石墨片作辅助热沉的高功率半导体激光器热传导特性
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第40卷㊀第7期2019年7月
发㊀光㊀学㊀报
CHINESEJOURNALOFLUMINESCENCE
Vol 40No 7
Julyꎬ2019
文章编号:1000 ̄7032(2019)07 ̄0907 ̄08
石墨片作辅助热沉的高功率半导体激光器热传导特性房俊宇ꎬ石琳琳∗ꎬ张㊀贺ꎬ杨智焜ꎬ徐英添ꎬ徐㊀莉ꎬ马晓辉
(长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室ꎬ吉林长春㊀130022)
摘要:为使边发射高功率单管半导体激光器有源区温度降低ꎬ增加封装结构的散热性能ꎬ降低器件封装成本ꎬ提出一种采用高热导率的石墨片作为辅助热沉的高功率半导体激光器封装结构ꎮ利用有限元分析研究了采用石墨片作辅助热沉后ꎬ封装器件的工作热阻更低ꎬ散热效果更好ꎮ研究分析过渡热沉铜钨合金与辅助热沉石墨的宽度尺寸变化对半导体激光器有源区温度的影响ꎮ新型封装结构与使用铜钨合金作为过渡热沉的传统结构相比ꎬ有源区结温降低4.5Kꎬ热阻降低0.45K/Wꎮ通过计算可知ꎬ激光器的最大输出功率为20.6Wꎮ在研究结果的指导下ꎬ确定铜钨合金与石墨的结构尺寸ꎬ以达到最好的散热效果ꎮ
关㊀键㊀词:半导体激光器ꎻ散热性能ꎻ石墨辅助热沉ꎻ有限元分析ꎻ封装结构
中图分类号:TN248㊀㊀㊀文献标识码:A㊀㊀㊀DOI:10.3788/fgxb20194007.0907
HeatTransferCharacteristicsofHighPowerSemiconductor
LaserwithGraphiteSheetasAuxiliaryHeatSink
FANGJun ̄yuꎬSHILin ̄lin∗ꎬZHANGHeꎬYANGZhi ̄kunꎬXUYing ̄tianꎬXULiꎬMAXiao ̄hui(NationalKeyLaboratoryonHighPowerSemiconductorLaserꎬChangchunUniversityofScienceandTechnologyꎬChangchun130022ꎬChina)
∗CorrespondingAuthorꎬE ̄mail:linlinshi88@foxmail.com
Abstract:Inordertoreducethetemperatureoftheactiveregionofthehigh ̄powersingle ̄tubesemi ̄conductorlaserꎬincreasetheheatdissipationperformanceofthepackagestructureꎬandreducethecostofthedevicepackageꎬahigh ̄powersemiconductorlaserpackagestructureusingahighthermalconductivitygraphitesheetasanauxiliaryheatsinkisproposed.Usingfiniteelementanalysisꎬtheuseofgraphitesheetsasauxiliaryheatsinkshasbeenstudiedꎬandthepackageddeviceshavelowerthermalresistanceandbetterheatdissipation.Theeffectofthevariationofthewidthdimensionofthetransitionheatsinkcopper ̄tungstenalloyandtheauxiliaryheatsinkgraphiteontheactiveregiontemperatureofthesemiconductorlaserwasinvestigated.Comparedwiththetraditionalstructureusingcopper ̄tungstenalloyasthetransitionheatsinkꎬthenewpackagestructurehasajunctiontemperatureof4.5Kandathermalresistanceof0.45K/W.Accordingtothecalculationꎬthemax ̄imumoutputpowerofthelaseris20.6W.Undertheguidanceoftheresearchresultsꎬthestructuraldimensionsofcopper ̄tungstenalloyandgraphitecanbedeterminedtoachievethebestheatdissipa ̄tioneffect.
