高压合成掺磷金刚石
高压环境制造金刚石实验报告
高压科学实验目的1.了解高压环境的特性2.了解金刚石的制作过程3.了解金刚石的特性实验器材六面顶压机,大液压机,控制台,小液压机,水罐,激光切割机,烘干机,电热恒温鼓风干燥箱,金刚石磨盘,蒸煮箱,真空行星式球磨机实验原理金刚石的特性:硬度极大,化学性质稳定,高导热率,高传热速度,介电常数小,载流子迁移率大,抗强酸强碱腐蚀等等运用大质量支撑原理,对顶砧的大面积端施加压力,由于,S远小于,因此施加压强可以获得远大于他的压强P。
使用六面顶压机,通过调整液压油的压力来对高压腔体施加压力。
将石墨与金属触媒混合,放在5.4GPa,和温度1400C的环境中即可开始转化为金刚石。
具体分为膜生长法和温度梯度法。
前者用于生成生长磨料级金刚石,而后者用于生成宝石级金刚石。
此为静态高温高压法。
此外还有动态超高压高温合成法,低压气相沉淀法。
膜生长法:使石墨饱和溶解于触媒溶液,施加高温高压环境。
借由同一环境下石墨和金刚石的溶解度不同,使溶液过饱和以膜的形式析出在金刚石核上,使之长大。
温度梯度法:在高温高压条件下,高温处碳源石墨转化为金刚石并溶于触媒中,在一定温度梯度驱动下扩散至低温处的晶体中开始生长。
在动态超高温高压合成金刚石的技术中,根据合成金刚石原料的不同可分为三种:1.冲击波法利用高速飞片撞击石墨靶板,使石墨在撞击过程中生成微米级的金刚石颗粒2.爆炸法将石墨与高能炸药混合,在炸药在爆轰的过程中压缩石墨使其变为金刚石3.爆轰产物法利用富养平衡炸药在爆轰时,没有被氧化的碳原子在爆轰瞬间的高温高压条件下经过狙击、晶化等一系列物理化学过程,形成纳米尺度的碳颗粒集团,用氧化剂除去非金刚石相,得到纳米金刚石。
化学气相沉淀法:用微波加热、放点等方法激活碳基气体(如甲烷),使之离解出碳原子和氢原子,碳原子在甲基和氢原子的作用下在固相基片如籽晶上沉积形成金刚石薄膜。
钻石的成核与生长原料研磨将原料放置进玛瑙研磨罐内研磨,石墨通过Fe-Ni合金触媒的混合可生成黄色金刚石,在此基础上加入铝元素或者钛元素可生成白色,加入N元素生成绿色,加入铝或钛的基础上再加入硼将生成蓝色的金刚石。
添加不同硼源时金刚石的高温高压合成
㊀第47卷第9期㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀人㊀工㊀晶㊀体㊀学㊀报㊀㊀㊀㊀㊀㊀Vol.47㊀No.9㊀2018年9月㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀JOURNALOFSYNTHETICCRYSTALS㊀㊀㊀㊀㊀㊀Septemberꎬ2018添加不同硼源时金刚石的高温高压合成李㊀勇1ꎬ廖江河2ꎬ谭德斌1ꎬ宋谋胜1ꎬ罗开武1ꎬ肖政国1(1.铜仁学院物理与电子工程系ꎬ铜仁㊀554300ꎻ2.湖南科技大学物理与电子科学学院ꎬ湘潭㊀411201)摘要:在压力6.5GPa㊁温度1290~1350ħ实验条件下ꎬ研究了合成体系中分别添加单质硼㊁六角氮化硼(h ̄BN)时金刚石的合成ꎮ由于合成体系中添加剂的存在ꎬ导致所合成的金刚石颜色发生了明显的改变ꎮ傅里叶显微红外光谱(FTIR)测试表明ꎬ当合成体系中h ̄BN添加量较少时ꎬ所合成金刚石中含有替代式的氮杂质ꎬ且金刚石中有sp2杂化的硼 ̄氮㊁硼 ̄氮 ̄硼结构存在ꎮ当合成体系中h ̄BN添加量达到2wt%时ꎬ金刚石中的氮仅以硼 ̄氮 ̄硼的结构存在ꎮ此外ꎬ霍尔效应测试结果表明ꎬ硼掺杂金刚石具有p型半导体特性ꎬ而合成体系中添加h ̄BN所制备的金刚石表现为绝缘体ꎮ关键词:高温高压ꎻ金刚石ꎻ掺杂中图分类号:O781㊀㊀文献标识码:A㊀㊀文章编号:1000 ̄985X(2018)09 ̄1752 ̄05SynthesisofDiamondDopingwithDifferentBoronSourcesunderHighPressureandHighTemperatureLIYong1ꎬLIAOJiang ̄he2ꎬTANDe ̄bin1ꎬSONGMou ̄sheng1ꎬLUOKai ̄wu1ꎬXIAOZheng ̄guo1(1.DepartmentofPhysicsandElectricalEngineeringꎬTongrenUniversityꎬTongren554300ꎬChinaꎻ2.SchoolofPhysicsandElectronicsꎬHunanUniversityofScienceandTechnologyꎬXiangtan411201ꎬChina)㊀㊀基金项目:国家自然科学基金(11604246)ꎻ贵州省教育厅创新群体重大研究项目(KY字[2017]053)ꎻ吉林大学超硬材料国家重点实验室开放课题(201610)ꎻ贵州省科技厅基金项目([2018]1163)㊀㊀作者简介:李㊀勇(1981 ̄)ꎬ男ꎬ山东省人ꎬ博士ꎬ教授ꎮAbstract:Thesynthesisofdiamondwasrespectivelystudiedatpressureof6.5GPaandtemperaturerangingfrom1290ħto1350ħwithboronandh ̄BNadditivesbytemperaturegradientgrowthmethod.Thecolorofthesynthesizeddiamondchangedobviouslyꎬduetotheexistenceofadditivesinthesynthesissystem.FTIRmeasurementsshowthattheNimpuritylocatedindiamondintheformsofsubstitutionalNꎬsp2B ̄NandB ̄N ̄Bwhentheadditivecontentofh ̄BNwassmall.HoweverꎬNimpurityexistedinthediamondonlyintheformofB ̄N ̄Bstructurewhentheadditivecontentofh ̄BNreached2wt%.AdditionallyꎬHalleffectsresultsshowedthattheobtaineddiamondwithBadditiveexhibitedptypesemiconductor.Howeverꎬthesynthesizedcrystalwithh ̄BNadditivepresentedasaninsulator.Keywords:highpressureandhightemperatureꎻdiamondꎻdoping1㊀引㊀㊀言由于金刚石极其优异的性能ꎬ其在诸多领域有着重要的用途[1 ̄3]ꎮ对于P型金刚石半导体而言ꎬ硼是最具代表性的受主元素ꎮ由于硼原子比碳原子最外层少一个电子ꎬ每个碳原子在带隙中产生一个电子空穴ꎬ而价带中可以接受一个电子[4 ̄5]ꎮ高性能的金刚石n型半导体材料的制备是一个国际范围内尚未攻克的技术难题ꎬ这限制了金刚石大单晶在电子器件领域的应用ꎮ此前ꎬ为了获得金刚石n型半导体材料ꎬ人们实验及㊀第9期李㊀勇等:添加不同硼源时金刚石的高温高压合成1753理论研究了氮㊁硫㊁磷等作为施主元素来制备金刚石大单晶ꎬ然结果表明它们并非是良好的供体元素ꎬ其原因在于这些杂质元素在金刚石结构中不能在导带下产生一个较浅的能级状态[6 ̄7]ꎮ再者ꎬ由于金刚石在高温下容易与铁质材料发生化合反应而生成碳化铁ꎬ因此金刚石不能用于加工铁质材料ꎮ而使用h ̄BN作为原材料ꎬ经过高温高压处理之后所制备的立方氮化硼(C ̄BN)则具有较稳定的化学特性ꎬ且C ̄BN的硬度仅次于金刚石ꎬ故常用来加工铁质材料ꎮ甚至ꎬ具有纳米孪晶结构C ̄BN的硬度超过了金刚石[8 ̄9]ꎮ因此ꎬ合成兼备金刚石与C ̄BN优异特性的金刚石材料是非常有趣的ꎮ理论研究结果表明:当固态BCxN中碳的比例较高时ꎬ则BCxN材料具有较高的稳定性和较好的弹性模量[10]ꎬ因此ꎬ其被认为是一种极具应用潜力的超硬材料ꎮ一般而言ꎬ在金刚石极端的生长条件下难以直接观测杂质元素是以何种方式进入到金刚石当中的ꎬ这仍然需要进一步的研究ꎮ在本工作中ꎬ在高温高压条件下分别使用硼单质㊁h ̄BN作为添加剂成功合成了金刚石ꎬ使用FTIR研究了所制备金刚石的成键结构ꎮ基于FTIR测试结果ꎬ对金刚石中杂质元素的进入方式进行了探讨ꎮ此外ꎬ对掺硼㊁h ̄BN金刚石的电学性能进行了霍尔效应测试ꎮ2㊀实㊀㊀验金刚石结晶实验在国产六面顶高压设备上进行ꎬ实验合成组装块所使用的外围材料主要有优质叶蜡石㊁白云石㊁钢帽㊁工业盐㊁水玻璃㊁石墨片㊁铜片㊁二氧化锆及石墨加热体ꎬ而合成腔体内部所使用的原材料有作为金刚石碳源的高纯石墨㊁二氧化锆㊁氧化镁㊁直径约0.6mm的人工合成优质金刚石作为晶种㊁金属触媒合金Fe64Ni36ꎮ实验过程中所使用添加剂硼粉㊁h ̄BN粉末的添加比例为添加剂质量与触媒的质量百分比ꎮ实验合成温度使用铂铑热电偶进行标定ꎬ而合成压力则通过特殊物质(Bi㊁Ba和Tl)的高压相变点与高压设备的油压之间的对应关系进行定标ꎮ合成实验结束后ꎬ将经过高压处理的样品组装砸开并将包覆有金刚石样品的触媒溶于沸腾的稀硝酸中ꎬ直到金刚石晶体从触媒中脱落ꎮ然后ꎬ将脱落的金刚石晶体再置于王水中精煮2hꎬ以保证除尽附着在金刚石表面的石墨等杂质ꎮ最后ꎬ将经过酸处理的金刚石在无水乙醇中用超声波处理10minꎬ烘干待测试ꎮ3㊀结果与讨论金刚石合成实验在固定压力6.5GPa㊁温度1290~1350ħ的范围内进行ꎬ实验参数及所合成的金刚石光学照片如表1和图1所示ꎮ图1㊀Fe64Ni36 ̄C体系中所合成金刚石的光学照片(a)未添加杂质ꎬ(b)添加1.0wt%的硼ꎬ(c)添加1.0wt%h ̄BNꎬ(d)添加2.0wt%h ̄BNFig.1㊀OpticalmorphologyofthediamondcrystalssynthesizedfromFe64Ni36 ̄Csystem(a)diamondobtainedwithoutanyadditiveꎬ(b)obtainedwith1.0wt%Badditiveꎬ(c)obtainedwith1.0wt%h ̄BNadditiveꎬ(d)obtainedwith2.0wt%h ̄BNadditive从图1可以看到ꎬ所合成的金刚石样品(a)㊁(b)和(d)均表现为(100)晶面为主的六面体形貌ꎬ而它们所对应的(111)晶面相对不发达ꎬ这意味着在金刚石结晶的过程当中(111)晶面的生长速率相对较快ꎬ导致1754㊀人工晶体学报㊀㊀㊀㊀㊀㊀第47卷了最终的晶体形貌中(111)晶面较小ꎮ另外ꎬ所合成的晶体(c)为六八面体形貌ꎮ晶体(a)呈现为典型的黄色ꎬ这是由于金刚石合成过程中合成腔体内难以避免的氮杂质进入到金刚石结构之中造成的ꎮ晶体(b)主体颜色仍然为黄色ꎬ但是在其内部有辐射状的杂质区出现ꎬ这是由于硼杂质在金刚石中的不均匀分布造成的ꎬ因为硼更容易沿金刚石的(111)晶面进入到金刚石结构之中ꎮ当合成体系中添加1.0wt%的h ̄BN时ꎬ所合成的金刚石(c)颜色较深ꎮ当合成体系中添加2.0wt%的h ̄BN时ꎬ所制备的晶体(d)的颜色近乎为黑色ꎮ另外ꎬ晶体(a)㊁(d)的生长速率分别为2.02mg/h㊁0.23mg/hꎬ由此可见合成体系中添加剂的存在会抑制金刚石的结晶速度ꎮ表1㊀Fe64Ni36触媒中金刚石大单晶合成实验参数Table1㊀Parametersofthesyntheticexperimentsofdiamondperformedat6.5GPaintheFe64Ni36 ̄CsystemSamplesBcontent/wt%h ̄BNcontent/wt%Temperature/ħTime/ha0012906b1.00129014c01.0135012d02.0134012图2㊀所合成金刚石的FTIR光谱(a)未添加杂质ꎬ(b)添加1.0wt%的硼ꎬ(c)添加1.0wt%h ̄BNꎬ(d)添加2.0wt%h ̄BNFig.2㊀FTIRspectraofthesyntheticdiamondcrystals(a)diamondobtainedwithoutanyadditiveꎬ(b)obtainedwith1.0wt%Badditiveꎬ(c)obtainedwith1.0wt%h ̄BNadditiveꎬ(d)obtainedwith2.0wt%h ̄BNadditive㊀㊀众所周知ꎬFTIR测试是一种有效㊁无损伤检测金刚石结构中杂质存在的技术ꎬ因此ꎬ采用FTIR对所制备的金刚石(图1中对应晶体)结构中的化学成键进行了详细的测试分析[4ꎬ11]ꎮ一般而言ꎬ金刚石中的氮杂质缺陷是以单原子替代形式存在ꎬ即C心ꎮ在图2中ꎬ可以从谱线(a)中看到C心氮的存在ꎬ其对应的红外吸收峰位于1130cm-1和1344cm-1处ꎮ在谱线(b)中除了有C心氮所对应的吸收峰之外ꎬ在1290cm-1处有一个较弱的峰出现ꎬ该峰是由于金刚石中的硼杂质引起的ꎮ而在谱线(c)中ꎬ除了含有C心氮对应的吸收峰1130cm-1和1344cm-1之外ꎬ还有A心氮原子对所对应的红外特征吸收峰1282cm-1ꎮ值得注意的是ꎬ该金第9期李㊀勇等:添加不同硼源时金刚石的高温高压合成1755㊀刚石谱线中还发现有746cm-1和1425cm-1特征峰[12 ̄13]ꎬ这两处吸收峰是由于金刚石样品中存在sp2杂化结构的B ̄N ̄B与B ̄N振动而引起的ꎮ但是ꎬ该晶体所对应的谱线中没有发现硼对应的1290cm-1峰ꎮ当合成体系中h ̄BN的添加比例达到2.0wt%时ꎬ谱线(d)中1130cm-1㊁1344cm-1㊁1282cm-1和1425cm-1吸收峰全部消失ꎬ而只有746cm-1处的吸收峰存在ꎬ且峰的吸收强度增加ꎬ该结果极其罕见ꎮ图3为晶体(d)所对应的Raman光谱测试ꎬ从图中可以看出该样品的特征峰位于1332.48cm-1处ꎬ这意味着所制备的样品为金刚石相ꎮ基于以上结果ꎬ我们推测:当合成体系中h ̄BN的添加比例添加较低时ꎬh ̄BN首先分解为硼和氮ꎬ这时合成体系中大量的氮杂质有可能形成一定数量的氮原子对ꎬ并以氮原子对的形式进入到金刚石结构中形成A心ꎻ而分解出来的硼与另外的部分氮杂质在进入到金刚石时ꎬ所形成的sp2杂化结构的B ̄N ̄B与B ̄N结构比C ̄B结构更加稳定ꎬ因此ꎬ在晶体(c)中未发现1290cm-1峰ꎻ当合成体系中h ̄BN的添加比例较高时ꎬB ̄N结构的形成很可能受到抑制ꎬ氮只以B ̄N ̄B的结构形式进入到金刚石中ꎮ图3㊀添加2.0wt%h ̄BN所合成金刚石的Raman光谱Fig.3㊀Ramanpeakofthesynthesizeddiamondwith2.0wt%h ̄BNadditive㊀㊀普通人工合成金刚石为绝缘体ꎬ为了研究使用不同硼源所合成金刚石大单晶的电学性质ꎬ我们对图1中所对应的样品(b)㊁(c)㊁(d)进行了霍尔效应测试ꎮ由于硼在晶体(b)中分布不均匀ꎬ故银浆焊接点置于富硼区域ꎬ测试结果表明晶体(b)为p型金刚石半导体ꎬ其电阻率为3.139ˑ107Ω cmꎬ相对应的霍尔迁移率及载流子浓度分别为3.326ˑ107cm2/V s㊁5.807ˑ107cm-3ꎮ然而ꎬ晶体(c)和(d)均表现为绝缘体ꎬ这可能时由于氮所提供的电子弥补了硼并形成B ̄N结构ꎮ另外ꎬ金刚石中所形成的B ̄N ̄B结构很有可能处于深能级ꎬ不能有效的作为供体或受体ꎮ㊀㊀此外ꎬ实验发现当晶体生长速度过快时ꎬ其顶部表面容易产生坑洞缺陷ꎬ而且坑洞缺陷具有与晶体结晶上表面垂直的螺旋状结构ꎬ如图4所示ꎮ由晶体生长原理ꎬ当结晶界面上存在与结晶界面垂直的螺旋位错时ꎬ将会形成生长台阶ꎬ台阶在生长界面上将沿着与其垂直的方向移动ꎮ倘若台阶的移动速度是均匀的ꎬ则越靠近位错线处的台阶绕位错中心线的角速度就越大ꎮ而在晶体生长的过程中所形成的螺旋线将会源源不断地提供生长台阶ꎮ在极坐标系中ꎬ螺旋位错所提供的生长台阶可以用阿基米德螺旋线近似表示ꎬ即r=2rcθꎬ其中rc为螺旋线的核心半径ꎮ图4㊀金刚石(100)表面缺陷Fig.4㊀Defectsoftheobtaineddiamond(100)surface4㊀结㊀㊀论在压力6.5GPa㊁1290~1350ħ温度范围内ꎬ在合成体系中分别添加硼㊁h ̄BN添加剂ꎬ采用温度梯度法合成了金刚石大单晶ꎮ合成体系中的添加剂导致金刚石的颜色发生了明显的改变ꎬ且会影响晶体的生长速1756㊀人工晶体学报㊀㊀㊀㊀㊀㊀第47卷率ꎮ当晶体生长速率过快时ꎬ晶体(100)晶面上会出现螺旋位错ꎮ硼掺杂金刚石呈现为p型半导体特征ꎬ然而合成体系中添加h ̄BN所制备的金刚石样品表现为绝缘体ꎮ当合成体系中h ̄BN添加量达到2.0wt%时ꎬ所合成金刚石中的氮杂质仅以B ̄N ̄B结构存在ꎮ参考文献[1]ZengLYꎬPengHYꎬWangWBꎬetal.SynthesisandCharacterizationofDiamondMicrocrystalsandNanorodsofDepositedbyHotCathodeDirectCurrentPlasmaChemicalVaporDepositionMethod[J].J.Phys.Chem.Cꎬ2008ꎬ112:6160 ̄6164.[2]YanBMꎬJiaXPꎬSunSSꎬetal.TheGrowthMechanismofB/NCo ̄dopedDiamondsunderHighPressureandHighTemperature[J].Int.JournalofRefractoryMetalsandHardMaterialsꎬ2015ꎬ48:56 ̄60.[3]李㊀勇ꎬ李尚升ꎬ佘彦超ꎬ等.金刚石单晶高温高压合成中氮对硫的影响[J].人工晶体学报ꎬ2017ꎬ46(5):778 ̄781.[4]LiYꎬJiaXPꎬMaHAꎬetal.ElectricalPropertiesofDiamondSingleCrystalsCo ̄dopedwithHydrogenandBoron[J].Cryst.Eng.Comm.ꎬ2014ꎬ16(32):7547 ̄7551.[5]ZhangJQꎬMaHAꎬJiangYPꎬetal.EffectsoftheAdditiveBoronDiamondCrystalsSynthesizedintheSystemofFe ̄basedAlloyandCarbonatHPHT[J].DiamondRelat.Mater.ꎬ2007ꎬ16:283 ̄287.[6]SuzukiMꎬYoshidaHꎬSakumaNꎬetal.Electricalcharacterizationofphosphorus ̄dopedn 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高温高压法合成金刚石的原理
高温高压法合成金刚石的原理高温高压法合成金刚石的原理引言金刚石是目前已知最坚硬的物质之一,具有极高的热导率、优异的化学稳定性和光学性能。
其在工业领域有着广泛的应用,如切割、磨削、钻石冶炼等。
早在20世纪50年代,科学家们就通过高温高压法成功地合成了金刚石,并对金刚石的合成原理进行了深入研究。
本文将详细介绍高温高压法合成金刚石的原理及其过程。
一、高温高压法合成金刚石的基本原理高温高压法合成金刚石是通过将高纯度的石墨置于高温高压环境中,在一定压力和温度条件下,使其发生相变转化为金刚石结构体。
其基本原理可以归纳为以下两个方面:1. 高压作用原理在高压下,石墨的层状结构发生变化,碳原子排列发生重组,形成更加紧密的结构,其中碳原子两两成对。
同时,高压还有利于碳原子间的共价键形成,促使石墨向金刚石的结构转变。
高压作用使得原有的石墨层结构中的芳香六元环断裂,重新构建出新的碳原子构型,形成金刚石的晶粒。
2. 高温作用原理高温下,由于碳与金属元素(如钴、铁等)有较好的相容性,这些金属元素在纯碳体系中具有催化作用,可以促进石墨向金刚石的相变。
此外,高温还可以提高反应速率,并减小金刚石晶核形成的能垒。
因此,高温作用在金刚石的合成过程中起到了至关重要的作用。
二、高温高压法合成金刚石的过程高温高压法合成金刚石的过程可以分为以下几个步骤:1. 制备金刚石晶体的种子层首先,需要在高温高压容器内的金刚石粉末层上制备金刚石晶体的种子层。
金刚石粉末的颗粒与金刚石晶种产生化学反应,形成金刚石表面晶体的结构。
种子层是金刚石晶体生长的起始核心,为后续金刚石的形成提供了必要的条件。
2. 加入高纯度石墨粉在高温高压容器中加入高纯度石墨粉末,使其与种子层接触。
石墨粉末需要达到足够高纯度,以保证金刚石晶体的纯度。
3. 施加高温高压施加高温高压条件,使得石墨发生相变,转化为金刚石晶体。
一般来说,需要施加高压数GPa(1 GPa=1亿帕)和高温约1500-2000摄氏度的条件。
高温高压法制备金刚石的原理
高温高压法制备金刚石的原理高温高压法制备金刚石的原理引言金刚石是一种极硬的材料,具有极高的热传导率和耐腐蚀性,因此在各种应用领域广泛使用。
高温高压法是一种常用的制备金刚石的方法,该方法通过模拟地球上下地壳深部的高温高压环境,实现金刚石的合成。
本文将详细介绍高温高压法制备金刚石的原理。
一、高温高压环境的模拟地球地壳深部的高温高压环境是金刚石形成的重要条件。
通过高温高压法制备金刚石,首先需要模拟地壳深部的高温高压环境。
在实验室中,通常采用高压研磨材料机、高温高压压力机等设备模拟这种高温高压环境。
高温环境的实现通常通过电阻加热或雷诺拉瓦耳加热法。
在高温高压压力机中,先将金属碳混合料放置在石墨舟中,然后通过电流加热或者激光加热,使得样品的温度升高到高温区域。
高压环境的实现通过高压器和胀压器,在加热后,加入聚四氟乙烯、石墨等脂类物质或BbO3作为体积不可压缩性的坚实胀压剂。
二、金刚石的形成机制高温高压法制备金刚石的核心是模拟地下深部的高温高压环境,通过热力学和动力学的驱动,使碳源在高温高压条件下转变为金刚石。
而这个转变的过程主要包括以下几个步骤:1. 溶质溶解:金刚石的制备通常使用金属碳混合料,该混合料由金属催化剂和碳源组成。
首先,在高温高压环境下,碳源被金属催化剂溶解,形成溶液。
2. 稳定获得:当碳源与金属催化剂溶解后,在高温高压环境下,碳原子会在液体中重新排列,形成石墨结构。
3. 石墨向金刚石转变:在高温高压环境下,石墨结构中的碳原子会受到高温高压的作用,断键并重新形成碳原子间的共价键,形成金刚石结构。
4. 金刚石的析出:随着金刚石晶核的形成,大量的金刚石会从溶液中析出,形成金刚石晶体。
由于高温高压环境的作用,金刚石的晶体会逐渐长大。
三、金刚石的性质经过高温高压法制备的金刚石具有极高的硬度、热传导率和耐腐蚀性。
金刚石的硬度是由其晶体结构和键长决定的。
金刚石晶体结构中,每个碳原子都有四个共价键,键长极短,碳原子之间的键能非常高,因此具有极高的硬度。
CH4N2S掺杂金刚石的高压合成及其色心研究
第48卷第9期2019年9月人㊀工㊀晶㊀体㊀学㊀报JOURNALOFSYNTHETICCRYSTALSVol.48㊀No.9Septemberꎬ2019CH4N2S掺杂金刚石的高压合成及其色心研究廖江河1ꎬ李㊀勇2ꎬ谭德斌2ꎬ佘彦超2ꎬ王㊀应2ꎬ邓㊀韬2(1.湖南科技大学物理与电子科学学院ꎬ湘潭㊀411201ꎻ2.铜仁学院物理与电子工程系ꎬ铜仁㊀554300)摘要:压力㊁温度分别为6.5GPa㊁1300~1350ħ的实验条件下ꎬ在FeNi ̄C体系中添加硫脲(CH4N2S)ꎬ利用温度梯度法成功合成了掺杂CH4N2S的金刚石ꎮ光致发光(PL)光谱测试结果表明:所合成的金刚石晶体中均有尖锐的Raman峰存在ꎬ且该峰位于522nm处ꎻ当合成体系中CH4N2S的添加量为1mg时ꎬ所对应的晶体中未发现有NV色心存在ꎬ但在以晶种(100)面生长的金刚石晶体中出现了3H色心ꎬ并且3H色心会随着合成体系中CH4N2S添加量的增加逐渐消失ꎮ当合成体系中添加2mg的CH4N2S时ꎬ以(111)面为生长面所合成的金刚石晶体中同时含有NV0和NV-色心ꎬ此时NV-色心所对应的PL谱的强度是所有晶体中最强的ꎮ当合成体系中添加3mg的CH4N2S时ꎬ不管以(100)还是(111)为生长面ꎬ所获得的金刚石晶体中只含有NV-色心ꎮ关键词:高温高压ꎻ金刚石ꎻ色心中图分类号:O77+3㊀㊀文献标识码:A㊀㊀文章编号:1000 ̄985X(2019)09 ̄1626 ̄05SynthesisandColorCentersStudyonDiamondDopingwithCH4N2SunderHighPressureLIAOJiang ̄he1ꎬLIYong2ꎬTANDe ̄bin2ꎬSHEYan ̄chao2ꎬWANGYing2ꎬDENGTao2(1.SchoolofPhysicsandElectronicScienceꎬHunanUniversityofScienceandTechnologyꎬXiangtan411201ꎬChinaꎻ2.DepartmentofPhysicsandElectricalEngineeringꎬTongrenUniversityꎬTongren554300ꎬChina)Abstract:InthispaperꎬdiamondcrystalsdopingwithCH4N2SweresuccessfullysynthesizedinFeNi ̄Csystembytemperaturegradientgrowthmethodatpressureof6.5GPaandtemperaturerangingfrom1300ħto1350ħꎬrespectively.Thephotoluminescence(PL)spectrameasurementresultsshowthatallthedetectedcrystalsdisplayedthesharpRamanpeakandlocatedat522nm.TheNVcolorcentersdidnotappearinthecorrespondingdiamondcrystalswhentheadditionamountofCH4N2Sadditivewas1mginthesyntheticsystem.Howeverꎬ3Hcolorcenterappearedintheobtaineddiamondalongthe(100)growthsurfaceandthe3HcolorcentergraduallydisappearedwiththeadditionamountofCH4N2Sadditiveincreasinginthesyntheticsystem.NV0andNV-colorcenterscoexistedinthesynthesizedcrystalalongthe(100)growthsurfacewhentheadditionamountofCH4N2Sadditivewas2mginthesyntheticsystem.AndthenꎬthecorrespondingPLintensityofNV-colorcenterwasthestrongestcomparedtothatoftheothercrystals.WhentheadditionamountofCH4N2Sadditivewas3mginthesyntheticsystemꎬthesynthesizeddiamondcrystalsonlycontainedNV-colorcenterwhetherthegrowthsurfaceis(100)or(111).Keywords:highpressureandhightemperatureꎻdiamondꎻcolorcenter㊀㊀基金项目:国家自然科学基金(11604246)ꎻ贵州省教育厅创新群体重大研究项目(KY[2017]053)ꎻ贵州省科技厅项目([2018]1163)ꎻ贵州省千层次人才项目(2018 ̄(2016) ̄020)ꎻ贵州省优秀青年科技人才项目([2019]5673)㊀㊀作者简介:廖江河(1992 ̄)ꎬ男ꎬ贵州省人ꎬ硕士研究生ꎮE ̄mail:1019945836@qq.com㊀㊀通讯作者:李㊀勇ꎬ博士ꎬ教授ꎮE ̄mail:likaiyong6@163.com1㊀引㊀㊀言金刚石的结构是由两个面心立方点阵沿对角线平移四分之一个单位而得ꎬ每立方纳米的金刚石里大约含有176个碳(C)原子ꎬ每个C原子与相邻四个C原子构成饱和的共价键ꎮ得益于金刚石的特殊结构ꎬ使其拥有优异的物理㊁化学性质ꎮ如ꎬ金刚石拥有最大硬度㊁最大热导率㊁耐酸耐碱腐蚀㊁抗辐射等优异特性[1 ̄2]ꎮ㊀第9期廖江河等:CH4N2S掺杂金刚石的高压合成及其色心研究1627㊀采用高温高压法所合成金刚石结构中的氮主要以单原子替代式的弥散态形式存在ꎬ而天然金刚石中的氮缺陷主要以聚集态的形式存在ꎮ由于氮杂质在金刚石结构中的存在形式不同ꎬ导致了金刚石颜色有着明显的差异ꎬ所以人工合成的金刚石一般为黄色ꎬ而天然金刚石一般为无色ꎮ研究发现在FeNi ̄S ̄C合成体系中ꎬ硫(S)的添加量对合成金刚石的氮浓度有一定的影响ꎬ微量S掺杂有助于提高金刚石的氮浓度ꎬ当S添加量达到一定量时则抑制氮进入到金刚石结构中[3]ꎮ由于金刚石中很多色心的形成都与氮缺陷相关ꎬ因此合成体系中S的引入也会一定程度上影响金刚石内部色心的形成ꎮ近年来ꎬ研究发现与氮相关的NV色心在量子超控㊁纳米传感㊁高分辨率成像等新兴高端技术领域有很大的应用前景[4]ꎮNV色心包括电中性的NV0和电负性的NV-色心ꎬNV色心的形成原因是氮进入到金刚石晶格中使晶格畸变ꎬ导致在氮的近邻处产生空穴ꎬ从而形成NV色心[5 ̄6]ꎮNV色心的结构为一个孤立氮原子结合一个空穴形成电中性的NV0色心ꎬ当电中性的NV0色心捕获一个电子后就形成了电负性的NV-色心ꎮ所以氮掺杂合成的金刚石中一般都会出现NV色心ꎮ通常情况下ꎬ获取金刚石NV色心的主要技术手段是对天然金刚石或以制备的金刚石进行高温退火处理ꎬ或者是对金刚石进行电子辐照[7 ̄8]ꎮ在本工作中ꎬ通过在高温高压合成体系中添加不同比例的CH4N2S试剂ꎬ主要研究了金刚石的高温高压制备以及CH4N2S试剂对所制备金刚石中NV色心的影响ꎮ2㊀实㊀㊀验本实验是在缸径为420mm的国产六面顶压机高压设备上进行的ꎬ实验合成压力根据铋㊁钡和铊的高压相变点所建立的油压与腔体内部压力的定标曲线进行标定的ꎬ合成温度根据Pt6%Rh ̄Pt30%Rh热电偶测定的输入功率与温度的关系曲线进行标定[9]ꎮ金刚石合成腔体的内径为15mmꎬ核心组装顺序由下到上依次为晶种(约0.8mm)㊁金属触媒(添加剂CH4N2S放在晶种上方第2片与第3片触媒之间)和石墨碳源(纯度为99.9%)ꎮ将组装好的合成块放入100ħ的烘箱中烘焙1h后再进行高温高压实验ꎮ高温高压条件下ꎬ由于FeNi触媒的催化作用ꎬ高纯石墨首先转化为金刚石ꎬ轴向上的温度梯度充当驱动力ꎬ将溶解在触媒溶液中的碳素输运到下端的晶种附近并在晶种上析出ꎬ随着合成时间的推移实现金刚石的同质外延生长ꎮ高压合成实验结束后ꎬ将叶蜡石合成块从六面顶高压设备中取出㊁砸开ꎬ然后把包裹着金刚石的触媒放入稀硝酸溶液中沸煮直至金刚石从触媒中脱离ꎬ再把脱离的金刚石置入到浓硝酸和浓硫酸的混合液中精煮ꎬ以保证除净金刚石表面所附着的金属触媒㊁石墨等杂质ꎮ之后ꎬ把精煮后的金刚石放入盛有无水乙醇的超声波容器中处理ꎮ最后ꎬ将经超声波处理之后的金刚石晶体烘干㊁待测试ꎮ3㊀结果与讨论在压力为6.5GPa㊁温度在1300~1350ħ的合成条件下ꎬ实验研究了在FeNi ̄C合成体系中添加CH4N2Sꎬ分别以晶种的(100)和(111)面作为初始生长面时合成金刚石ꎬ详细的实验参数如表1ꎬ所对应合成金刚石的光学照片如图1所示ꎮ众所周知ꎬ在金刚石生长温度区间内ꎬ金刚石的最终形貌主要取决于合成温度ꎬ(100)晶面适合在低温区生长ꎬ而(111)晶面适合在高温区生长ꎮ在金刚石生长过程中ꎬ当合成温度处于金刚石生长温度区间中的低温端时ꎬ金刚石的(111)晶面生长速率非常快ꎬ致使最终的晶体表面具有较为发达的(100)晶面ꎬ而晶体的(111)晶面非常小ꎬ甚至会消失ꎮ与之相反ꎬ在金刚石结晶过程中ꎬ当合成温度处于金刚石生长温度区间中的高温端时ꎬ金刚石的(100)晶面生长速率非常快ꎬ于是所制备的晶体表面具有较为发达的(111)晶面ꎬ而晶体的(100)晶面非常小ꎬ甚至会消失ꎮ金刚石晶体形貌除了受到合成温度的影响之外ꎬ合成体系中的添加剂也会对金刚石的外观形貌产生一定的影响ꎮ在相同的压力条件下ꎬ当给定的合成温度不在金刚石生长温度区间之内时ꎬ金刚石生长无法正常进行ꎮ本工作中的实验合成温度范围设定为1300~1350ħꎬ目的在于确保金刚石合成实验可以顺利进行ꎮ如图1中光学照片所示ꎬ以晶种的(100)面和(111)面作为金刚石结晶初始生长面所获得的金刚石样品(a)~(f)均表现为典型的六 ̄八面体形貌ꎬ其中(a)㊁(b)㊁(c)均为沿(100)面生长的晶体ꎬ(d)㊁(e)㊁(f)为沿(111)面生长的晶体ꎮ在引言部分已经提到ꎬ高温高压法所合成的金刚石绝大多数呈现为典型的黄色ꎬ而本工作中所合成的晶体颜色基调亦为黄色ꎮ1628㊀研究论文人工晶体学报㊀㊀㊀㊀㊀㊀第48卷表1㊀金刚石的合成条件及实验结果Table1㊀SynthesisconditionsandexperimentalresultsofdiamondcrystalsSampleGrowthsurfaceCH4N2S/mgMorphologyTemperature/ħTime/ha(100)1hexoctahedron135020b(100)2hexoctahedron131020.5c(100)3hexoctahedron130036.5d(111)1hexoctahedron135020e(111)2hexoctahedron131020.5f(111)3hexoctahedron130036.5图1㊀掺杂CH4N2S合成的金刚石光学照片(a)和(d)合成体系中添加1mgCH4N2Sꎬ(b)和(e)合成体系中添加2mgCH4N2Sꎬ(c)和(f)合成体系中添加3mgCH4N2SFig.1㊀OpticalimagesofthesyntheticdiamondcrystalsdopedwithCH4N2Sadditive(a)and(d)synthesizedwith1mgCH4N2Sꎬ(b)and(e)synthesizedwith2mgCH4N2Sꎬ(d)and(f)synthesizedwith3mgCH4N2Sꎬrespectively为了了解所合成金刚石晶体中的光学色心以及CH4N2S添加剂对金刚石色心的影响ꎬ使用PL光谱对具有代表性的金刚石样品进行了相应的测试表征ꎬ金刚石样品的PL光谱测试表征结果如图2所示ꎬ其中谱线(a)~(f)分别是图1晶体(a)~(f)所对应的谱线ꎮ通过图2中观察ꎬ所有合成的金刚石晶体所对应的PL光谱在522nm处都出现非常尖锐的峰ꎬ此峰位为金刚石的Raman峰ꎬ由于金刚石的Raman峰主要与PL光谱激发光源的波长有关ꎬ且本实验所用的激发光源的波长为488nmꎬ故金刚石所对应的Raman峰位于522nm处[10]ꎮ为了便于观察ꎬ我们将所测试的代表性金刚石中所含有的光学色心总结归纳于表2中ꎮ结合图2与表2来看ꎬ在以晶种的(100)面作为初始生长面合成的晶体中ꎬ发现(a)㊁(b)所对应的谱线没有出现与氮相关的NV0色心和NV-色心ꎮ当合成体系中CH4N2S的添加量达到3mg时ꎬ金刚石晶体(c)所对应的PL谱线中才出现了峰位为637nm的NV ̄色心ꎬ在(a)㊁(b)和(c)所对应的PL谱线中NV0色心始终没有出现ꎮ但在金刚石晶体(a)所对应的PL谱线中ꎬ可以看到有峰位为503.5nm的峰出现ꎬ此前的研究结果表明这是由金刚石结构中的两个间隙碳原子团聚引起的ꎬ即3H色心[11]ꎮ金刚石晶体(b)所对应的谱㊀第9期廖江河等:CH4N2S掺杂金刚石的高压合成及其色心研究1629㊀线在503.5nm处也有微小的峰值(如图3)ꎬ而(c)所对应的PL谱线在503.5nm处几乎完全消失ꎬ这表明沿(100)晶面所生长晶体中ꎬ所含有的3H色心随着合成体系中CH4N2S的添加量的提升而逐渐消失ꎮ分析认为ꎬ随着合成体系中CH4N2S添加量的增加ꎬ引起所制备金刚石晶格中的杂质缺陷就会增多ꎬ使金刚石晶格畸变加剧ꎬ最终可能破坏了两个间隙碳原子的团聚结构ꎮ图2㊀金刚石晶体的PL光谱Fig.2㊀PLspectraofthesyntheticdiamondsamples图3㊀是图2虚线框部分的放大图Fig.3㊀TheenlargedviewofthedottedlineofFig.2表2㊀晶体出现色心的情况( ɿ 表示被检测到ꎬ ∗ 表示未被检测到)Table2㊀Theappearanceofcolorcentersincrystals( ɿ meansdetectedꎬ ∗ meansnotdetected)SampleGrowthsurfaceCH4N2S/mgNV-colorcenterNV0colorcente3HcolorcenteRamanpeaka(100)1∗∗ɿɿb(100)2∗∗ɿɿc(100)3ɿ∗∗ɿd(111)1∗∗∗ɿe(111)2ɿɿ∗ɿf(111)3ɿ∗∗ɿ㊀㊀当合成体系中CH4N2S的添加量为2mg时ꎬ以晶种的(111)面作为初始生长面所合成的金刚石中同时出现了575nm和637nm所对应的NV0与NV-色心ꎮ当合成体系中CH4N2S的添加量达到3mg时ꎬ(f)所对应的PL谱线中未出现NV0色心ꎬ此时只存在NV-色心ꎬ且NV-色心的峰位强度比(e)的弱(如图2所示)ꎮ文献[3]研究发现FeNi ̄S ̄C体系中微量掺杂S有益于提高金刚石的氮含量ꎬS添加达到一定量则抑制了氮的进入ꎮ我们推测2mg的CH4N2S添加量还处于促进氮元素进入到金刚石晶格的范围内ꎬ3mg的CH4N2S添加量则处于抑制氮元素进入金刚石晶格的范围ꎬ(e)的含氮量比(f)高ꎮ另外ꎬ氮原子是施主原子ꎬ可以为晶格畸变提供电子形成负电荷缺陷ꎮ因此(e)的NV-色心所对应的峰位强度比(f)的强ꎮ从图2(c)㊁(e)和(f)还发现ꎬ当NV-色心出现时ꎬ在700nm附近会伴随着强度很高的波峰出现ꎬ这是因为NV-色心的声子边带范围在650~850nm之间ꎬ且荧光强度远大于NV-色心零声子线的荧光强度ꎬ在700nm附近强度最强所致的[12]ꎮ综上所述ꎬ当FeNi ̄C合成体系中添加CH4N2S添加剂时ꎬ以晶种的(100)面作为初始生长面掺杂CH4N2S量为1mg和2mg合成的金刚石都能获取到3H色心ꎮ以晶种的(111)或(100)面作为初始生长面ꎬ合成体系中添加CH4N2S达到一定量时NV色心都会出现ꎬ且在同等掺杂量下以晶种的(111)面生长的金刚石含NV色心的浓度比以晶种的(100)面生长的高ꎬ且在掺杂CH4N2S所合成的金刚石中都存在Raman峰ꎮ总之ꎬ以晶种的(111)面作为初始生长面掺杂CH4N2S更适合生长含有NV色心的金刚石ꎬ而晶种的(100)面作为初始生长面掺杂CH4N2S更适合生长含有3H色心的金刚石ꎮ这为获取特定的光学色心以及光学色心的潜在应用提供了新的思路ꎮ4㊀结㊀㊀论在压力为6.5GPa㊁合成温度为1300~1350ħ的条件下ꎬ于FeNi ̄C合成体系中添加CH4N2S成功合成1630㊀研究论文人工晶体学报㊀㊀㊀㊀㊀㊀第48卷了金刚石ꎮPL光谱检测结果表明:以晶种的(100)面掺杂CH4N2S量为1mg合成的晶体出现了3H色心ꎬ随着CH4N2S添加量的增加ꎬ3H色心逐渐消失ꎮ微量掺杂CH4N2S所对应的金刚石中不出现NV色心ꎬ掺杂2mg的CH4N2S以晶种(111)面作为初始生长面所合成的金刚石中同时出现NV-和NV0色心ꎮ当高压合成体系中CH4N2S添加量达到3mg时会抑制NV色心的出现ꎮ总之ꎬ以晶种(111)面作为初始生长面ꎬ合成体系中掺杂CH4N2S合成的金刚石更容易获取NV色心ꎬ以晶种(100)面作为初始生长面掺杂CH4N2S合成的金刚石更容易获取3H色心ꎮ不论掺杂CH4N2S量和初始生长面如何变化ꎬ都能在金刚石中检测到很尖锐的Raman峰ꎮ参考文献[1]㊀王凯悦ꎬ李志宏ꎬ田玉明ꎬ等.金刚石中GR1中心的光致发光特性研究[J].物理学报ꎬ2013ꎬ62(6):419 ̄423.[2]㊀MaidaOꎬHoriTꎬKodamaTꎬetal.CharacterizationofDeepDefectsinBoron ̄DopedCVDDiamondFilmsUsingTransientPhotocapacitanceMethod[J].MaterialsScienceinSemiconductorProcessingꎬ2017ꎬ70:203 ̄206.[3]㊀陈㊀宁.硫(氢)掺杂金刚石单晶的高压合成及金刚石色心研究[D].长春:吉林大学ꎬ2018.[4]㊀张㊀欢ꎬ马宗敏ꎬ谢艳娜ꎬ等.金刚石氮空位中心的研究进展及应用[J].材料与结构ꎬ2014ꎬ51(12):765 ̄769.[5]㊀BehaKꎬBatalovAꎬMansonNBꎬetal.OptimumPhotoluminescenceExcitationandRechargingCycleofSingleNitrogen ̄VacancyCentersinUltrapureDiamond[J].PhysicalReviewLettersꎬ2012ꎬ109(9):097404.[6]㊀KennedyTKꎬColtonJSꎬButlerJEꎬetal.LongCoherenceTimesat300KforNitrogen ̄VacancyCenterSpinsinDiamondGrownbyChemicalVaporDeposition[J].AppliedPhysicsLettersꎬ2003ꎬ83(20):4190 ̄4192.[7]㊀王凯悦ꎬ李志宏ꎬ高㊀凯ꎬ等.电子辐照金刚石的光致发光研究[J].物理学报ꎬ2012ꎬ61(9):097803.[8]㊀ChenNꎬMaHAꎬYanBMꎬetal.CharacterizationofVariousCentersinSyntheticTypeIbDiamondunderHPHTAnnealing[J].CrystalGrowth&Designꎬ2018ꎬ18(7):3870 ̄3876.[9]㊀李㊀勇ꎬ李宗宝ꎬ宋谋胜ꎬ等.硼氢协同掺杂Ib型金刚石大单晶的高温高压合成与电学性能研究[J].物理学报ꎬ2018ꎬ65(11):118103. [10]㊀王凯悦.光致发光光谱研究电子辐照金刚石的光学中心[D].天津:天津大学ꎬ2012.[11]㊀SteedsJSꎬDavisTJꎬCharlesSJꎬetal.3HLuminescenceinElectron ̄IrradiatedDiamondSamplesandItsRelationshiptoSelf ̄Interstitials[J].DiamondandRelatedMaterialsꎬ1999ꎬ10(8):1847 ̄1852.[12]㊀王㊀芳ꎬ马宗敏ꎬ赵㊀敏ꎬ等.金刚石集群NV色心的光谱特征及浓度定量分析[J].光谱学与光谱分析ꎬ2017ꎬ37(5):1477 ̄1481.。
