ｏ Ｓ ｔ ｍ ｏ ｅａ ｃ ｒ ｔ ｎ ａ ｅｕ ｅ ｓｔ ｅａ ｐ ｏ ｉ ｔ ｒ ｆ ｅｏ ｈ Ｕ一 ｒ ｃ ｕ ａｅａ ｄ ｃ ｎ ｂ ｓ ｄ ａ ｈ ｐ ｒ ｘ ｍａ ｅｐ ｏ ｉ ｆｔ ｅＳ ８ ＰＲ． ｌ Ｋｅ ｒ ｓ Ｆｒ ｓ ｅ ｉ ｒ ｃｉｎ；ｔ ｅｄｓ ｒｂ ｔ ｎ ｏ ｈ ｅ ｐ ＵＶ ｉｈ ｎ ｅ ｓｔ ；Ｓ ８ ＰＲ ｙ ｗｏｄ ： ｅ ｎ ｌ ｆ ａ ｔｏ ｄ ｆ ｈ ｉｔｉｕ ｉ ｆｔ ｅｄ ｅ ｏ ｌ ｔｉｔ ｎ ｉｙ ｇ Ｕ一
基于SU-8厚胶光刻技术的爆炸箔加速膛工艺研究
基于SU-8厚胶光刻技术的爆炸箔加速膛工艺研究姚艺龙陶允刚郑国强余传杰（中国电子科技集团公司第四十三研究所安徽·合肥230088）摘要SU-8光刻胶是厚胶工艺常用的光刻胶，它是一种基于EPON SU-8树脂的环氧型、负性、近紫外线光刻厚胶，由于曝光时SU-8光刻胶层能够得到均匀一致的曝光量，故使用SU-8光刻胶可获得具有垂直侧壁和较大高深宽比的厚膜图形。
本文基于爆炸箔加速膛产品要求，研究了决定SU-8厚胶光刻后产品质量的主要工艺参数：胶厚与涂胶转速的关系、前后烘温度与时间、曝光量、显影时间等。
获得了适用于片式薄膜爆炸箔加速膛的SU-8厚胶光刻方案。
关键词SU-8光刻胶光刻工艺加速膛爆炸箔中图分类号：TN405文献标识码：A0引言SU-8光刻胶是一种基于EPON SU-8树脂的负性、环氧型、近紫外光刻胶。
它在近紫外光范围内光吸收度低，故整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致，可得到具有垂直侧壁外形和高深宽比的厚膜图形。
它还具有良好的力学性能、抗化学腐蚀性和热稳定性，能形成结构复杂的图形。
SU-8不导电，在电镀时可以直接作为绝缘体使用，主要用于微机电系统及其它厚膜光刻胶应用领域，如微传感器、微转动系统、线圈的模具，同时SU-8采用特殊的环氧成膜材料，能在强刻蚀液及电铸工艺中使用。
在薄膜光刻工艺技术中，SU-8是一种具有特殊功能的不可替代的一种光刻胶，和光刻常用的正胶、负胶及PI胶相比，SU-8能够实现厚胶图像光刻技术，使用SU-8可获得从几十微米达一千微米的胶，而同样工艺中常用的正胶、PI胶等厚度一般小于5微米。
即使膜厚达1000微米，其光刻图形边缘仍近乎垂直，深宽比可达50：1，利用这一特性SU-8可实现产品特殊结构制备，如片式薄膜爆炸箔加速膛。
当前，国内军用火工品与欧美先进国家有较大的差距，仍以第二代为主，多代并存。
第二代火工品使用桥丝式换能元，敏感传爆药，受到外部环境的干扰时较易殉爆，武器装备系统的安全性与可靠性难以保障。
355nm激光作用下熔石英损伤增长
中 图分 类 号 ： ０ ３ ４７ 文献标志码 ： Ａ
熔石英 由于其优 异 的化 学稳 定性 及优 良的光学 性 能而广 泛应 用 于高功 率激 光 系统 中 。熔 石英 光学元 件 在
依 次辐 照各 初始 损伤 点 。初 始 损伤点 的面积 在脉 冲激 光辐 照下 开始 扩大 ， 每次 辐 照后采 集一 次 图像 ， 到损 伤 直
尺寸超 出 图像采集 范 围为 止 。然后 用 Ｍｉｓ 件测 量每 幅 图像 中损 伤 点 的 面积 并作 记 录 。对 于熔 石英 样 片前 ａ软
３ ５ห้องสมุดไป่ตู้ 激 光 作 用 下熔 石 英 损伤 增 长 ５ ｍ
尹 伟 ， 徐世珍 ， 祖小涛 ， 蒋晓东。 袁晓东 ， 吕海兵 ， 王成程 ， 郑万国 ，
（． 电子 科 技 大 学 应 用 物理 系 ，成 都 ６ ０ ５ ； ２ １ １０４ ．中 国工 程物 理 研 究 院 激 光 聚 变 研 究 中 心 ，四川 绵 阳 ６ １０ ） ２ ９ ０
部分 光束进 人 能量 卡计 ， 其余 的光 束 辐 照 在 样 片 上 。