Keywords:highpowdersemiconductorlaserꎻheatdissipationꎻgraphiteheatsinkꎻfiniteelementanalysisꎻpackagestructure
㊀㊀收稿日期:2018 ̄09 ̄18ꎻ修订日期:2018 ̄12 ̄03
㊀㊀基金项目:国家自然科学基金(61804013)ꎻ吉林省优秀青年科学基金(20180520194JH)资助项目
SupportedbyNationalNaturalScienceFoundationofChina(61804013)ꎻExcellentYouthFoundationofJilinProvince
(20180520194JH)
908㊀发㊀㊀光㊀㊀学㊀㊀报第40卷
1㊀引㊀㊀言
半导体激光器具有体积小㊁重量轻㊁光电转换效率高㊁可靠性高等优点ꎬ在医学㊁军事㊁工业等领域有着广泛的应用[1 ̄3]ꎮ随着科学技术的发展ꎬ人们对半导体激光器的输出功率需求越来越高ꎮ激光器工作时有源区温度升高ꎬ造成激光器波长红移ꎬ阈值电流增大ꎬ光电转换效率下降ꎬ寿命降低等ꎬ严重时会使激光器彻底损坏[4 ̄5]ꎮ因此ꎬ热管理技术是高功率半导体激光器发展的一个重要环节ꎮ通过研究高功率半导体激光器热传导特性来提高其热管理技术㊁增加封装结构散热性㊁提高半导体激光器的输出功率具有重要意义ꎮ
提高器件散热途径的方法主要有两种:一是采用散热性能更好的散热结构ꎻ二是研发出热导率更高的散热材料ꎮ为使高热导率的材料能与管芯热膨胀系数相匹配ꎬ通常使用与激光器芯片热膨胀系数相差较小的过渡热沉来提高材料间的匹配度ꎬ以减小硬焊料对芯片产生的残余应力ꎬ提高器件的可靠性[6]ꎮ常见过渡热沉有氮化铝㊁碳化硅等陶瓷材料和钨铜合金㊁铜钼合金等金属合金材料[7 ̄11]ꎮ目前ꎬ国内外所研究的导热性能良好的过渡热沉材料普遍价格昂贵ꎬ且不能突破兼顾热膨胀系数匹配和热导率较高这一瓶颈ꎬ因而在过渡热沉材料的选择与设计方面还有很大的提升空间ꎬ因此需要对热沉材料与结构进行优化设计ꎮ
近年来ꎬ石墨因具有优异的机械㊁光学㊁电子和热性能引起了国内外科研工作者的极大关注ꎮ石墨作为一种超高导热材料ꎬ体积小㊁重量轻ꎬ是电子和光子器件热管理的理想材料ꎬ目前在电子器件中已经有了广泛的应用ꎮOno等提出使用石墨片作为一种被动部署的散热器ꎬ该散热器可以通过根据温度改变其散热面来控制散热量ꎬ被用作小型卫星上的新型热控装置[12]ꎮWen等使用商业石墨片用作燃料电池的散热器ꎬ石墨片切割成流通形状与通道板结合使热量通过石墨片向外传导ꎬ有效降低燃料电池的反应区域的温度[13]ꎮ研究表明石墨具有超高导热性ꎬ最高可达1000W/(m K)ꎬ比一般金属导热材料高约3倍ꎬ但是由于石墨导热率的各向异性特征ꎬ横向热传导率较高而纵向热传导率较低以及石墨的热膨胀系数与半导体激光器材料GaAs不匹配等难题ꎬ使得石墨在半导体激光器封装结构的应用方面很少有人研究[14]ꎮ因此ꎬ如何将这种超高热导率石墨应用在半导体激光器封装结构中具有较高的研究价值ꎬ利用其较高的横向导热性ꎬ增大水平方向热通量传导效率ꎬ从而达到减少半导体激光器有源区温度㊁增大半导体激光器输出功率的目的ꎬ成为本文的研究重点[15]ꎮ
本文在传统封装结构的基础上ꎬ通过在过渡热沉两侧引入石墨片作为该结构的辅助热沉ꎬ依据C ̄Mount封装方式热传导路径ꎬ充分利用石墨极高的横向热导率以达到更好的降低结温的目的ꎮ同时石墨片通过过渡热沉铜钨合金传导芯片所产生的热量ꎬ解决了石墨片与半导体激光器热膨胀系数不匹配的问题ꎮ利用有限元分析软件ANSYS建立模型ꎬ选用热导率较高的导电材料铜钨合金(WCu)作为过渡热沉ꎮ通过模拟结果可以发现ꎬ在减少过渡热沉WCu长度和宽度尺寸的情况下ꎬ可以更好地减少封装结构的热阻ꎬ降低半导体激光器结温ꎬ达到了降低器件热阻的目的ꎬ从而提高半导体激光器的输出功率ꎮ