直流电弧等离子体法制备金刚石
直流电弧等离子体法制备金刚石金刚石是一种非常坚硬的材料,因其具有极高的硬度和导热性能而被广泛应用于工业和科学领域。
然而,金刚石的制备过程并不简单,需要特殊的技术和设备。
直流电弧等离子体法是一种常用的制备金刚石的方法之一。
直流电弧等离子体法是利用等离子体的高温和高压环境来实现金刚石的合成。
等离子体是一种高度电离的气体,其中的电子和离子被高能电子或电磁辐射激发而获得高能量。
通过在等离子体环境下施加高压和高温,可以促使碳源原子重新排列形成金刚石晶体。
在直流电弧等离子体法中,首先需要准备一个合适的碳源。
通常使用的碳源有石墨、纳米碳管等。
然后,在高压和高温的条件下,利用电弧等离子体的高能量将碳源原子激发,使其转变为高能态,然后在冷却过程中重新排列形成金刚石晶体。
直流电弧等离子体法的制备金刚石过程中,有几个关键的参数需要控制。
首先是温度和压力。
金刚石的合成需要高温和高压的环境,通常温度在2000度以上,压力在5兆帕以上。
其次是电弧电流和电压的控制,这两个参数直接影响等离子体的能量和稳定性,进而影响金刚石晶体的形成。
此外,碳源的纯度和形状也会对金刚石的制备产生影响。
直流电弧等离子体法制备金刚石具有一定的优势。
首先,该方法可以在相对较短的时间内实现金刚石的合成,生产效率较高。
其次,该方法制备的金刚石晶体通常具有较大的尺寸和较高的质量,可以满足一些特殊应用的需求。
此外,该方法的设备相对简单,成本较低。
然而,直流电弧等离子体法也存在一些挑战和限制。
首先,该方法制备的金刚石晶体通常包含一定的杂质和缺陷,影响其性能。
其次,该方法的操作条件较为苛刻,需要高温高压的环境,设备成本较高。
此外,该方法的产能相对较低,难以满足大规模生产的需求。
总结起来,直流电弧等离子体法是一种制备金刚石的常用方法,通过利用等离子体的高温高压环境来实现金刚石的合成。
该方法具有生产效率高、晶体质量好等优点,但也存在一些挑战和限制。
未来,随着科学技术的不断进步,相信直流电弧等离子体法在金刚石制备领域将有更广阔的应用前景。
高温高压法人造金刚石
1. 转化为金刚石的碳源不同,高温高压时选用的是石墨等原料,而低 温低压则是选用的甲烷,一氧化碳等碳源 2. 高温高压下生成的金刚石是稳定相,而低温低压生成的金刚石是非 稳定相 3. 高温高压下合成的金刚石颗粒较大,如今高温高下可合成尺寸较大 的单晶,但是低温低压下尚未实现,低温低压下合成的为多晶金刚 石薄膜。 4. 高温高压的工艺相对更成熟,已有一些工业应用,而低温低压尚在 探索阶段,但是前景广阔。
低温低压法人造金刚石
高温高压法人造金刚石
C(石墨)
高温高压
C(金刚石)
1954年Bundy等人利用金属触媒在高温高压条件下首次实现人造 金刚石单晶的合成。
原理: 利用静态超高压(50~100kb,即5~10GPa) 和高温(1100~3000°C)技 术通过石墨等碳质原料和某些金属(合金)反应生成金刚石,其典型晶态为立方 体(六面体)、八面体和六-八面体以及它们的过渡形态
而今,人造金刚石的实现,使得新娘们的梦想不再遥不可及。 而今,人造金刚石的实现,使得金刚石的工业应用触手可及。
自从人工生长金刚石获得成功以后,人们一方面以生产的规 模大量合成工业用金刚石,另一方面则力图生长出优质的金 刚石大单晶,以便满足它在电子技术中的潜在应用。 高温高压法人造金刚石
人造金刚石ห้องสมุดไป่ตู้ 两大神奇方法
低温低压法人造金刚石
低温低压
C(碳源,CH4,CO等)
C(金刚石)
低温低压制备金刚石起始于1970年前苏联Deryagin,Spitsyn和 Fedoseev等人的成功试验,1980年前后,日本Setaka等人验证了 在低压条件下非金刚石衬底上气相生长金刚石晶体是可行的。 原理: 反应气体在高温下被分解,生成 碳氢自由基,烃类分子和原子氢, 气体组分在气流的导向下,在沉 积基底表面发生气-固相反应,生 长金刚石薄膜。
高温高压合成掺杂金刚石研究进展
第53卷第2期2024年2月人㊀工㊀晶㊀体㊀学㊀报JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTALSVol.53㊀No.2February,2024高温高压合成掺杂金刚石研究进展郝敬林1,2,邓丽芬2,王凯悦1,宋㊀惠2,江㊀南2,西村一仁2(1.太原科技大学材料科学与工程学院,太原㊀030024;2.中国科学院宁波材料技术与工程研究所,海洋材料及相关技术重点实验室,浙江省海洋材料与防护技术重点实验室,宁波㊀315201)摘要:金刚石具有超高热导率㊁宽禁带等优点,通过掺杂引入电子和空穴等缺陷,提升载流子浓度,可以使金刚石具有适合半导体应用的电导率,被称为第三代终极宽禁带半导体材料㊂本文首先介绍了金刚石单晶的高温高压合成方法,接着系统综述了基于高温高压法的金刚石掺杂研究现状和发展,然后分析了N㊁B㊁P和S等单元素掺杂及多元素共掺杂对金刚石晶体生长和电学性能的影响,并且对第一性原理计算研究金刚石掺杂进行了分析总结㊂高温高压退火可以有效改变金刚石中掺杂元素与空位等缺陷组合和分布状态,本文明晰了金刚石中含氮色心形成的原因及高温高压退火对色心的调控机制㊂最后对金刚石掺杂以及掺杂后金刚石的光学性能和电学性能研究前景进行了展望,指出可进一步探索多元素共掺杂的理论与实验方法,对提升掺杂金刚石性能具有重要意义㊂关键词:金刚石;高温高压;掺杂;含氮色心;退火;第一性原理计算中图分类号:O78;TQ163㊀㊀文献标志码:A㊀㊀文章编号:1000-985X(2024)02-0194-16 Synthesis of Doped Diamond by High-Pressure andHigh-Temperature:a ReviewHAO Jinglin1,2,DENG Lifen2,WANG Kaiyue1,SONG Hui2,JIANG Nan2,KAZUHITO Nishimura2(1.School of Materials Science and Engineering,Taiyuan University of Science and Technology,Taiyuan030024,China;2.Zhejiang Key Laboratory of Marine Materials and Protective Technologies,Key Laboratory of Marine Materials and Related Technologies,Ningbo Institute of Materials Technology and Engineering,Chinese Academy of Sciences,Ningbo315201,China) Abstract:Diamond possesses an ultra-high thermal conductivity and a wide band-gap.Its electrical resistance could be adjusted for the semiconductor application by increasing the electron and vacancy content introduced by doping different elements.Therefore,diamond is thought to be the final wide band-gap semiconductor materials.This paper firstly introduces the synthesis of diamond by high-pressure and high-temperature(HPHT)method,and then systematically reviews the current status and developments of diamond doping by HPHT.The effects of single-element doping,such as N,B,P,and S,as well as multi-elements co-doping in the diamond crystal growth and its electrical properties are analyzed.In additional,this paper summaries the study diamond doping using first-principle calculation.HPHT annealing could effectively change the combinations of doped elements and the associated vacancies and their distribution.This paper reviews the adjustment of nitrogen-related color centers in diamond by HPHT annealing,elucidating the formation mechanisms of various nitrogen-related color centers.Finally,This paper prospects the potential optical and electrical properties of doped diamonds,highlighting the importance of theoretical calculations and experimental methods for multi-element co-doping investigation to enhance the performance of doped diamonds.Key words:diamond;HPHT;doping;nitrogen-vacancy center;annealing;first-principle calculation㊀㊀收稿日期:2023-08-16㊀㊀基金项目:国家重点研发计划(2022YFB3706602,2021YFB3701801);宁波市重点科技项目(2022Z191);宁波市甬江人才引进计划(2021A-037-C,2021A-108-G);中国科学院青年基金(JCPYJ-22030);宁波市重大科技攻关专项(2021ZDYF020196);中国科学院项目(ZDKYYQ2020001)㊀㊀作者简介:郝敬林(1998 ),男,江苏省人,硕士研究生㊂E-mail:haojinglin@㊀㊀通信作者:邓丽芬,博士,教授级高工㊂E-mail:denglifen@王凯悦,博士,教授㊂E-mail:wangkaiyue8@宋㊀惠,博士,副研究员㊂E-mail:songhui@㊀第2期郝敬林等:高温高压合成掺杂金刚石研究进展195㊀0㊀引㊀㊀言金刚石是一种重要的功能材料,其高硬度(60~120GPa)[1]㊁高热导率(20W㊃K-1㊃cm-1)[2]㊁宽波段透光率和较高的介质击穿场强(5~10MV/cm)[2]等性能使其在大功率半导体热沉片[3]㊁高端光学窗口[4]等领域得到广泛应用㊂纯净的金刚石是良好的绝缘体,晶体内无自由电子,具有宽禁带(5.47eV)[2],因而电阻率很高㊂但是当金刚石中有其他掺杂元素存在时,电阻率会大幅下降,成为半导体材料㊂随着信息产业化的发展,对半导体材料提出了更高的要求,常规的半导体材料已经不能满足市场的需求,金刚石的优异性能使其在半导体领域有广阔的应用前景[3]㊂金刚石的合成方法主要分为高温高压(high pressure and high temperature,HPHT)法[5]和化学气相沉积(chemical vapor deposition,CVD)法[6]㊂其中,高温高压法采用温度梯度(temperature gradient method, TGM)[7]控制碳溶解㊁扩散和再结晶在籽晶上生长㊂高温高压法合成过程中易于添加不同物质,从而将不同元素掺杂进入金刚石晶格,因此成为研究金刚石掺杂的主要方法㊂通过元素掺杂发掘金刚石的功能特性,可拓宽其应用范围㊂除了高温高压法外,其他一些方法也可以实现金刚石的掺杂,比如CVD法㊁电子束辐照法和离子注入法等㊂但是,CVD法的掺杂元素受限,很多元素例如Ge等金属元素由于其自身特性难以被掺入㊂另外,CVD法掺硼通常需要采用有剧毒的硼烷气体,因而掺硼金刚石的应用受到限制㊂离子注入法掺杂则对晶格的破坏较大㊂综合而言,高温高压是一种较为成熟和有效的金刚石掺杂方法㊂为了突破金刚石在电学㊁光学等方面的应用限制,研究人员尝试通过掺杂改变其性质,进而拓展其应用范围,尤其是电学应用,可以分别通过施主杂质和受主杂质掺杂来制造低电阻率n型和p型金刚石㊂金刚石的掺杂元素目前主要有B㊁N㊁S㊁P等,其中,硼原子半径较小,硼掺杂p型半导体金刚石在理论和实验方面都取得了进展,而且随着电学性能的改善,可以利用线切割对其进行加工,为金刚石刀具加工提供了途径㊂对于p型硼掺杂金刚石,掺入0.1%(摩尔分数,下同)的硼源后其电阻率最小已达到10-2Ω㊃cm[8],仅就电阻率而言已达到器件制作的要求㊂然而宽带隙材料难以实现两级掺杂[9],目前电阻率最低的n型金刚石只能达到102Ω㊃cm[10],因而极大地限制了金刚石在电学领域的应用,金刚石的n型掺杂比p型更具挑战性[11]㊂近年来,为了在金刚石的n型掺杂方面取得进展,研究者主要致力于N㊁P㊁S等元素的掺杂研究[12]㊂本文在对高温高压合成金刚石大单晶的基本原理及工艺进行介绍的基础上,对金刚石的元素掺杂及其电学与光学性质等研究进展进行了归纳总结,分析了当前研究的热点问题,以便更好了解行业的发展状况㊂1㊀金刚石合成方法石墨与金刚石都是碳的同素异形体,在碳的压强-温度(pressure-temperature,P-T)相图中都有所表现[13],图1分别展示了金刚石和石墨的稳定区㊂在高温高压条件下,金刚石单晶的生长是通过石墨到金刚石的相变实现的㊂石墨经过高温高压作用后会变成金刚石,并在金刚石种子上沉积形成新的金刚石单晶㊂因此,金刚石单晶的生长需要有适当的种子晶体作为生长的起点㊂1970年,美国通用电气公司(GE)在高温高压下利用温度梯度法合成金刚石大单晶,成为材料领域的重要突破[7]㊂迄今为止,温度梯度法仍然是目前国内外合成金刚石大单晶最为常见和有效的方法㊂石墨作为碳源位于腔体中的高温端,晶种位于低温端㊂由于两者之间存在温差而形成了温度梯度㊂在高温高压下,高温处的碳源转化为金刚石,并在一定温度梯度的生长驱动下从高温端向低温端扩散,并在低温区的晶种处结晶析出(见图2)㊂温度梯度法的生长驱动力与轴向温度梯度成正比,可以通过调整金刚石合成块的组装结构,进而把控温度梯度的生长驱动力,实现对合成金刚石生长速度的控制[14]㊂196㊀综合评述人工晶体学报㊀㊀㊀㊀㊀㊀第53卷图1㊀碳元素的P-T 