损伤 增长 可通 过光 学 显 微镜 及 计 算 机进 行 在 线 观 察 与 图像采集 。光斑 近 场 采 用科 学 级 Ｃ Ｄ 进 行 测 量 ， Ｃ 然后 利用光 斑 分析软 件计 算其 有 效面积 。 本实验 采 用熔石 英样 片 ， 规格 为 ４ ０ｍｍ×４ ０ｍｍ ×５ｍｍ， 本文 规定 激 光 辐 照熔 石 英 样 片 的光 束 入 射 面为 前表 面 ， 出射 面 为 后 表 面 。首 先 用 Ｓｏ － —ｎ１的 方 法测量 了熔 石 英 样 片 后 表 面 的损 伤 阈值 ， 零 损 伤 其 阈值 为 ｌ ． ２Ｊ ｃ 。为 了得 到相 对 均 匀 的 初 始 损 ４ ２ ／ｍ。
用于355nm紫外光源的腔外倍频全固态激光器
光电 子
激光
2011 年 第 22 卷
2 实验装置
MOPA 主要包括两部分: 首先主振荡器产生具有高光束 质量的种子光源, 输出功率可大可小, 因而输出光较易做到所 需的时域、 频域特性和保持良好的光束质量; 然后经过一级或 多级功率放大器, 实现对种子光源的高功率放大。因此, MO PA 系统在保证输出光高光束质量的同时又实现了高功率、 高 能量输出, 即它结合了低功率种子源的良好脉冲、 良好光束质 [ 20] 量特性和功率放大器的高功率放大特性的优点 , 因此有利 于提高二次倍频激光的输出功率以及倍频效率。 图 1 给出了 MOPA 腔外倍频光路示意图, 其包括 1 个主 振荡器和两级放大器。主振荡器采用双棒串接热近非稳腔, 两 个完全一样的激光棒串接, 中间加 90 旋光片补偿热致双折射 效应, 声光 Q 开关对激光进行调制, M 1 、 M 2 为主振荡器的谐振 腔镜, M1 为 1 064 nm 全反镜, M 2 为透过率为 30% 的 1 064 nm 输出耦合镜。热近非稳腔是指考虑激光棒的热透镜效应, 通过 合理设计腔结构使得激光器工作在热稳定区域的边缘, 此时可 在激光介质位置处获得大的基模体积的谐振腔。热近非稳腔 充分利用了激光介质的自限模作用, 同时又可以使得激光二极 管( LD) 泵浦功率加到最大, 因而在保证激光输出功率的前提 下, 简单有效地提高了激光光束质量, 具有其独特的优点。两 个激光棒各采用 LD 阵列侧面泵浦结构, 每个激光棒用 9 个 LD 列阵从三围对称泵浦, 每个 LD 列阵最大输出功率为 20 W; Nd: YAG 晶体长为 64 mm, 直径为 3 mm, 掺杂浓度为 0. 6% ; 声 光 Q 开关中心频率为 27. 12 MH z, 重复频率 1~ 50 kHz 连续可 调。主振荡器输出 10 kH z 的准连续基频光, 通过 M 3 和 M 4 两 块 45 反射镜入射到放大器, 保证激光器总体尺寸小巧并方便 应用。两级放大器中, 每个激光棒用 30 个 LD 列阵, 分别从五 围对称侧面泵浦 Nd: YAG 圆棒, Nd: YAG 晶体直径为 4 mm, 长为 120 mm 和掺杂浓度为 0. 6% 。两级放大器中间, 同样加 90 旋光片补偿热致双折射效应。
SU-8胶光刻工艺解读
UV-LIGA编制单位: 编制人: 编制日期:华中科技大学MEMS中心徐智谋何少伟2004.10 工艺技术规范UV-LIGA 工艺规范一工艺路线及工艺流程 (3)1.1 工艺路线 (3)1.2 工艺流程 (3)1.2.1 SU-8胶光刻工艺 (3)1.2.2 Polydimethysiloxane(PDMS)浇铸成模 (4)1.2.3 PDMS表面金属化 (4)1.2.4 在PDMS样品上电铸微模具 (4)二试验平台 (5)三试验样品 (6)3.1 SU-8胶结构 (7)3.2 PDMS表面金属化 (8)一工艺路线及工艺流程1.1工艺路线微塑铸光刻1.2工艺流程1.2.1SU-8胶光刻工艺1) 对衬底进行清洗，并在200℃烘30分钟以上以去除表面水分子；2) 用厚胶甩胶工艺在基片表面旋涂所需要厚度的SU-8胶；3) 利用热板对SU-8胶进行前烘处理,在热板上缓慢冷却；4) 在Karl Suss MA6紫外光刻机上进行接触式曝光；5) 对曝光后的SU-8胶在热板上进行后烘热处理，得到交联的SU-8胶结构；注:由于交联的SU-8胶结构内应力很大,可以导致基底弯曲变形和胶的开裂.所以加热必须缓慢,冷却应在热板上随热板冷却到室温。