2㊀建立模型
对传统边发射单管半导体激光器封装结构建立模型ꎬ其中在理论模拟过程中做出如下设定[16 ̄18]:在半导体激光器正常工作过程中ꎬ所产生的热量主要来源于有源区中载流子复合㊁吸收和自发发射ꎻ由于半导体激光器体积较小ꎬ因此忽略激光器的辐射散热及与空气对流散热ꎻ由于C ̄Mount封装结构的后表面固定在其他制冷结构上ꎬ所以模拟过程中ꎬ在其结构的后平面设置固定温度298Kꎬ并且半导体激光器芯片采用倒装式封装ꎮ该C ̄Mount铜热沉尺寸为6.86mmˑ6.35mmˑ2.18mmꎬ由于该半导体激光器封装方式采用C ̄Mount封装ꎬ其导热路径如图1所示[19]ꎮ
Cooler
Heatsink
Chip
图1㊀C ̄Mount封装导热路径示意图
Fig.1㊀ThermalconductionpathinC ̄Mountpackage
㊀第7期房俊宇ꎬ等:石墨片作辅助热沉的高功率半导体激光器热传导特性909
㊀模拟计算中所使用的半导体激光器光电参数为:波长808nmꎬ电光转换效率50%ꎬ连续条件下输出功率10Wꎬ激光器芯片尺寸为1.5mmˑ
0.5mmˑ0.15mmꎬ发光区宽度100μmꎮWCu热沉尺寸为3.35mmˑ2.18mmˑ0.5mmꎮ为满足与激光器芯片热膨胀系数匹配的要求和此后过渡热沉的尺寸设计要求ꎬ选用与铜热膨胀系数匹配的电导率较好的WCu材料作为过渡热沉ꎮ为阻挡焊料向下扩散ꎬ便于引线键合ꎬ在过渡热沉铜钨合金的上下表面分别镀有金属层ꎮ
模拟分析所涉及的材料参数如表1所示ꎮ
表1㊀材料参数
Tab.1㊀Materialparameters
Material
Thermalconductivity/(W m-1 K-1)
Thickness/
μm
Coefficientofthermalexpansion/
(10-6K)
GaAs
55
150
6.4MetallizationlayerCu3980.3
18
Tungstencopper
2100.5ˑ1034.5graphite1000㊁350.5ˑ103
2copperheatsink
3986.86ˑ10318在半导体激光器工作过程中ꎬ所产生的热量主要来自以下方面[20 ̄21]:
(1)激光器有源区在正常工作状态下有很高
的载流子密度和光子密度ꎬ部分电子与空穴非辐射复合㊁辐射吸收与自发辐射吸收ꎬ其产生的热量Q1为:
Q1=
V
dact{jth
(1-ηspfsp)+(j-jth)ˑ[1-ηex-(1-ηi)fspηsp]}ꎬ(1)
其中ꎬV为PN结上的结电压ꎬηsp为自发辐射内量子效率ꎬfsp为自发辐射光子逃逸因子ꎬdact为有源区厚度ꎬj为电流密度ꎬjth为阈值电流密度ꎬηex为外微分量子效率ꎬηi为受激辐射内量子效率ꎮ(2)当半导体激光器工作时ꎬ由于各层材料
电阻引起的焦耳热ꎬ计算公式为:
Q2=j2
ρ+ρj2
dc
ꎬ
(2)
其中ꎬQ2为焦耳热功率密度ꎬρ为各材料层的电阻率ꎬdc为欧姆接触层厚度ꎮ
(3)盖层以及衬底材料对有源区自发辐射逃
逸光子的吸收所产生的热量为:
Q3=
V
2dijthηsp
fꎬ(3)
其中ꎬdi为除有源区外各层材料的厚度ꎮ
激光器在正常工作状态下ꎬ热传导方程为:
K∂2T∂x2+∂2T∂y2+∂2T∂z
2()
+Q=0ꎬ(4)
其中ꎬT为激光器有源区温度ꎬK为材料热传导系数ꎬQ为半导体激光器热功率密度ꎮ
3㊀模拟结果与分析
3.1㊀WCu热沉宽度的变化对芯片结温的影响
金属铜与芯片材料GaAs的热膨胀系数差距较大ꎬ为减少封装过程中所带来的封装应力ꎬ采用与GaAs的热膨胀系数相近的WCu材料作为过渡热沉ꎬ同时由于WCu材料具有很好的导电性ꎬ便
于正电极连接ꎮ利用有限元分析法探讨在传统封装结构中ꎬWCu热沉宽度的变化对芯片结温的影响ꎬWCu热沉的长度与厚度分别为2.18mm和0.5mmꎬWCu宽度由3.35mm减少到0.6mm时ꎬ半导体激光器有源区温度变化如图2所示ꎮ
半导体激光器有源区温度为Tjꎬ热沉的最低温度为
T0ꎬ热功率为Ptemꎬ根据激光器热阻Rth的表达式:
354W/mm
T/K
0.5 3.5
350352348346344342340338
1.01.52.02.53.0T
图2㊀半导体激光器有源区温度与铜钨合金宽度W变化
曲线
Fig.2㊀Variationcurveofactiveregiontemperatureandtung ̄
stencopper(CuW)widthWvalueofsemiconductor
laser㊀
910㊀发㊀㊀光㊀㊀学㊀㊀报第40卷
Rth=Tj-T0
Ptemꎬ(5)从图2中可以看出ꎬ当WCu热沉宽度尺寸从3.35mm减少到0.6mm时ꎬ结温从339.4K增加为352.2Kꎬ热阻从4.14K/W增加到5.42K/Wꎮ其原因是热沉宽度的减小影响了热流的横向散热ꎬ降低了器件散热能力ꎮ因此ꎬ提高半导体激光器的横向导热性能是改善激光器散热能力的重要瓶颈ꎮ
3.2㊀石墨片作辅助热沉热模拟
3.2.1㊀石墨片导热性能
在固体材料中ꎬ热传导方式主要分为两种ꎮ一种是通过自由电子振动实现ꎬ如金属材料ꎮ另一种由晶体内晶格原子的振动波即声子振动实现ꎬ如石墨[22]ꎮ在石墨的网状结构中ꎬ声子振动的热振幅很大ꎬ致使石墨具有高的晶面导热系数ꎬ可达1000W/(m K)以上[23]ꎻ但在垂直网状结构的方向ꎬ由于声子振动的热振幅很小ꎬ在该方向的热导率仅有35W/(m K)ꎮ因此ꎬ石墨片是一种各向导热异性的导热材料ꎬ横向导热率明显优于纵向导热率ꎬ且明显高于常用的金属热沉热导率ꎬ所以在封装领域中有着极高的研究价值ꎮ
3.2.2㊀新型封装结构
使用石墨片作辅助热沉的新型封装结构示意图如图3所示ꎮ在传统封装结构中ꎬWCu热沉两边分别使用石墨作为辅助热沉ꎬ石墨首先通过化学镀铜法或电镀铜法使石墨表面金属化ꎬ使石墨表面具有金属的性质ꎬ从而实现石墨分别与铜热沉㊁WCu过渡热沉接触面的焊接工艺[24 ̄26]ꎮ表面金属化后的石墨与WCu接触部分使用焊料焊接ꎬ使得二者在工作过程中紧密接触ꎮ石墨长度和厚度分别为2.18mm和0.5mmꎬ在石墨辅助热沉㊁WCu热沉以及C ̄Mount铜热沉的后表面设置固定温度为298Kꎮ图3(b)所示为由芯片所产生的热量通过过渡热沉分别向后表面冷却面㊁铜热沉以及石墨片辅助热沉传导散热ꎬ使半导体激光器有源区的温度降低ꎮ
铜石墨芯片铜钨合金
(a)(b)
图3㊀(a)石墨片作辅助热沉的新型封装结构示意图ꎻ(b)石墨局部热传递示意图ꎮ
Fig.3㊀(a)Schematicdiagramofnewpackagingstructureofgraphitesheetasauxiliaryheatsink.(b)Schematicdiagramoflo ̄calheattransferingraphite.