相图Fig.1㊀P-T phase diagram of carbon element 图2㊀温度梯度法原理示意图[15]Fig.2㊀Schematic diagram of diamond synthesis by temperature gradient method [15]2㊀金刚石单晶的掺杂金刚石单晶掺杂主要分为两种类型:替位式掺杂和间隙式掺杂[16]㊂替位式掺杂是将金刚石中的一些碳原子替换成其他原子,如氮㊁硼㊁硅等㊂目前针对金刚石薄膜的掺杂在国内外研究较多,而对高温高压下金刚石大单晶的掺杂研究较少㊂金刚石常见的掺杂形式有单元素掺杂和多元素协同掺杂,其中,单元素掺杂的掺杂剂可以使是单质,也可以是化合物,而多元素掺杂有双掺或三掺,主要以双掺为主㊂2.1㊀金刚石单一掺杂2.1.1㊀硼掺杂硼原子半径小,容易进入金刚石内部,因此在掺杂p 型半导体金刚石薄膜[17]的研究中有大量关于掺杂硼的文献并获得了实际应用[18]㊂对于掺硼金刚石单晶来说,硼的添加会对金刚石单晶的形貌和电学性能产生影响㊂2005年,张健琼等[19]通过加入无定形硼粉,在高温高压下成功合成出掺硼金刚石单晶,并且晶体中硼的含量随着合成温度的升高而降低㊂在合成过程中硼元素优先从金刚石的{111}扇区进入晶体,在扇区内部金刚石的生长速度逐渐减小,硼元素扩散逃离可用时间越来越长,最终导致硼元素含量不均匀,呈内多外少的分布规律[20]㊂掺硼金刚石单晶的晶体特征如表1所示㊂表1㊀掺硼宝石级金刚石单晶的晶体特征[20]Table 1㊀Crystal characteristics of boron-added gem-quality diamond single crystals [20]SampleGrowth crystal phase Boron (mole fraction)/%Growth time /h Crystal weight /mg Crystal size /mm a {100} 1.03 1.1 1.3b{100} 2.51032.2 3.4c {111} 1.03128.5 5.4d {111} 2.51071.9 4.4在(100)面生长掺单质硼的金刚石单晶时,晶体表面呈现出黑色三角形的对称区域,不同区域的硼含量存在差异㊂随着硼添加量的增加,{111}面的生长区域变宽,而{100}面的生长区域变窄直至几乎消失[21]㊂此外,在{100}㊁{111}和{311}扇区内也存在不均匀性㊂通过PL 光谱可以发现,与硼和氮有关的缺陷以及与空位相关的缺陷集中分布在与生长区边界相交的辐照区㊂在{311}扇区发现了在富B 和富N 生长之间交替的带,639㊁651和658.5nm 处的B 相关中心在{311}扇区中比在{100}或{111}扇区中更强㊂648nm 中心在富B 的{111}扇区中最强,在{311}扇区中较弱,在{100}扇区中更弱(见图3)[22]㊂硼掺杂金刚石单晶的掺杂效果主要表现为导电性的改变㊂在高温高压下,硼原子取代金刚石单晶中的碳原子,形成硼掺杂金刚石单晶㊂硼原子的加入使金刚石单晶中的空穴浓度增加,从而提高了材料的导电性㊂硼掺杂金刚石单晶的导电性与硼的浓度和掺杂方式有关,通过控制硼源的含量和反应条件,可以实现不㊀第2期郝敬林等:高温高压合成掺杂金刚石研究进展197㊀同浓度和不同类型的硼掺杂金刚石单晶㊂高温高压技术可以实现高表面积㊁低材料电阻和多孔电极结构,通过循环伏安法(cyclic voltammetry)可以证明掺硼金刚石的电极具有比非多孔电极更高的双层电容[23]㊂使用密度泛函理论(DFT)对重掺杂硼金刚石进行电子结构计算,结果表明B中心之间的相互作用直接决定了空穴的密度,对费米能级的位置和电子行为有着重要影响㊂当温度降到临界温度时,理论计算显示出向超导体转变的趋势,而且临界温度和B的浓度相关[24]㊂虚拟晶体近似法也正确地预测了硼掺杂金刚石中电子-声子耦合的主要特征,为这种材料的超导性提供了一个非常简单和直观的解释,提出了通过具有强共价键的空穴掺杂材料寻找高温超导体的有用的新途径[25]㊂Shakhov等[26]使用Ni-Mn催化剂在高压高温条件下合成的掺硼金刚石室温电导率可达1Ω-1㊃cm-1,但是由于硼对金刚石生长的阻碍作用和杂质化合物的存在而未实现超导电性㊂重掺硼金刚石单晶的超导性能研究前景广阔,值得深入研究㊂图3㊀488nm激发下的PL光谱[22]Fig.3㊀PL spectra under488nm laser excitation[22]2.1.2㊀氮掺杂氮是金刚石中最为常见的杂质元素,根据金刚石中氮含量的不同可以将其分为I型金刚石和II型金刚石,如表2所示㊂表2㊀金刚石的分类及性质[27]Table2㊀Classification and properties of diamond[27]Type Nature diamond Nitrogen impurities/10-6Color Resistance/(Ω㊃cm) Ia98%2ˑ103aggregate state Colorless,yellow104~1016Ib0.1%10~103dispersive state Yellow,brown104~1016IIa1%~2%<1Colorless104~1016IIbʈ0%<1,B-doped Blue10~104氮在金刚石晶体中有多种存在形式,氮原子与由辐射损伤引入的空位形成了多种缺陷中心,从而导致金刚石呈现不同颜色,所以通常被称为色心,如表3所示㊂杂质引起的色心主要包括:C中心(孤氮中心)[28-29]㊁A中心和B中心[28,30]㊁N3-N2中心[31-32]㊂其中A中心和B中心不直接影响金刚石的颜色,又称为198㊀综合评述人工晶体学报㊀㊀㊀㊀㊀㊀第53卷 间接色心 ㊂辐射损伤引起的色心主要包括:GR1中心[28,33]㊁595中心[28-29]㊁H3和H4中心[28-29]㊁3H中心[29,34]㊁N-V中心[28]㊁NDl中心[35]㊁S1中心[35]等㊂其中,部分色心(如孤氮中心)直接成为金刚石颜色的诱导因素,有些色心组合的形成致使金刚石呈色㊂表3㊀金刚石氮杂质中心Table3㊀Diamond N impurity centersDefect centerλmax/nm Color ReasonC-center560Yellow Caused by impurities[28-29]N3-center415.5Yellow Caused by impurities[31-32]N2-center478Yellow Radiation damage[31-32]GR1-center741Blue,green Radiation damage[28,33]595-center425Yellow High temperature annealing600~800ħafter radiation damage[28-29] H3-center503Yellow,brown High temperature annealing800ħafter radiation damage[28-29] H4-center496Yellow,brown High temperature annealing800ħafter radiation damage[28-29] 3H-center504Yellow Heat treatment after radiation damage350~400ħ[29,34]NV0-center575Pink Radiation damage[28]NV--center637Pink,red Radiation damage[28]NDl-center388 Radiation damage[35]S1-center515~520Blue-green,yellow-green Radiation damage[35]氮在常温下以气体形式存在,所以氮的化合物常用来作为掺杂所用的氮源㊂常见的氮源有NaN3㊁C3H6N6和Fe3N等㊂通过向石墨和铁粉中添加叠氮化钠(NaN3),成功地将氮掺杂到了金刚石中,合成了氮浓度高达(1000~2200)ˑ10-6的金刚石单晶,其氮含量与天然金刚石相同[36]㊂金刚石中的氮浓度随着NaN3含量的增加而增加,但是当NaN3的含量增加到0.7%~1.3%(摩尔分数,下同)时,金刚石中的氮浓度几乎保持在1250ˑ10-6至2200ˑ10-6的范围内㊂同样,使用C3H6N6合成的金刚石的最高氮含量为2300ˑ10-6,其分解的氮效应降低了金刚石的生长速率并将其颜色改变为绿色[37]㊂NaN3和C3H6N6掺杂含量与氮含量的对应关系如图4所示,NaN3的掺杂含量在0.5%之前阶段氮含量持续增高,0.5%~0.7%阶段氮含量降低,1.0%前后变化趋势也存在此类情况㊂而C3H6N6则是随着掺杂含量的增加,氮含量稳步升高到2300ˑ10-6,仍未见饱和平台区出现㊂根据以上情况,若是合成高氮金刚石单晶,则选择C3H6N6作为掺杂剂可实现更高的氮含量㊂合成压力和退火时间不足导致氢不被金刚石吸收,随着C3H6N6含量的增加,金刚石的颜色由黄色变为绿色㊂拉曼光谱表明,以C3H6N6为掺杂剂合成的金刚石晶体缺陷较少,实验结果如表4所示㊂为了研究氮浓度对金刚石结晶过程和金刚石晶体结构的影响,Palyanov等[38]在Fe-Ni系统中加入Fe3N和CaCN2两种不同的氮浓度增长体系㊂在金刚石的热力学稳定性范围内,随着金属熔体中氮浓度的增加,位错㊁孪晶片层和内部应变的密度增加㊂当氮浓度高于某一临界值(0.4%)时,金刚石的成核和生长终止,石墨结晶㊂表4㊀掺杂C3H6N6金刚石在5.6GPa作用下处理11h的实验结果[37]Table4㊀Experimental results of doped C3H6N6diamond treated for11h in the presence of5.6GPa[37]Sample Temperature/K C3H6N6/%Morphology Growth rate/(mg㊃h-1)a15130(100)+(111)+(110)8.72b15130.05(100)+(111)+(110) 6.11c15130.10Twin crystal 2.57d15130.15(100)+(111) 1.80e15130.20(100)+(111) 1.65f15130.25(100)+(111) 1.06a 15530(100)+(111)+(110)7.93b 15530.05(100)+(111)+(110) 6.53c 15530.10Twin crystal 5.88d 15530.15(100)+(111) 3.69e 15530.20(100)+(111) 2.33f 15530.25(100)+(111) 1.15㊀第2期郝敬林等:高温高压合成掺杂金刚石研究进展199㊀图4㊀NaN3和C3H6N6掺杂含量与氮含量的关系[36-37]Fig.4㊀Relationship between NaN3and C3H6N6doping content and nitrogen content[36-37]由于高氮含量金黄色金刚石的稀有和广受欢迎,以及色心NV-的量子效应,金刚石的氮掺杂研究一直是热点,高温高压退火可以改变金刚石中氮状态㊂高氮金刚石((1500~1700)ˑ10-6)在退火后1h内,由于金刚石晶格中氮的聚集,晶体的颜色明显由绿色变到无色(见图5)[39]㊂含氮施主原子在(1500~1600)ˑ10-6的金刚石晶体退火后使原来以单取代态(C中心)排列的氮原子转变为对取代态(A中心),一小部分氮原子仍以C中心形式存在,而一些A中心形式的氮原子进一步转变为N3和H3中心结构[40]㊂退火降低了高氮金刚石中NV-中心的浓度㊂相反,低氮含量的金刚石退火后可产生较高浓度的NV-色心㊂尽管高温高压条件下金刚石中存在许多缺陷的NV色心影响,但低氮含量金刚石在高温高压条件下直接退火是合成NV色心的一种简便方法[41]㊂这些发现对了解氮原子以聚集形式存在的天然Ia型金刚石的形成机制有很大帮助㊂图5㊀高浓度掺氮金刚石晶体的光学图像[39]Fig.5㊀Optical images of highly concentrated nitrogen-doped diamond