6) 超声显影，得到光刻胶图形。
7) 将SU-8胶微结构在150℃-200℃下在热板上进行固化.不同厚度SU8光刻工艺参数厚度[µm]光刻胶甩胶速率[rpm]前烘时间[min] 65℃95℃曝光时间[sec]后烘时间[min] 65℃95℃显影时间[min]固化时间[min]1.2.2Polydimethysiloxane(PDMS)浇铸成模1) 将衬底有SU-8光刻图形模具固定在真空热压机上，底部放上待模压的PDMS;2) 关闭模腔并抽真空,将图形压入PDMS,升温至120℃,保持60s;3) 降温至40℃, 让模腔充气,打开模腔，取出SU-8+PDMS样品,并从SU-8图形上脱下PDMS图形.1.2.3 PDMS表面金属化1) 清洗PDMS样品图形表面并做溅射前的处理；2) 将PDMS样品放入溅射机的真空腔并抽真空到合适的镀膜真空度; 3) 在PDMS 样品表面溅射100nm钛+300nm镍;4) 真空腔充气, 打开真空腔,取出表面金属化的PDMS样品.1.2.4在PDMS样品上电铸微模具1)将氨基磺酸镍作为主盐，PH值3.5-4,溶液温度升到40℃±2℃,循环过滤(小于0.4微米)以控制电铸槽的旋浮颗粒大小; 2)将PDMS样品放入电铸槽中;3)加1000HZ,占空比1:10,电流密度2A/cm2的脉冲电源; 4)根据不同的高度,电铸不同的时间;5)取出电铸后的PDMS样品,并将它烘干;6)在氧等离子体气氛下去除PDMS；7)在显微镜下对电铸的微结构进行检查,以确定最终的产品是否是成品.二试验平台光刻机：德国Karl Suss公司 MA6(见图)可进行正面和反面对准曝光,最小线宽：2µm，对准精度：1µm甩胶台：美国AIO MICROSERVICE公司(见图)4英寸厚胶甩胶台。
SU-8光刻胶制作三维光子晶体
第34卷第8期 光电工程V ol.34, No.8 2007年8月Opto-Electronic Engineering Aug, 2007文章编号：1003-501X(2007)08-0028-04SU-8光刻胶制作三维光子晶体张晓玉，高洪涛，周崇喜，刘强，邢廷文，姚汉民( 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室，四川成都 610209 )摘要：针对SU-8光刻胶应用于三维光子晶体的制作研究，本文提出并实现了对SU-8光刻胶的重要成分SU-8环氧树脂采用柱层析和高压液相色谱-尺寸排阻色谱法进行分离，分离结果表明SU-8环氧树脂分子量分布范围很大，从大约100~100000，包括SU-1、SU-2、SU-4、SU-6、SU-8多种组分及其混合物。
采用分离后的SU-8和SU-6纯组分配制了性能优化的SU-8光刻胶，并总结了其最佳光刻工艺，结合干涉光刻技术制作了晶格常数为922nm 的三维面心立方光子晶体结构。
关键词：SU-8光刻胶；三维光子晶体；柱层析；尺寸排阻色谱法中图分类号：TP305 文献标志码：AThree-dimension photonic crystals fabrication using SU-8 photoresistZHANG Xiao-yu，GAO Hong-tao，ZHOU Chong-xi，LIU Qiang，XING Ting-wen，YAO Han-min( State Key Laboratory of Optical Technologies for Microfabrication, the Institute of Optics and Electronics,the Chinese Academy of Sciences, Chengdu 610209, China )Abstract:In order to study SU-8 photoresist application to three-dimension photonic crystals fabrication, the separation of epon SU-8 was proposed and realized using column chromatography and size exclusion chromatography. The results indicate that the molecular weight distribution of epon SU-8 is from about 100 to 100000, and includes SU-1, SU-2, SU-4, SU-6, and SU-8 different component, and their mixture. According to the separation results, the optimal SU-8 photoresist was compounded using SU-6 and SU-8 pure component and the optimal lithography process was gotten. The three-dimension face-centered-cubic photonic crystals with crystal lattice constant 922nm were fabricated using interference lithography.Key words: SU-8 photoresist; 3-D photonic crystals; column chromatography; size exclusion chromatography引 言光子晶体的概念首先提出于1987年，由美国贝尔通讯研究中心的Yablonovitch[1]和普林斯顿大学物理系的John[2]分别独立地提出的。
355nm激光泵浦BN晶体受激拉曼散射实验的研究
研究报告科技创新导报 Science and Technology Innovation Herald231 绪论1.1 引言激光的出现使受激拉曼散射等非线性光学在理论研究和应用有了长足的发展。
20世纪80年代前，较为实用的拉曼介质主要为气体拉曼介质，例如H 2，C H 4等，气体中的受激拉曼散射在激光频移、脉冲压缩还有放大等方面得到广泛的应用。
在1963年晶体介质中受激拉曼散射的首次报道，G.E c k h a r dt等人在金刚石、方解石等晶体中发现了受激拉曼散射效应。
之后近20年，天然方解石晶体由于具有较大的尺寸和较低价格成为了唯一实用的固体拉曼介质。
1977年，C.P.D z h o t y a n 等人以L iIO 3和H IO 3晶体作为非线性介质研究参量振荡时发现了在这些晶体中同时存在着受激拉曼散射效应。
1980年，E r e m e n k o 等人获得了B a(N O 3)2晶体在可见光区域的拉曼激光。
之后相继出现多种拉曼散射增益系数大并且价格适中的人工晶体，例如B a W O 4，K G d (W O 4)2及Y V O 4等晶体，晶体的受激拉曼散射研究开始受到关注。
1.2 受激拉曼散射效应受激拉曼散射与自发拉曼散射相比,具有方向性好、光强度极高、高单色性、光脉冲时间短等特点。
从受激拉曼散射的以上主要特点可以看出，受激拉曼散射光和激光具有相同的特性，因此往往把受激拉曼散射叫做拉曼激光。
受激拉曼散射既属于光受激辐射的一种形式，同时也属于非线性光谱学的一个方面。
实验表明，受激拉曼散射光谱具有特殊的光谱规律，具体表现如下。
(1)多重谱线特性。
在受激拉曼散射的光谱中，除出现一些和普通拉曼散射光谱的频移相同的谱线外，还有一些频率间隔相等的高阶拉曼散射谱线。
