一种使用高光谱鉴定玉米抗旱基因的方法[发明专利]

专利名称：一种使用高光谱鉴定玉米抗旱基因的方法
专利类型：发明专利
发明人：杨万能,冯慧,代明球,伍玺,叶军立,戴国新,李为坤,耿泽栋,宋京燕,陈国兴,熊立仲
申请号：CN202010527813.1
申请日：20200610
公开号：CN111781150A
公开日：
20201016
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明公开了一种使用高光谱表型性状来鉴定玉米抗旱基因的方法，包括：干旱胁迫条件与正常条件下玉米植株生长状况的图像采集与图像处理，获取高光谱表型性状；高光谱表型性状降维处理；高光谱表型性状的遗传力分析；高光谱表型性状的全基因组关联分析，筛选抗旱相关的候选基因；高光谱表型性状关联的候选基因抗旱功能验证。

在现有的技术中，玉米抗旱相关的生理生化指标测定方法多为有损测量，抗旱基因鉴定多采用基因克隆和转基因技术等生物技术。

该方法基于图像信息，可实现玉米植株水平上相关指标的无损与精确测量，除此之外，该方法结合光谱技术与图像处理技术，验证这些技术在玉米抗旱基因鉴定方面的可行性，可为玉米抗旱基因鉴定工作提供新思路与新方法。

申请人：华中农业大学
地址：430070 湖北省武汉市洪山区狮子山街1号
国籍：CN
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