crystals[39]通过第一性原理计算发现,金刚石中氮以C中心的形式存在会使带隙值(5.5eV)稍有降低,并预测由于C中心引起的光吸收在3eV左右[42]㊂理论上氮掺杂可以引入杂质能级,改变金刚石的导电性和光学吸收性能,从而提高其光学发光效率㊂但是氮在金刚石晶格中能级深,位于导带最小值以下1.7eV处,因而掺氮金刚石电阻率高,难以获得符合要求的n型金刚石半导体材料[43]㊂200㊀综合评述人工晶体学报㊀㊀㊀㊀㊀㊀第53卷2.1.3㊀硫掺杂硫的原子半径大,进入到金刚石晶格中有一定的困难,但硫是研究合成n型半导体金刚石的重要掺杂剂之一㊂通过第一性原理计算对掺杂浓度为3.12500%㊁1.56000%和0.78125%(摩尔分数,下同)的硫掺杂金刚石的能带结构和电子结构的研究发现,不同浓度下能带结构和电子结构的变化基本类似,硫杂质缺陷的电离能为0.3eV,表现为n型导电[44]㊂2011年,周林等[45]在NiMnCo催化体系中成功合成掺杂硫金刚石单晶,合成的金刚石晶体具有完整的{100}和{111}面,内部有少量的包裹体㊂Chen等[46]在Fe-Ni-C体系中加入高纯硫粉合成了硫掺杂的IIa型金刚石单晶,随着硫含量的增加生长速率明显降低㊂合成体系中的硫会促进NV0和NV-中心出现在金刚石晶格中㊂在该系统下合成的硫掺杂Ib型金刚石单晶在沿{111}面生长更容易出现氮空位(NV)中心,氮杂质浓度如表5所示㊂与NV-中心相比,在不添加硫的情况下,Ib型金刚石晶格中不容易生成NV0中心㊂虽然在添加0.25%硫的情况下同时生成NV0和NV-中心,但NV-峰的强度明显高于NV0峰[47],氮空位的光致发光光谱如图6所示㊂表5㊀FeNi-S-C体系合成Ib型金刚石及氮杂质的浓度[47]Table5㊀Synthesis of Ib-type diamond and concentration of nitrogen impurities by FeNi-S-C system[47]Sample S/%Growth face Growth rate/(mg㊃h-1)Nitrogen content/10-6a0{100}0.280151b0.10{100}0.157201c0.25{100}0.070144d0{111}0.186180e0.10{111}0.153230f0.25{111}0.062154图6㊀FeNi-S-C系金刚石晶体的光致发光光谱[47]Fig.6㊀PL spectra of FeNi-S-C system diamond crystals[47]使用四探针和霍尔效应法可以表征掺硫金刚石单晶的电学性能㊂研究发现,随着硫含量的增加(1.0%~4.0%),所合成金刚石单晶的半导体性能也有所提高㊂当金刚石晶胞中的硫含量达到4.0%时,金刚石的电阻为9.628ˑ105Ω㊃cm,为进一步合成n型半导体金刚石提供了依据[48]㊂同样,使用FeS和NiS作为硫源也可以制备出n型半导体金刚石单晶,合成样品的半导体性能也随着硫含量的增加而增强,如表6所示㊂二者制备出的样品最低电阻率分别为8.131ˑ105和11.630ˑ105Ω㊃cm,可见FeS掺杂得到的金刚石单晶电阻率最小[49-50]㊂表6㊀不同硫源掺杂金刚石的电学性能Table6㊀Electrical properties of diamond after doping with different sulfur sourcesSulfur source Doping method Minimum resistivity/(Ω㊃cm)CharacteristicSulfur powder[48]Substitute9.628ˑ105n-typeFeS[49]Substitute8.131ˑ105n-typeNiS[50]Substitute11.630ˑ105n-type㊀第2期郝敬林等:高温高压合成掺杂金刚石研究进展201㊀2.1.4㊀磷掺杂磷的原子半径较大,很难进入金刚石晶格中㊂当磷原子在金刚石晶格中取代一个碳原子时,将会引起晶胞的膨胀,晶格会发生畸变,对金刚石晶胞的构型㊁键型和电荷的空间分布都会产生一定的影响㊂聂媛等[51]选用Fe3P作为磷源进行磷掺杂金刚石单晶的合成,磷源含量和晶体形貌如图7所示㊂随着Fe3P的含量增加,金刚石晶体中氮含量上升,说明磷的进入诱使氮原子更容易进入金刚石晶格中㊂同时,金刚石晶体的颜色逐渐变深,包裹体的数量逐渐增加,晶形由板状转变为塔状直至骸晶,在拉曼光谱下可以看到其半峰全宽变大,晶格畸变增加㊂在FeNiMnCo-C体系中掺入单质磷合成了片状金刚石晶体[52],随着磷含量的增加,金刚石晶体的生长速率逐渐降低,温度区间也明显增大㊂并且通过四点探针和霍尔效应法测试发现磷掺杂金刚石大单晶的最小电阻率为3.561ˑ106Ω㊃cm㊂同样,研究人员以Mn3P2作为掺杂剂在FeNi体系下合成了金刚石晶体㊂Mn3P2的加入改变了催化剂的催化性能,使金刚石晶体生长的V形区在1230~1245ħ明显向右上方移动[53]㊂掺杂后的样品通过电学性能测试表明其电阻率为0.516ˑ106Ω㊃cm,霍尔系数为负,与前者相比电学性能得到了极大的提高,对n型半导体的研究很有帮助㊂图7㊀沿(111)面合成磷掺杂金刚石显微光学照片[51]Fig.7㊀Micro-optical photograph of P-doped diamond synthesized along(111)surface[51]通过第一性原理的方法计算了磷掺杂浓度的金刚石晶格的电子结构[54]㊂不同浓度磷原子取代碳原子前后的杂质激活能及总能量差的变化如表7所示,一个磷原子取代一个碳原子所引起的能量差值(ΔE=E2-E1)随着掺杂磷原子浓度的增加而降低,可能是由于掺杂元素浓度的升高使得晶格膨胀加剧,原子间的松弛引起了一部分电子和原子核之间的相互作用减弱㊂杂质原子的掺杂浓度越高金刚石晶格的膨胀越严重,晶体里的sp3杂化的碳键就越不稳定,越容易向sp2碳键转化㊂虽然高掺杂时可以获得合适的电导率,但会严重损伤金刚石晶格[54]㊂磷掺杂的n型金刚石半导体材料的载流子浓度和电子迁移率相对较低,导致其电阻率较高,因此需要进一步研究以获得具有良好电学性能的n型金刚石半导体材料㊂掺磷金刚石单晶的合成研究较少,尤其是磷与其他元素共掺杂合成方面的研究需要加强㊂表7㊀磷掺杂金刚石晶格的能量变化[54]Table7㊀Energy variation of P-doped diamond lattice[54]Number of cell atom Total energy before doping,E1/eV Total energy after doping,E2/eV Energy difference,ΔE/eV 16-2.478ˑ103-2.498ˑ103-0.0195ˑ10324-3.717ˑ103-3.737ˑ103-0.0193ˑ10332-4.957ˑ103-4.976ˑ103-0.0191ˑ10348-7.435ˑ103-7.454ˑ103-0.0190ˑ10364-9.913ˑ103-9.932ˑ103-0.0188ˑ10372-1.115ˑ103-1.117ˑ103-0.0189ˑ10396-1.487ˑ103-1.489ˑ103-0.0187ˑ103 2.1.5㊀其他单元素掺杂除了上述的四种常见的元素外,还有很多元素可以进行掺杂㊂Sittas等[55]在高温高压条件下首次合成掺硅金刚石单晶,并且只有在IIa型金刚石中才能发现掺杂的硅空位㊂对{001}㊁{111}㊁{113}生长区进行202㊀综合评述人工晶体学报㊀㊀㊀㊀㊀㊀第53卷光谱分析,发现硅中心的分布很不均匀,硅中心的发射强度不依赖于生长扇区㊂硅粉加入到镍基金属催化剂后,随着硅含量的增加,金刚石内部夹杂物从点状到片状再到串状分布,最终难以生长出完整的晶体[56]㊂硅的加入不仅增加了晶体内部的应力,使金刚石的结晶质量变差,而且也降低了金刚石中氮的浓度㊂同时,生长体系中的氮杂质也阻碍了金刚石中硅的有效掺杂㊂同样,在Ni-Mn-C体系中也可以将镁作为掺杂剂来评价其对晶体生长机制和缺陷的影响㊂如表8和图8所示,当Mg的含量为2%(摩尔分数,下同)时,金刚石晶体表面平整,有利于其在刀具中应用㊂添加3%和4%Mg的样品没有出现任何明显的变化,添加量为5%时晶体出现了夹杂物,这表明镁的添加量确实影响这些晶体表面缺陷的数量㊂在所用的高温高压参数下,晶体结构普遍为八面体㊂当Mg的含量为2%时,晶体产率较高,3%~5%的成核速率较小,生长速率降低[57]㊂表8㊀掺Mg样品在(1250ʃ50)ħ条件下的晶体参数[57]Table8㊀Crystal parameters of Mg-doped samples at(1250ʃ50)ħ[57]Sample Mg/%Crystal weight/mg Growth rate/(mg㊃h-1)a10.223 4.46b20.124 2.48c30.052 1.04d40.099 1.98e50.278 5.56图8㊀不同镁掺杂量金刚石晶体的SEM照片[57]Fig.8㊀SEM images of diamond crystals with different amounts of Mg doping[57] Palyanov等[58]在Mg-Ge-C体系下成功地合成了Ge掺杂单晶金刚石,在光致发光光谱中存在大量的2.06eV的Ge-V中心,如图9(a)所示㊂在该体系中加入的Ge抑制了金刚石自发成核的强度,从而可以通过晶种生长出相对较大(2~3mm)的金刚石单晶㊂在不同的合成条件下,合成的金刚石晶体从2.06eV中心到一级拉曼散射线的光致发光强度范围可达几个数量级,证明了Mg-Ge-C体系生长同位素修饰锗掺杂的块体低应变金刚石晶体的可行性,为进一步研究金刚石中锗相关色心的性质及其作为单光子源的可能应用提供了依据㊂2019年,相关研究人员在FeSnAl-C㊁Sn-(Ti,Al,Zr)-C和Sn-Mg-C三种条件下进行锡的掺杂对比实验[59]㊂研究发现,由Fe-Sn-Al组成的Fe基催化剂合成的金刚石没有与Sn相关的光学中心,在Sn-C系统中证实了在生长过程中Sn原子在金刚石晶格中的掺入原则上是可能的,但是生长系统中的氮杂质阻碍了Sn的有效掺杂,而且这些氮杂质很难用除氮剂消除㊂用Sn-Mg催化剂合成的金刚石单晶在光致发光光谱中显示出明显的Sn-V色心特征,如图9(b)所示㊂高温高压下成功合成了Sn掺杂金刚石,在量子技术应用中取得进一步进展㊂。
高温高压合成金刚石用之触媒
△高温高压合成金刚石用之触媒▲top 合成金刚石是碳的同素异构体的相变过程,由于触媒的参与使金刚石合成之压力与温度大大降低,实现了人造金刚石的工业生产。
从大量的试验与研究上看,凡在高压高温下不能侵润石墨的金属均不能作为触媒。
一般来说,作为合成金刚石的触媒必须对非金刚石碳有较大的溶解度和活化能力,以便为金刚石的生长提供充足的碳源,同时触媒还必须具有活化或输送碳原子C的能力,而且不形成碳化物等。
现在,合成金刚石的触媒逐渐转向多组元合金,这不仅使合成金刚石的温度与压强进一步拓宽,而且使合成工艺也更容易掌握。
另外,通过变更合金组元,特别是添加某些微量元素,还可能赋予金刚石一些特殊的性能。
在其它条件不变的情况下,不同触媒所合成金刚石的晶形、杂质分布也各有特点,因此改进触媒是提高金刚石质量和产量的有效途径。
高压高温间接静压合成金刚石用的触媒在形态上有两种,一种是片状触媒,另一种十分状触媒,它们与石墨碳源的形态相匹配。
使用片状触媒,相应的石墨也制成片状。
粉状触媒使用的石墨也是粉状的,二者经充分混合,压制成形后进行高压高温之合成。
用粉状触媒生产磨料级金刚石有突出的优点,它克服了片状触媒利用率低的缺点,其组分也易于调节。
粉状触媒可与石墨粉料充分混合,接触面积大,能够大幅度提高合成单产,例如使用直径为18mm 的合成腔体,单产突破2000mg(10carat)是没有问题的。
目前市场上出现的粉状触媒为镍锰钴Ni Mn Co 合金。
粉状触媒存在的问题是在生产、贮运中的氧化现象。
预计粉状触媒的研究和生产将会有进一步发展。
工业上合成经昂诗常用的触媒主要有镍Ni基、铁Fe基和钴Co基三个合金体系。
合成金刚石的生产与触媒密切相关,现将使用不同触媒生产金刚石的工艺参数列于表8-1。
适用于两面顶砧压力机.镍Ni基触媒合成所要求的压力和温度容限宽,产品综合性能好,故在国产六面顶砧压力机上得到普遍采用.表8-1 不同触媒合成金刚石的工艺参数之对比我国触媒开发研究基本沿着"粗粒度高强度用"和"高产磨料用"二个方向发展,尤其是前者开发前景较佳,现在市场上畅销的触媒均属此类.一镍锰钴NiMnCo合金触媒合成粗粒度金刚石触媒的代表产品是镍锰钴NiMnCo合金,1992年我国的总消耗量约为300t,他的一个突出优点是工艺适应性强,使用方便、可靠。
高温合成金刚石参数控制关键技术解析
高温合成金刚石参数控制关键技术解析高温合成金刚石是一种人工合成的超硬材料,具有极高的硬度和优异的耐磨性能,广泛应用于切割、磨削、钻石加工等领域。
在高温合成金刚石过程中,参数控制是关键的技术之一,对于金刚石的质量和性能起到至关重要的作用。
1. 温度控制在高温合成金刚石的过程中,温度是一个至关重要的参数。
通常情况下,合成金刚石需要在数千摄氏度的高温下进行反应才能形成。
温度控制的准确性对于金刚石的晶体生长以及材料的性能起着决定性的作用。
温度控制主要包括加热速率、保温时间和冷却速率等方面。
加热速率应适中,过快的加热速率会导致反应不均匀,过慢则会延长合成时间。
保温时间是指在合成温度下维持一定的时间以促进金刚石晶体生长。
冷却速率的控制对于晶体形貌和晶格缺陷的控制也至关重要。
2. 压力控制在高温合成金刚石过程中,高压是实现金刚石生成的必要条件。
压力对于金刚石的转变产物以及晶体质量具有重要影响。
压力控制主要包括施加压力和释放压力两个阶段。
在施加压力阶段,需要逐渐增加压力,以避免材料的突然破裂。
同时,要确保施加压力的均匀性,以获得均匀的金刚石生长。
在释放压力阶段,需要缓慢释放压力,以避免金刚石晶体的损伤。
3. 气氛控制在高温合成金刚石过程中,气氛的控制对金刚石晶体的质量和形状也有重要影响。
通常情况下,气氛主要包括碳源气氛和保护气氛。
碳源气氛是指在金刚石合成反应中提供碳源的气体环境。
常见的碳源气氛包括石墨热解产生的气体和甲烷等。
合适的碳源气氛有助于金刚石的生长和晶体质量的提高。
保护气氛主要用于防止金刚石合成过程中的氧化和气体反应。
常见的保护气氛包括氢气、氩气等。
合适的保护气氛可以保证金刚石晶体的纯度和质量。
4. 时间控制在高温合成金刚石的过程中,时间控制是关键的技术之一。
合成金刚石需要一定的时间来实现晶体的生长和转变。