(2)受激拉曼散射的谱线往往和普通拉曼散射谱线中最强谱线的位置相同。
这可以从最强谱线具有较大的拉曼散射截面来解释，当最强线受激时，其他的弱线就很难受激，拉曼介质中的杂质也很难产生受激拉曼散射。
355nm产生的原理
355nm激光的基本原理激光的基本原理激光是一种特殊的光，与普通光相比，激光具有高度的单色性、方向性和相干性。
激光的产生是通过三个基本过程：激发、放大和反馈。
1.激发（Excitation）：激发是指通过能量输入将物质中的电子从基态激发到激发态，使其能够吸收外界的能量。
2.放大（Amplification）：放大是指通过激发态电子的非辐射跃迁和辐射跃迁来释放能量，产生更多的光子，使光的能量得到增强。
3.反馈（Feedback）：反馈是指将一部分光传回到放大介质中，激发更多的电子跃迁，形成正反馈，使光得到进一步放大。
355nm激光的产生原理355nm激光是一种紫外激光，其波长为355纳米（nm），属于可见光的紫外区域。
355nm激光的产生主要依靠频率三倍的倍频技术。
355nm激光的产生过程可分为以下几个步骤：1.激发：首先，通过能量输入的方式，激发Nd:YAG（钇铝石榴石）固体激光器中的Nd离子从基态到激发态。
这通常使用激光二极管或其他激光器来实现。
2.放大：激发态的Nd离子经过非辐射跃迁和辐射跃迁，释放出能量，形成1064nm的红外激光。
这个红外激光经过放大器的作用，得到进一步增强。
3.倍频：接下来，通过将1064nm的红外激光经过倍频晶体的作用，将其频率提高三倍，从而得到355nm的紫外激光。
倍频晶体通常使用BBO（β-硼酸钡）晶体或者KDP（硫酸二氢钾）晶体。
4.反馈：为了形成激光输出，一部分355nm的紫外激光被反射回Nd:YAG激光器内，形成正反馈，进一步放大光的强度。
5.输出：最后，通过透过输出窗口的355nm激光被输出出来，用于实际应用。
需要注意的是，以上只是355nm激光产生的基本原理，实际的355nm激光器还需要包括其他的光学元件和控制系统来实现稳定的激光输出。
355nm激光的应用355nm激光由于其特殊的波长和性质，在许多领域都有广泛的应用。
1.生物医学：355nm激光可以用于生物医学领域的细胞成像、荧光显微镜、蛋白质分析等方面。
355nm激光及其三倍频118nm相干控制丙酮分子和碘代甲烷分子电离解离过程
355nm 激光及其三倍频118nm 相干控制丙酮分子和碘代甲烷分子电离解离过程胡飞飞，胡湛，金明星，刘航，丁大军吉林大学原子与分子物理研究所，长春（130012）E-mail ：dajund@摘 要：本文首先对Xe/Ar 混合气体中Xe/Ar 配比对355nm 激光的三倍频产生效率的影响进行了考察。
然后使用355nm 及其三倍频118nm 激光共同作用于碘代甲烷和丙酮分子体系，实现了对碘代甲烷分子电离解离碎片中的甲基离子和丙酮分子电离解离碎片中的甲基离子和氢离子的产额的相干调制控制。
关键词：相干控制，分子反应，丙酮，碘代甲烷1． 前言分子体系在受到激发后往往会发生不止一种的反应过程。
实际情况往往是这些过程的多种组合，产生的反应产物也是多种多样的。
在许多情况下我们往往只对其中一种反应产物感兴趣，因此寻找控制反应产物的方法一直是化学研究的核心之一。
通过对分子反应的控制，可以增加所需产物而减少或消除不需要的产物。
激光控制分子反应可以分为以下几类：选模控制、相干控制、超快双光束延迟控制和超快脉冲调制控制。
以色列科学家P. Brumer 和M. Shapiro 于1986年首次在理论上提出位相相干控制理论[1]。
相干控制的原理与杨氏双缝干涉实验的原理类似，这里使用不同位相的两个相干的激光光源来激发分子系统，选择两个激光光源的频率以使得被激发后的分子系统吸收个频率为的光子或者个频率为的光子而到达相同的终态。
即，所产生的分子体系激发态波包是两束激光分别作用于体系时所产生的波包的叠加，所以通过控制两束激光的位相差就可以控制分子体系的反应过程。