增加石墨片平行于半导体激光器芯片端面方向的尺寸ꎬ同时减少铜钨合金的宽度(W)ꎬ保证二者宽度尺寸总和为3.35mmꎮ当WCu尺寸分别由2.0mm变化到0.6mm时ꎬ计算各个参数下的芯片结温ꎮ如图4所示ꎬ通过不同尺寸下的激光器温度分布云图可以看出ꎬWCu宽度从2.0mm减小到0.6mm时ꎬ结温逐渐下降ꎬ分别从338.9
K减小到334.9Kꎬ热阻Rth也逐渐降低ꎬ从4.09K/W变化为3.69K/Wꎮ随着WCu尺寸的减小ꎬ更多热量传导到石墨片上ꎬ散热效果明显提高ꎬ当铜钨合金热沉的宽度为0.6mm时ꎬ半导体激光器有源区温度达到最小ꎮ
为进一步分析横向热传导性能ꎬ对传统封装结构和石墨片作辅助热沉的封装结构的端面方向热流矢量进行模拟分析ꎬ如图5所示ꎮ其中图
5(a)㊁(b)分别为W=0.6mm和W=3.35mm的传统封装结构ꎬ图5(c)㊁(d)分别为W=0.6mm和W=2.0mm的石墨片作辅助热沉的封装结构的热流矢量图ꎮ从图5(a)㊁(b)中可以看出ꎬ传统封装结构有源区热量仅向下通过过渡热沉WCu和铜热沉进行散热ꎬ当WCu热沉尺寸增大(图5(b))ꎬ封装结构热阻与结温温度有所降低ꎮ图5(c)㊁(d)为采用石墨片作辅助热沉的封装结构的热流矢量图ꎬ从图中可以看出ꎬ有源区热量首先扩散到WCu热沉中ꎬ由于石墨片具有较高的横向热导率ꎬ致使扩散到WCu的热量首先通过石墨
㊀第7期
房俊宇ꎬ等:石墨片作辅助热沉的高功率半导体激光器热传导特性
911
㊀0.8mm 1.0mm (a )298
307.0302.5
311.6316.1325.2320.7329.8334.3
338.92.0mm
(b )298
324.8315.8306.9302.4
311.4320.3329.3338.2333.7
1.5mm
(c )298
311.11.2mm
319.9328.7337.5333.1
324.3315.5306.7302.3
(d )298
(e )(f )298330.8314.4336.9328.2332.6
323.9319.6
315.3310.9
306.6302.3336.0327.5331.8
323.3319.1314.9310.6306.4298
302.2
322.6
326.7318.5310.3306.2
302.1
0.6mm
334.9
图4㊀不同过渡热沉宽度尺寸器件温度分布云图
Fig.4㊀Graphitetemperaturedistributionofanewpackagestructurewithdifferentwidthsoftungstencarbide
(a )
(c )
0.6mm
0.6mm
(b )
(d )
3.35mm
2.0mm
图5㊀传统封装结构和石墨片作辅助热沉的封装结构热流矢量图ꎮ(a㊁b)传统封装结构热流矢量图ꎻ(c㊁d)石墨片作辅
助热沉的封状结构结构热流矢量图ꎬ热量随石墨片尺寸增加ꎬ散热效果明显ꎮ
Fig.5㊀Traditionalpackagestructureandgraphitesheetasauxiliaryheatsinkpackagestructureheatflowvector.(aꎬb)Tradi ̄
tionalpackagestructureheatflowvectordiagram.(cꎬd)Graphitesheetasauxiliaryheatsinksealstructureheatflow
vector.Theheatisobviouslyincreasedwiththesizeofthegraphitesheet.