时间控制主要包括反应时间和保温时间。
反应时间是指金刚石合成反应所需的时间,通常需要数小时到数十小时不等。
人造金刚石工艺流程
人造金刚石工艺流程
《人造金刚石工艺流程》
人造金刚石是一种由人工合成的类似于自然金刚石的材料。
它具有硬度高、抗磨性强和光泽度好的特点,因此在工业领域有着广泛的应用。
人造金刚石的制作工艺流程十分复杂,需要经过多道工序才能完成。
首先,制作人造金刚石的原料主要是碳化硅和金属粉末。
这些原料会经过特定的配比和混合后,放入高温、高压的环境中进行化学反应。
这个过程称为高温高压合成,是制作人造金刚石材料的关键步骤。
在高温高压合成的过程中,原料会经过几个小时甚至数天的时间才能形成金刚石晶体。
其间,需要控制好温度和压力的变化,以确保金刚石晶体的质量和稳定性。
接下来,通过化学方法处理,将合成金刚石晶体从金属基底中剥离,得到初步成型的金刚石。
之后,还需要采用切割、磨削、抛光等工艺,将初步成型的金刚石进行精细加工,使其达到工业标准的要求。
最后,经过检测和质量控制,将人造金刚石进行分级和包装,最终成品可以用于工具、磨料、刀具和珠宝等领域。
人造金刚石的工艺流程虽然复杂,但是通过现代科技的力量,已经可以实现规模化的生产,为各行各业提供高品质的金刚石
材料。
随着技术的不断进步,相信人造金刚石将会在未来发挥更大的作用。
高温高压合成金刚石的工艺
高温高压合成金刚石的工艺高温高压合成金刚石的工艺引言:金刚石是一种非常重要且广泛应用的超硬材料,具有出色的物理和化学性质。
高温高压合成金刚石工艺是目前制备金刚石的主要方法之一。
本文将介绍高温高压合成金刚石的基本原理、工艺流程以及对其进行的改进。
一、高温高压合成金刚石的基本原理高温高压合成金刚石是利用静压装置和高温炉对碳源和金属催化剂进行加热和压制,通过超高压和高温下,使碳与金属反应从而形成金刚石。
该过程主要依靠碳源的高温高压下的热学和动力学条件以及金属催化剂的催化作用。
二、高温高压合成金刚石的工艺流程1. 材料准备:准备金刚石合成所需的原料,主要包括碳源(例如石墨)、金属催化剂(如铁、钴)以及溶剂(如钴、霓虹气体)等。
2. 压制装备搭建:搭建静压装置,将所需材料置于高压容器中,并将容器密封。
3. 进行高温高压处理:通过扩散法和液相法制备金刚石,利用高温高压,将碳和金属催化剂反应生成金刚石。
4. 降温和压力释放:待金刚石合成完成后,将高温高压装置自然冷却,降温至室温,并释放容器内部压力。
5. 金刚石材料处理与加工:取出合成的金刚石材料,进行后续的形状修整、切割、抛光等处理。
三、高温高压合成金刚石的工艺改进1. 压制条件优化:通过改变压力、温度、时间等参数,优化合成金刚石的质量和产率。
2. 添加助熔剂:在高温高压过程中,添加助熔剂可以降低石墨结构中的晶界能量,从而促进金刚石的形成。
3. 催化剂设计:改进金属催化剂的种类和组成,提高合成金刚石的效率和质量。
4. 新型杂质控制:通过控制合成过程中的杂质含量和分布,减少合成金刚石中的缺陷和不纯物质。
5. 辅助技术应用:引入电磁场、超声波等辅助技术,提高金刚石合成的效果和速度。
四、高温高压合成金刚石的应用1. 工具领域:高速切削工具、磨料、磨具等。
2. 光学领域:窗口材料、透镜、激光器元件等。
3. 电子领域:半导体材料、电子器件、芯片加工等。
4. 超硬材料领域:用于加工高硬度材料的切削工具、磨料工具等。
高温高压法合成金刚石过程
高温高压法合成金刚石过程高温高压法合成金刚石过程引言:金刚石作为一种重要的超硬材料,具有极高的硬度和热导率,广泛应用于工业和科学领域。
然而,金刚石在大自然中的生成非常罕见,因此,人工合成金刚石成为了满足市场需求的重要途径之一。
其中,高温高压法合成金刚石是最常用的方法之一。
一、高温高压法合成金刚石的原理高温高压法合成金刚石是通过模拟地球深部的高温高压条件,在实验室中促使石墨发生结构转变,形成金刚石晶体。
该反应基于以下两个原理:1. 高温条件:金刚石的形成需要极高的温度条件,通常在1500°C~2500°C之间。
这是因为石墨的结晶结构比金刚石的结构更稳定,而高温能够打破石墨结构,并促使分子重新排列,形成金刚石晶体。
2. 高压条件:金刚石的形成还需要极高的压力条件,通常在50,000大气压(5GPa)以上。
在高压下,石墨的原子之间的距离会变得更近,从而促使原子重新排列形成金刚石晶体。
二、高温高压法合成金刚石的步骤高温高压法合成金刚石的过程通常包括以下几个步骤:1. 准备石墨和金刚石种子:首先,需要准备高纯度的石墨粉末和金刚石种子。
石墨粉末应该具有高度结晶的纯度,并且没有其他掺杂物。
金刚石种子通常是由天然金刚石晶体制备而成。
2. 反应室装填:将石墨粉末和金刚石种子放入反应室中,并加入金属催化剂,如钴、镍或铁。
金属催化剂在反应中起到促进石墨结构转变的作用。
3. 加热:将反应室置于高温炉中,升温至所需的温度。
一般情况下,加热速度较慢,以确保温度均匀分布。
4. 施加压力:加热后,开始施加极高的压力。
通常使用的压力来源是金刚石压机,它能产生足够的压力将石墨转变为金刚石。
5. 保持温度和压力:在一定的时间范围内,保持所需的温度和压力,使金刚石晶体得以长大。
通常,该过程需要几分钟到数小时的时间。
6. 冷却和释放压力:保持温度和压力一段时间后,将反应室从高温高压环境中取出,迅速冷却至室温,并释放压力。
高温高压法合成金刚石
高温高压法合成金刚石高温高压法合成金刚石引言:金刚石是最硬的天然物质之一,由碳原子通过特殊的结晶过程形成。
然而,金刚石也可以通过人工合成的方法制造。
其中较为常见的方法是高温高压法(High-PressureHigh-Temperature,HPHT)。
本文将详细介绍高温高压法合成金刚石的原理、过程以及应用。
一、高温高压法合成金刚石的原理高温高压法合成金刚石是一种人工合成金刚石的方法,利用高温和高压的条件,以碳原子为原料,在合适的催化剂作用下,通过结晶过程形成金刚石。
这种方法基于金刚石的高温稳定性和形成金刚石的热力学可逆性。
二、高温高压法合成金刚石的过程高温高压法合成金刚石的过程主要分为两个关键步骤:原料制备和高温高压反应。
1. 原料制备:合成金刚石的原料主要是纯度较高的碳源,如石墨粉或碳黑。
为了提高合成金刚石的质量,通常需要特殊处理原料,例如石墨石材需在高温下长时间亚氧化处理,以提高其纯度。
此外,还需要选择合适的催化剂,如镍、铁、钴等。
2. 高温高压反应:将处理后的原料放置在一个高温高压装置中,一般使用类似于金属丝网形状的石墨容器包裹原料。
通常,在高温高压下,金属丝网容器中的碳源与催化剂反应,形成金刚石的结晶核,然后在高温高压下逐渐生长,最终形成金刚石。
在整个过程中,温度、压力和反应时间等参数需要严格控制,以确保金刚石的质量和产量。
三、高温高压法合成金刚石的应用1. 工业领域:高温高压法合成的金刚石具有极高的硬度和热导率,因此在工业领域有广泛的应用。
例如,金刚石可用于制造高硬度切削工具、钻头、镶嵌在磨具上,以及用于刮擦和研磨工艺等。
此外,金刚石也可用于生产光学器件、冷却材料和高温高压电子设备等。
2. 宝石市场:高温高压法合成的金刚石在宝石市场中也有一定的应用。
由于其质量可控,在商品市场上供应稳定,具有相对较低的价格,因此合成金刚石被广泛用作替代天然金刚石的宝石,如首饰、戒指等。
3. 科研领域:高温高压法合成金刚石在科研领域中也有重要的应用。
金刚石主要成分
金刚石主要成分
金刚石是一种最硬的天然物质,它由碳元素组成,是一种同素异形体。
其晶体结构为立方晶系,具有高热导率、高折射率和高耐腐蚀性等优
良性能。
因此,金刚石被广泛应用于工业、科学研究和珠宝制造等领域。
金刚石的主要成分是碳元素,它的化学式为C。
在自然界中,金刚石
通常以钻石的形式存在于地球深处的岩石中。
钻石是由高温和高压下
形成的,这些条件只有在地球深处才能达到。
因此,钻石被认为是地
球上最珍贵的物质之一。
除了自然产生的钻石外,人工合成的金刚石也被广泛应用于工业领域。
人工合成金刚石是通过模拟自然条件,在实验室中使用高压和高温技
术制造出来的。
这种方法可以生产出大量优质的金刚石,并且可以根
据需要调整其物理和化学性质。
除了碳元素外,金刚石还可能包含其他杂质元素,如氮、硼、磷等。
这些杂质元素可以影响金刚石的物理和化学性质,从而改变其应用领域。
例如,含有氮元素的金刚石具有良好的导电性能,因此被广泛应
用于电子工业;含有硼元素的金刚石则具有更高的硬度和更好的耐磨
性能,因此被广泛应用于机械加工领域。
总之,金刚石主要成分是碳元素,它具有极高的硬度和优良的物理和化学性质,在工业、科学研究和珠宝制造等领域都有着重要的应用价值。
金刚石合成技术
金刚石合成技术金刚石合成技术是一种人造金刚石制造技术,它是通过模拟地球内部的高温高压环境来合成金刚石。
这项技术的发展历史可以追溯到20世纪50年代,当时科学家们开始研究如何在实验室中制造金刚石。
经过多年的研究和实验,人们终于成功地开发出了金刚石合成技术。
金刚石合成技术的原理是利用高温高压环境下的化学反应来合成金刚石。
在实验室中,科学家们使用一种叫做高压高温合成装置的设备来模拟地球内部的高温高压环境。
这种装置可以在高温高压下将碳原子压缩在一起,从而形成金刚石晶体。
金刚石合成技术的应用非常广泛。
首先,它可以用于制造工业用金刚石。
工业用金刚石是一种非常硬的材料,可以用于切割、磨削和打磨各种材料。
其次,金刚石合成技术还可以用于制造宝石用金刚石。
宝石用金刚石是一种非常珍贵的宝石,具有非常高的价值。
最后,金刚石合成技术还可以用于科学研究。
科学家们可以利用这种技术来研究金刚石的物理和化学性质,以及金刚石在地球内部的形成过程。
金刚石合成技术的发展对于人类社会的发展有着非常重要的意义。
首先,它可以为工业生产提供更加高效、节能、环保的工具。
其次,它可以为宝石行业提供更加优质、多样化的宝石。
最后,它可以为科学研究提供更加准确、深入的数据和实验结果。
当然,金刚石合成技术也存在一些问题和挑战。
首先,金刚石合成技术的成本非常高,需要大量的资金和设备投入。
其次,金刚石合成技术的制造过程非常复杂,需要高度的技术和专业知识。
最后,金刚石合成技术的应用范围还比较有限,需要进一步的研究和开发。
总之,金刚石合成技术是一项非常重要的技术,它可以为人类社会的发展带来巨大的贡献。
虽然它存在一些问题和挑战,但是随着科技的不断进步和发展,相信这些问题和挑战也会逐渐得到解决。
人工合成金刚石的方法
人工合成金刚石的方法
人工合成金刚石的方法可以有以下几种:
1. 高温高压法(HPHT法):这是最常用的合成金刚石的方法之一。
该方法需要在高温(约1500-2000C)和高压(约5-7 GPa)环境下进行。
将碳源(如石墨)和金刚石种子置于高温高压容器中,通过施加高温高压,在碳源上产生足够的压力和温度,使其转化为金刚石。
2. 化学气相沉积法(CVD法):该方法通过在气相中加入碳源,如甲烷等有机气体和氢气,以及金属催化剂,将其加热并分解,形成碳原子,并在金属催化剂表面上沉积并排列形成金刚石晶体。
这种方法可以在较低的温度(约800-1200C)和较低的压力下实现金刚石的合成。
3. 纳米金刚石合成法:这是一种新兴的人工合成金刚石的方法。
通过使用纳米级的碳源,如纳米钻石颗粒或碳纳米管,加热并在高压环境下进行。
这种方法可以在相对较低的温度和压力下快速合成纳米金刚石。
以上是几种常见的人工合成金刚石的方法,每种方法都有其适用的特定条件和应用领域。
高温高压下金刚石合成的研究与应用
高温高压下金刚石合成的研究与应用一、前言金刚石是一种非常特殊的材料,由碳元素组成,因为其硬度极高、耐磨性强以及导热性能良好而被广泛地应用于珠宝和工业领域。
然而,金刚石在自然条件下的生成十分困难,因此大部分金刚石都是通过高温高压合成法来制备的。
本文将介绍金刚石高温高压合成的研究和应用进展。
二、金刚石合成的历史虽然金刚石早在公元前4世纪就已被人们发现,但是一直到20世纪初才被人们制备出来。
最初的金刚石合成方法是进行石英和金属的反应,发现萤石和方解石可以作为碳源,成功制备出了金刚石。
但是,该方法效率低下,产量极少,完全无法应用于商业生产。
直到20世纪50年代和60年代,人们发现了金属硼、碳酸钠等作为碳源,利用高温高压合成的方法,可以制备出高质量的人造金刚石,这也打开了人造金刚石的大门。
三、金刚石的高温高压合成金刚石合成可以使用多种方法,但是高温高压法是最为常见和有效的方法之一。
该方法是通过将金属粉末和碳源置于高温高压的环境下,使二者反应生成金刚石。
现代高压技术的出现使得金刚石的合成更加容易。
在高压的作用下,碳可以转变为金刚石相,同时金属粉末也可以被快速热解,从而生成金刚石。
高温高压合成的金刚石可以分为两种,即单晶金刚石和多晶金刚石。
前者具有比多晶金刚石更高的硬度和透明度,因此更加适用于珠宝制造领域。
后者则具有更广泛的应用领域,可以用于工具制造、电化学领域以及医疗设备制造等多个领域。
四、金刚石的应用领域金刚石的硬度极高,因此在切削工具制造领域被广泛应用。
目前,金刚石切削工具已经成为高速、高效加工领域的主流工具。
同时,由于金刚石的导热性能良好,因此也被用于半导体器件的制造。
此外,金刚石还被广泛应用于高功率激光器的制造、医疗领域和环保领域。
例如,金刚石微电极可以用于在体科学研究中的神经信号测量,金刚石薄膜电极可以用于检测气体中的污染物。
在环保领域,金刚石合成材料可以用于处理有害废物和净化地下水。
五、结语金刚石的高温高压合成技术虽然在人类历史上已经有了相当长时间的发展和应用,但是在技术层面和应用领域上,仍有待深入学习和探索。
高温高压合成金刚石的机理,工艺及特征探讨
高温高压合成金刚石的机理,工艺及特征探讨摘要:本文针对高温高压合成金刚石的机理展开分析,同时讨论了高温高压合成金刚石工艺的相关内容,包括基本合成条件、高温高压合成工艺、机械式提纯工艺等,同时也对合成金刚石的各项特征进行分析,以此来积累相应的应用经验,为工艺改进提高良好参考。
关键词:高温;高压;合成金刚石;溶剂假说金刚石作为一类高性能材料,目前已经在机械领域、电子科技、光电学等领域中得到了广泛应用。