实验上常用基频三光子和其三倍频单光子来实现。
这时，获得产物的几率由下式给出m n ωn m ωSφΔ++=cos 21331S S S S P P P P 其中，为三光子跃迁几率，为单光子跃迁几率，是相干项的强度[2]。
S P 1S P 3S P 13φΔ是位相差31313φφφδΔ=−+3φ和1φ是两束激光的位相，是分子位相。
SU-8胶深紫外光刻模拟的开题报告
SU-8胶深紫外光刻模拟的开题报告
题目：SU-8胶深紫外光刻模拟
1. 研究背景
SU-8是一种常用的光刻胶，具有很高的深度和分辨率，被广泛应用于微型加工领域。
其中，SU-8 2000系列是一种高性能的胶材料，具有优异的耐高温、化学稳定性和模刻能力，广泛应用于微机电系统（MEMS）等领域。
在SU-8的加工过程中，深紫外光刻是一种常用的加工方法，它可以提高SU-8的加工深度和分辨率。
然而，深紫外光刻通常需要昂贵的设备和高昂的成本，因此对于一些研究者来说是不可承受的。
在这种情况下，对SU-8深紫外光刻的模拟研究就显得尤为重要。
2. 研究目的
本文旨在通过有限元分析方法，对SU-8胶在深紫外光刻中的加工过程进行模拟研究，探究不同光刻参数（如曝光剂量、开发时间等）对于SU-8加工深度和分辨率的影响规律，从而为实际加工提供参考。
3. 研究内容
（1）建立SU-8深紫外光刻模拟模型，包括材料力学参数、光学参数等；
（2）对不同的光刻参数进行模拟，如曝光剂量、光源功率、曝光时间、预热时间、开发时间等；
（3）通过模拟得到SU-8薄膜的加工深度和分辨率，并进行对比分析。
4. 研究方法
本文采用有限元方法进行SU-8深紫外光刻模拟。
首先，建立SU-8材料的本构关系和材料参数；然后，将SU-8薄膜放置在光刻设备中，通过建立光刻模拟模型，使得光学参数和材料参数相结合，计算出SU-8薄膜在光刻过程中的加工深度和分辨率。
5. 研究意义
本文将有助于研究者对SU-8深紫外光刻加工的理解和掌握，为MEMS、微流控等领域的实际加工提供指导和参考。
同时，本文的研究方法和结果也为其他光刻胶材料的模拟研究提供了启示和借鉴。
高效高峰值功率全固态355nm紫外激光器
高效高峰值功率全固态355nm紫外激光器李玉文;李斌;王靖田;魏艳玲;曹思维【摘要】为了获得结构紧凑的瓦级实用化高峰值全固态355nm紫外激光器,采用简单紧凑的平平直腔结构,使用声光Q开关进行调制,通过LD端面抽运Nd∶ YAG 激光晶体,在重复频率1kHz～50kHz的情况下,产生平均功率1.03W～6.1W的1064nm红外光;采用LBO晶体进行2倍频和3倍频,在重复频率10kHz时得到紫外的最高输出功率1.08W,峰值12kW;在重复频率5kHz时得到紫外的最高峰值功率为17kW.结果表明,该方案满足了实际的应用需求.【期刊名称】《激光技术》【年(卷),期】2010(034)002【总页数】4页(P265-267,271)【关键词】激光技术;全固态;紫外激光器;高峰值功率【作者】李玉文;李斌;王靖田;魏艳玲;曹思维【作者单位】吉林工程技术师范学院,基础科学系,长春,130022;中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,长春,130033;长春理工大学,理学院,长春,130022;吉林工程技术师范学院,基础科学系,长春,130022;长春理工大学,理学院,长春,130022【正文语种】中文【中图分类】TN248.1引言LD抽运全固态激光器从20世纪80年代以来获得长足的进步，紫外激光器因其在荧光检测、精细加工、光刻等方面的应用[1]，一直以来就是人们研究的热点。
从微光刻到打标和打印，紫外激光器的应用是目前工业激光市场增长最快的部分，由于紫外较短的波长能够加工更小的部件。
光束的衍射现象是限制加工部件最小尺寸的主要因素，最小可达到的聚焦点的直径随着波长的增加而线性增加。
高能量的光子可以直接破坏材料的化学键。