片进行散热ꎬ其次再通过WCu和铜散热ꎬ随着石墨片尺寸的增大散热效果明显ꎮ因此ꎬ相比传统封装结构ꎬ通过对石墨辅助热沉的引入ꎬ利用其极高的热导率增大了封装结构的散热途径ꎬ可以很好地减小封装结构的热阻Rth和半导体激光器有源区温度Tjꎬ进而可以很好地降低连续工作的半导体激光器所产生的热量ꎮ
对于半导体激光器ꎬ其结温计算表达式为:Tj=T0+(Pin-P)Rthꎬ
(6)
其中ꎬTj为激光器芯片结温ꎬT0为热沉温度ꎬPin为激光器的输入功率ꎬP为激光器的输出功率ꎬRth为热阻ꎮ由上述公式可知ꎬ激光器芯片结温受工
作电流㊁热沉温度及器件热阻影响ꎮ
半导体激光器阈值电流和有源区温度之间的关系为:
Ith(T)=IRetexpT-TRetTtæ
è
ç
ö
ø
÷
ꎬ(7)
其中ꎬIRet为温度TRet下的阈值电流ꎬTt为激光器特征温度ꎬ主要由激光器结构和材料决定ꎮ激光器斜率效率η随有源区温度变化的表
达式为:
η(T)=η(Tr)exp
-(T-Tr)T1
[]ꎬ
(8)
式中T1为斜率效率的特征温度ꎮ
激光器输出功率与斜率效率和工作电流的关系为:
P=η(T)Iꎬ
(9)
结合公式(6)㊁(7)㊁(8)㊁(9)可得出输出功率P:
P=ηexp-
Rth(IV-P)
T1
[
]
I-I
Ret
exp
R
th
(IV-P)T0
[]{}.
(10)
912
㊀发㊀㊀光㊀㊀学㊀㊀报第40卷
205
35
I /A
P /W
20.6W 18.8W
R th =4.14R th =3.69
10
15
2025
30
151050图6㊀不同热阻下的P ̄I特性曲线
Fig.6㊀CharacteristiccurveofP ̄Iunderdifferentthermalre ̄
sistance
半导体激光器的输出功率与输入电流的关系曲线如图6所示ꎮ从图中可以看出随着封装热阻的减少ꎬ器件输出功率会增加ꎮ经过本文封装结构优化后ꎬ封装热阻降为3.69K/Wꎬ其最大输出功率为20.6Wꎮ
4㊀结㊀㊀论
为了降低边缘式高功率半导体激光器有源区
温度ꎬ降低器件封装成本ꎬ在C ̄Mount封装结构的基础上ꎬ研究了一种使用石墨材料作为辅助热沉的封装结构ꎬ并理论分析比较其输出功率与传统封装结构的输出功率ꎮ在传统封装结构中ꎬ过渡热沉WCu宽度尺寸从3.35mm减小到0.6mm时ꎬ半导体激光器有源区温度从339.4
K升高到352.2Kꎮ在使用石墨作辅助热沉的条件下ꎬ石墨片与WCu宽度和为3.35mmꎬ当过渡热沉尺寸从2.0mm减少到0.6mm时ꎬ结温从338.9K降到334.9Kꎮ相比于宽为3.35mm的WCu传统结构ꎬ其温度降低4.5Kꎮ在传统封装结构中ꎬ随着WCu宽度的减少ꎬ有源区温度升高ꎮ而新型封装结构与其相反ꎬ相比于传统结构ꎬ有源区温度降低4.5Kꎬ散热效果明显改善ꎮ通过计算可知ꎬ半导体激光器的最大输出功率为20.6Wꎮ该结构设计为今后高功率半导体激光器的发展提供了帮助ꎬ同时在商业上有着很高的使用价值ꎮ
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房俊宇(1994-)ꎬ男ꎬ吉林松原人ꎬ硕士研究生ꎬ2017年于长春理工大学光电信息学院获得学士学位ꎬ主要从事半导体激光器的研究ꎮE ̄mail:442176287@qq.
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石琳琳(1988-)ꎬ女ꎬ吉林长春人ꎬ博士ꎬ助理研究员ꎬ2016年于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所获得博士学位ꎬ主要从事半导体激光器物理与技术的研究ꎮ
E ̄mail:linlinshi88@foxmail.com。