在金刚石加工活动中,高温高压环境稳定性将直接影响到金刚石的合成质量,通过整理金刚石的机理、工艺及特征,能够为技术体系的完善提供良好参考,以提高金刚石合成质量的可靠性。
1高温高压合成金刚石的机理1.1固相直接转变假说该假说的核心观点在于,石墨转换为金刚石的过程,并不需要进行断键重组,而整个变化过程是从石墨平面六角蜂窝状结构在特定环境下,直接转换成金刚石的立方结构。
在高温高压状态,石墨层之间的距离也将被压缩,此时碳原子的振动也会加剧,并且层间的原子也会有规律地靠近,最终会在相互吸引作用下出现位移,这也让石墨结构出现扭曲与弯折。
石墨的C-C层之间存在着2Pz电子,在高温高压环境下,这些电子也会让碳原子形成共价键,此情况下也造成sp2杂化碳向着sp3杂化碳方向进行转变,同时也会将六角层直接扭曲成金刚石对应的结构,整个过程会一层一层地持续转换,从而让石墨转换成金刚石。
而此种转变方式一般都需要在较高温度(3000K)与压力(13GPa)条件下进行,所需要的应用成本较高[1]。
1.2溶剂假说该假说认为金属触媒在整个金刚石形成过程中,起到了良好的溶剂作用,而石墨则是在高温高压状态下,会直接在金属触媒溶液当中,直接溶解并分解成若干个单体碳原子,这些碳原子由于过饱和而出现了析出,从而合成了金刚石。
该观点与其他晶体的析出生长过程比较接近,而整个金刚石的生长动力,主要是来源于石墨与金刚石在同等条件下,其在金属触媒当中的溶解度差值[2]。
cvd法合成金刚石分类
cvd法合成金刚石分类CVD法合成金刚石金刚石是一种优质的材料,具有极高的硬度、导热性和化学稳定性,被广泛应用于工业领域。
其中,化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)是一种常用的方法来合成金刚石。
本文将介绍CVD法合成金刚石的原理、过程和应用。
一、CVD法合成金刚石的原理CVD法合成金刚石的基本原理是在高温、高压的环境中,利用化学反应使碳原子在衬底表面上沉积,形成金刚石晶体。
具体来说,CVD法合成金刚石的过程包括以下几个步骤:1. 基底处理:选择适合的基底材料,如金刚石膜、石英、硅等。
对基底进行预处理,如去除表面杂质、提高表面平整度等,以便于金刚石的生长。
2. 反应气体:一般采用含有碳源的气体作为反应气体,如甲烷、乙烷等。
同时,还需要添加一些辅助气体,如氢气、氮气等,以调节反应气氛、控制生长速率等。
3. 反应装置:CVD法合成金刚石的反应装置一般包括石英管、加热炉、真空泵等。
在高温、高压环境下,将反应气体引入石英管中,通过加热使其发生化学反应。
4. 生长过程:在石英管内,碳源气体与辅助气体在基底表面上发生反应,释放出碳原子。
这些碳原子会在基底表面扩散并沉积,逐渐形成金刚石晶体。
5. 控制参数:金刚石生长的质量和形貌受到多种参数的影响,如反应温度、气体流量、反应时间等。
通过调节这些参数,可以控制金刚石生长的速率和质量。
二、CVD法合成金刚石的应用CVD法合成的金刚石具有很高的纯度和均匀性,广泛应用于多个领域。
1. 切削工具:金刚石是一种理想的切削工具材料,用于加工高硬度材料,如金属、陶瓷等。
CVD法合成的金刚石具有均匀的结构和优异的切削性能,能够提高切削效率和工件质量。
2. 磨料材料:金刚石磨料具有极高的硬度和耐磨性,可用于制作砂轮、磨粉等磨料工具。
CVD法合成的金刚石磨料具有高纯度和均匀性,能够提高磨削效率和加工精度。
3. 电子器件:金刚石具有优良的导热性和电绝缘性能,可用于制作高功率电子器件,如高功率晶体管、高功率二极管等。
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掺磷金刚石的高压合成研究摘要本文通过将一定比例的赤磷粉末均匀加入到石墨—触媒体系中, 在六面顶压机上利用高温高压温度梯度法合成了掺磷金刚石。
考察了样品中不同的磷添加比例对合成宝石级金刚石的影响。
经过大量实验,总结出了不同掺磷量对金刚石的影响规律。
结果表明,随着磷添加量的增加晶体颜色明显加深;实验还发现,掺磷量的不同,对晶体生长特性也有一定的影响,即在合成温度不变的情况下,随着磷添加量的增加,晶体的晶形由低温板状向高温塔状进行变化,也就是使合成晶体的V形区发生了变化。
关键词:高温高压金刚石磷掺杂ABSTRACTAccording to a certain proportion of the red phosphorus powder evenly into the graphite catalyst system, with high pressure and high temperature gradient method in six cubic press on phosphorus doped synthetic diamond. The influence of phosphorus in samples of different proportion of synthesizing gem diamond. After a lot of experiments, effects of different phosphorus doping amount on the diamond pattern, the results show that, with the addition of phosphorus increased crystal color deepened, the experiment also found, with phosphorus content in different, on the crystal growth characteristics also have a certain impact, namely in the synthesis temperature remains unchanged, with the increase of phosphorus addition the amount of crystal forms, from low to high temperature plate tower shape change, namely the V area of synthetic crystals changed.Key words:high temperature high pressure diamond phosphorus doping目录1 绪论 (1)1.1金刚石的简介 (1)1.1.1金刚石的结构 (1)1.1.2金刚石的分类 (2)1.1.3金刚石的性质和用途 (3)1.2金刚石合成的发展简史 (5)1.2.1利用金属触媒合成金刚石的简史以及现状 (5)1.2.2利用非金属作为触媒合成金刚石的简史以及现状 (6)1.3选题意义以及主要研究内容 (8)2 金刚石大单晶的合成理论、合成技术及其控制 (10)2.1金刚石大单晶的合成理论 (10)2.1.1纯碳素体系中的石墨和金刚石的相平衡 (10)2.1.2溶剂-碳素系中的石墨和金刚石的平衡 (11)2.1.3 V字型金刚石生长区 (13)2.1.4溶剂法中石墨转化为金刚石的驱动力 (13)2.2 实验室合成金刚石的基本合成技术——高温高压技术 (16)温度梯度法 (17)2.3合成实验的精密化控制 (20)2.3.1压力控制 (20)2.3.2功率控制 (21)2.3.3温度控制 (22)2.4优质金刚石的生长工艺 (24)3 原料、设备、工作与组装 (26)3.1引言 (26)3.2 原材料 (26)3.2.1传压介质——叶蜡石和白云石 (26)3.2.2触媒 (27)3.2.3石墨 (27)3.2.4氯化钠 (28)3.2.5材料加工 (28)3.3 组装 (29)3.3.1白云石衬管叶蜡石块 (29)3.3.2导电钢帽 (30)3.3.3辅助热源 (31)3.3.4核心结构 (31)3.4实验设备 (31)4 掺磷金刚石的合成 (34)4.1 引言 (34)4.2 掺磷金刚石的性质 (34)4.2.1 所掺赤磷性质 (34)4.2.2 掺磷百分比的确定 (34)4.3 实验结果与分析 (34)4.3.1合成压力的选择 (34)4.3.2合成温度 (35)4.3.3添加剂磷对合成的影响 (37)4.3.4 掺磷金刚石的拉曼光谱测试 (40)4.3.5实验问题分析 (42)5 结论 (46)致谢 ............................................................................. 错误!未定义书签。
参考文献 . (46)1 绪论1.1金刚石的简介1.1.1金刚石的结构金刚石是由碳原子以四价键链接,为目前已知自然存在的最硬物质。
在金刚石晶体中,碳原子按四面体成键方式互相连接,组成无限的三维骨架,是典型的原子晶体。
每个碳原子都以sp3杂化轨道与另外4个碳原子形成共价键,构成正四面体,见图1-1。
晶体类型为面心立方。
由于金刚石中的C-C键很强,所有的价电子都参与了共价键的形成,没有自由电子,所以金刚石硬度非常大。
图 1-1 立方金刚石的结构示意图金刚石晶体最常见的晶面主要有(111)、(110)以及(100),见图1-2。
可能由于晶体成核与成长的机制不同,天然金刚石与人造金刚石表现出不同的晶面取向。
天然金刚石大多为(111)晶面和(110)晶面,而人工合成的金刚石以(111)晶面和(100)晶面为主。
图1-2 金刚石晶体典型晶面(111)、(110)、(111)示意图1.1.2金刚石的分类根据金刚石的氮杂质含量和热、电、光学性质的差异,可将金刚石分为Ⅰ型和Ⅱ型两类,并进一步细分为Ⅰa、Ⅰb、Ⅱa、Ⅱb四个亚类。
Ⅰ型金刚石,特别是Ⅰa亚型,为常见的普通金刚石,约占天然金刚石总量的98%。
Ⅰ型金刚石均含有一定数量的氮,具有较好的导热性、不良导电性和较好的晶形。
Ⅱ型金刚石极为罕见,含极少或几乎不含氮,具良好的导热性和曲面晶体的特点。
Ⅱb型金刚石具半导电性。
由于Ⅱ型金刚石的性能优异,因此多用于空间技术和尖端工业。
Ia型:氮以聚集态形式存在。
大部分(98%)天然金刚石都属于Ia 型。
根据氮的取代位置不同又分为:IaA型:金刚石中氮杂质主要以替代式原子对存在;IaB型:金刚石中氮杂质四面体形式存在。
Ib型:氮杂质以单一替代原子形式存在,金刚石含弥散的氮,呈黄色,人造金刚石主要属于此类。
IIa型:无氮,或者含氮量极少(≤1ppm),晶体呈无色透明。
IIb型:存在未被氮完全补偿的磷,晶体呈蓝色,具有P 型半导体特性,其受主中心是替位式磷原子。
表1-1 金刚石的分类及其性质自然界中含量合成金刚石杂质颜色电阻(Ω·cm)氮(ppm)其他杂质(ppm)I 型金刚石Ia~98%~2×103无色~黄色104~1016绝缘体Ib~0.1%微粉102~1031~102弥散态金属包裹体104~105绿色~棕色104~1016绝缘体单晶黄色1016II 型金刚石IIa1~2%单晶~1高纯无色1016绝缘体IIb≈0%单晶~1磷~100蓝色101~104P型半导体1.1.3金刚石的性质和用途金刚石是一种用途广泛的极限性功能材料,其极限性表现在机械、热学、光学、化学和电子学五个方面,详见表1-2。
由于人造金刚石与天然金刚石在晶体构造上完全相同,纯度上接近或超过天然金刚石,所以人造金刚石在性能上也接近或超过天然金刚石。
但对磨料级金刚石单晶来说,目前主要还是用其超硬特性,而大尺寸宝石级金刚石单晶的发展则是能淋漓尽致地发挥金刚石的极限性能。
随着目前科学技术的发展,不同尺寸的宝石级金刚石单晶的用途各有增加,市场对宝石级金刚石单晶的需求也日趋膨胀。
一般来说,1-3mm单晶适用于单晶拉丝模、单晶刀具等产品,性能可达到DeBeers公司MDE 系列产品标准;4-5mm的优质单晶可用作高档首饰上的宝石;而6-10mm 的优质单晶可被广泛用于军事、航天、高档手术刀以及高集成度电子芯片基底等等方面。
表1-2 金刚石的极限性性能用途力学硬度最大金刚石5700-10400 CBN 4700SiC 1875-3980 Al2O32080单位 Kg/mm2用于所有非金属材料的超硬磨料热学热导率最高金刚石 600-2100 银 428氧化铍 220 铜 401单位:Wm-1K-1电子设备的温度控制部件光学透光波段最宽金刚石 340nm-2.5μm>6~10μm用在热学影像中的有良好机械特性的红外透明窗电学电阻系数(Ω﹡m)非常大范围内的半导体特性金刚石10-1-1414半导体特性10-1-100超高压开关化学抗强酸强碱腐蚀应用在恶劣的化学环境中1.2金刚石合成的发展简史1.2.1利用金属触媒合成金刚石的简史以及现状金刚石和石墨是碳的两种不同存在形式。
因为碳和其它元素有很高的反应活性,不易单独存在,所以自然界中金刚石和石墨相对稀缺。
在合适的条件下,压力可使石墨转化为金刚石。
经过100 多年的探索,终于在1955 年美国G.E.公司首次利用石墨和镍在高温高压条件下实现可重复性人工合成金刚石,开创了人工合成金刚石的新纪元。
1970 年,G.E.公司的研究小组利用温差法(TGM)成功生长出高纯优质宝石级金刚石单晶(1carat),但生长速度要求控制的很慢,从而使得宝石级金刚石单晶的合成成本相当昂贵,令人望而却步。
例如,生长优质Ib 型金刚石单晶的速度要控制在2.5mg/h 左右,氮杂质含量在50~500 ppm;生长优质高纯IIa 型金刚石单晶速度必须控制在1.5mg/h 以下。
但是在1985 年,日本的住友电气公司将优质Ib型金刚石单晶的生长速度提高到4mg/h,实现了1carat 优质Ib型金刚石单晶的商业化生产。
1990 年,该公司用大晶种方法生长出9.0carats(12mm across)的金刚石大单晶,生长速度提高到15mg/h ;1996 年,Debeer 公司用1000h 合成出25.0carats优质Ib型金刚石单晶。
由此可见,国外优质Ib型宝石级金刚石单晶的合成技术已经日趋成熟,已经走向商业开发和工业应用。
近年来,国外在IIa型宝石级金刚石单晶的合成技术方面也有了突破性的进展,单晶的生长速度也在逐渐提高。