紫外光加工材料的过程称为光蚀效应，高能量的光子直接破坏材料的化学键是“冷”处理过程，热影响区域微乎其微；相比之下，可见光和红外激光器利用聚焦到加工部位的热量来熔化材料，热量经过传导会影响到周围的材料，产生热影响区域。
全聚合物SU8光波导制备工艺及其特性研究
全聚合物SU8光波导制备工艺及其特性研究
孔光明;鄂书林;邓文渊;赵虎旦;郭洪波
【期刊名称】《半导体光电》
【年(卷),期】2008(29)5
【摘要】对一种全聚合物SU8光波导的制备工艺和波导特性进行了研究。
测试结果显示,所制备光波导在1550 nm的传输损耗为2.01 dB/cm,且具有高的侧壁陡直度。
详细研究了光波导制备工艺过程中前烘温度和时间、光刻时间、后烘温度和时间以及显影时间等工艺参数对波导质量的影响,给出了4.5μm×4.0μm尺寸单模波导制备的优化工艺。
讨论了采用稀释后的SU8材料所制备的光波导出现侧蚀的原因以及改进的方法。
【总页数】4页(P662-665)
【关键词】聚合物;SU8光波导;光刻;工艺参数
【作者】孔光明;鄂书林;邓文渊;赵虎旦;郭洪波
【作者单位】中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室,吉林长春130033;中国科学院研究生院,北京100049
【正文语种】中文
【中图分类】TN252
【相关文献】
1.全息光聚合法制备聚合物波导光栅耦合器 [J], 王勇;王玉荣;李萍;王培吉;王永瑛
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3.主客体掺杂的偶氮类聚合物薄膜的制备和全光极化特性 [J], 谭静;李爱东;刘文超;范希智;王慧田;吴迪;闵乃本
4.用于光波导的高性能聚合物薄膜制备工艺研究 [J], 韩晓星;朱大庆;宁娜;金曦
5.棱镜-波导耦合实现聚合物波导的全光调制 [J], 潘丹丹;陈玉萍;吴锐;陈险峰;孟庆华;余捷峰
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SU-8的紫外深度光刻模拟
SU-8的紫外深度光刻模拟
田学红;刘刚;田扬超;张新夷
【期刊名称】《真空科学与技术》
【年(卷),期】2002(22)6
【摘要】在微电子机械系统 (MEMS)中 ,大高宽比微结构被广泛应用。
由于紫外光衍射效应比较大 ,通过紫外光刻获得高精度的大高度微结构并不容易。
本文主要研究了衍射效应对深紫外光刻精度的影响 ,并与实验结果进行了比较 ,理论模拟结果和实验比较吻合。
因此 ,通过模拟结果得到不同厚度光刻胶的最佳曝光剂量。
【总页数】4页(P417-420)
【关键词】SU-8;非涅耳衍射;紫外光刻;MEMS;光刻胶;光刻精度
【作者】田学红;刘刚;田扬超;张新夷
【作者单位】中国科学技术大学国家同步辐射实验室;复旦大学同步辐射研究中心【正文语种】中文
【中图分类】TN305.7
【相关文献】
1.SU-8胶紫外光刻的尺寸精度研究 [J], 杜立群;秦江;刘冲;朱神渺;李园园
2.SU-8紫外深度光刻的误差及修正 [J], 郑津津;陈有梅;周洪军;田杨超;刘刚;李晓光;沈连婠
3.深度紫外光刻图形精度模拟研究 [J], 田扬超
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5.SU-8光刻胶玻璃化转变温度及力学性能的分子动力学模拟 [J], 尚海鑫;褚金奎;高佳丽
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355nm激光器
1 绪论自1960 年第一台红宝石激光器问世以来，激光器技术得到了迅速发展，而其中固体激光器以其独有的效率高、体积小、寿命长、运转稳定、维护方便等优点成为激光技术中最具有发展前途的研究领域之一。
八十年代中后期，随着激光二极管的问世，LD 泵浦全固态激光器(Diode Pumped Solid-state Laser 或DPSSL)技术得到了极大的发展，特别是全固态绿光、紫外激光器的研究更是吸引了众多的科研工作者，一些性能优良的全固态激光器已走出实验室，以适中的价格和优良的性能进入激光器的市场。
世界上第一台激光器诞生于1960年，我国于1961年研制出第一台激光器，40多年来，由于激光具有单色性好，方向性强，相干性好及亮度高等优异性能，激光技术与应用发展迅猛。
全固态激光器因体积小、结构紧凑、运转可靠、维护方便等一系列优点，一直吸引着无数的激光工作者们。
在本章中对全固态激光器的发展现状、应用状况及355nm全固态紫外激光器国内外研究现状、泵浦方式作出了较全面地总结。
1.1激光器的发展与现状激光器根据工作物质的不同主要可分为气体和固体两大类激光器。
气体激光器是以蒸汽或气体作为工作物质产生激光；固体激光器是由玻璃或光学透明的晶体作为基质材料，掺与激活物质或激活离子产生激光。
在固体激光器以前气体激光器一直都是激光器的唯一来源。
气体激光器可分为准分子激光器、离子激光器和氦-镉激光器三大类。
这三类气体激光器的应用方式各有不同，准分子激光器主要以脉冲放式应用；氦-镉激光器和离子激光器主要以连续方式的应用。
气体激光器主要以准分子激光器为主。
它是一种以准分子为工作物质的一种气体激光器。
通常用横向快速脉冲放电或相对论中电子束能量大于200千电子伏特来实现激励的。
当受激发态准分子中不稳定分子键断裂而离解成为基态原子时，受激发态的能量以激光辐射形式放出。
主要可用于同位素分离、激光光谱学、光通信、生物学等领域。
离子激光器是一种以离子为工作物质的气体激光器。
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３ ５ｍ激光曝光 Ｓ ５ｎ Ｕ一８胶 的 ＸＰ Ｓ谱 和 Ｆ Ｔ—Ｉ 谱 研 究 Ｒ
宋海 ， 英 刘世炳
（ 北京工业大学 ， 激光工程研究院微技术实验室 ， 北京 １０ ２ ） ０ ０ ２
摘
要 ：Ｕ一８光胶 因具有 良好 的光 刻性能 ， 可获得 稳定 的高 深宽 比而在 微加 工领 域得 到 了广泛 的应 Ｓ 并
ａ ｈｅｐｅ ｔ ａ ｉ ｇ ｄ ｐｔ ｎｄ ｔ ｎｅ ｒ ｔｎ ｅ ｈ． Ｋｅ ｗｏ ｄｓ ｙ ｒ ：Ｍ ＥＭ Ｓ；Ｓ 一 ８ ｐ ｏ ｏ ｅ ｉｔ Ｕ ｈ ｔ ｒ ｓｓ ；ＸＰＳ ｐｅ ｔ ｕ ；ＦＴ — Ｉ ｓ ｅ ｔｕ ｓ ｃｒ ｍ Ｒ ｐ ｃ ｒ ｍ
引言
面 ， 技 术 已经成 熟 ， 微 细 加 工方 面具 有 其 独 该 在 到 的优势 ； 另一 方 面 ， 能进 行 大规 模 的加 工生 产 ，
用。众 多研究采用不 同的光源 对其 进行了多种 光刻研究 ， 文应用 ３ ５ ｍ 激光对 Ｓ 本 ５ｎ Ｕ一８胶 进行 曝光 ， 分
别 采用 Ｘ Ｓ谱 和 Ｆ Ｐ Ｔ—Ｉ Ｒ谱分析 了 Ｓ Ｕ一８胶与激光相互作用过程 中 ，５ ｎ ３ ５ ｍ激光 对 Ｓ Ｕ一８ 的作用 以及 胶
反应前 后主要成分含 量、 分子结构 的变化 ， 初步探讨 了 Ｓ Ｕ一８ 中激光曝光能量与透入深度 的关 系。 胶
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第 １ ９卷
第 ４期
光
散
射
学
报
Ｖ０ ． ９ Ｎｏ． １１ ４
Ｄｅ ．２ ０Βιβλιοθήκη ｃ ０７２０ ０ ７年 ｌ ２月
ＴＨＥ ＯＵＲＮＡｌ Ｊ ＯＦ ＧＨＴ Ｓ ＬＩ ＣＡＴＴＥＲＩ ＮＧ
文章 编 号 ：０ ４５ ２ （０ ７ ０ —３ ３０ １ ０ —９９ ２０ ）４０ ６ —６
关 键 词 ： ＭＳ Ｓ ＭＥ ； Ｕ一８光胶 ； Ｐ Ｘ Ｓ谱 ； —Ｉ ＦＦ Ｒ谱 中 图 法 分 类 号 ： ０ ． ＴＮ ３ ５ ７ 文献标识码 ： Ａ
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