现代材料分析技术
材料现代分析技术整理
第一部分 X 射线衍射分析(XRD )
1. K 系特征谱线特点:由L 、M 、N 等壳层的电子跃迁到K 壳层的空位时发出的X 射线,分
别称为K α、K β、K γ谱线,共同组成K 线系特征谱线。K α特征谱线最强,比相邻谱线
强90倍,是最常用的谱线。
2. 特征X 射线的产生:在原子内固定壳层上的电子具有特定能量,当外加能量足够大时,
可将内层电子激发出去,形成一个内层空位,外壳层的电子跃迁到内层,多余的能量以
X 射线形式放出。
3. X 射线的本质为电磁波。
4. 滤光片的目的和材料:用来过滤或降低X 射线光谱中的连续X 射线和K β线的金属薄片,K
β大部分被吸收,K α损失较小,滤波片材料的原子叙述一般比X 射线管靶材的原子序
数低1。
5. CuK α的含义:以Cu 作为靶材,高速电子轰击在铜靶上,使铜K 层产生了空位,L 层电
子跃迁到K 层,产生K 系特征辐射。
6. X 射线的衍射方向是根据布拉格方程理论推导出的。
7. 布拉格方程的推导:
含义:线照射晶体时,只有相邻面网
之间散射的X 射线光程差为波长的整数
倍时,才能产生干涉加强,形成衍射线,
反之不能形成衍射线。λθn d hkl =sin 2
讨论:
(1) 当λ一定,d 相同的晶面,
必然在θ相同的情况下才能
获得反射。
(2) 当λ一定,d 减小,θ就要增大,这说明间距小的晶面,其掠过角必须是较
大的,否则它们的反射线无法加强,在考察多晶体衍射时,这点由为重要。
(3) 在任何可观测的衍射角下,产生衍射的条件为:d 2≤λ,但波长过短导致
衍射角过小,使衍射现象难以观测,常用X 射线的波长范围是0.25~0.05nm 。
现代材料分析方法
现代材料分析方法
现代材料分析方法包括物理、化学、电子、光学、表面和结构等多个方面的技术手段,具有快速、准确、非破坏性的特点。下面将针对常用的材料分析技术进行详细介绍。
一、物理分析方法
1. 微观结构分析:包括金相显微镜分析、扫描电镜、透射电镜等技术。通过观察材料的显微结构、晶粒尺寸、相组成等参数,揭示材料的内在性质和形貌特征。
2. 热分析:如热重分析、差示扫描量热仪等。利用材料在高温下的重量、热容变化,分析材料的热行为和热稳定性。
3. 电学性能测试:包括电导率、介电常数、介电损耗等测试,用于了解材料的电导性和电介质性能。
4. 磁性测试:如霍尔效应测试、磁滞回线测试等,用于研究材料的磁性行为和磁性特性。
二、化学分析方法
1. 光谱分析:包括紫外可见光谱、红外光谱、核磁共振等。通过检测材料对不同波长的光谱的吸收、散射等现象,分析材料的组分和结构。
2. 质谱分析:如质子质谱、电喷雾质谱等。通过挥发、电离和分离等过程,分析材料中不同元素的存在及其相对含量。
3. 电化学分析:包括电化学阻抗谱、循环伏安法等。通过测量材料在电场作用下的电流、电压响应,研究材料的电化学性能和反应过程。
4. 色谱分析:如气相色谱、高效液相色谱等。利用材料在色谱柱上的分离和吸附效果,分析材料中组分的种类、含量和分布。
三、电子分析方法
1. 扫描电子显微镜(SEM):通过照射电子束,利用电子和物质的相互作用,获得样品表面的详细形貌和成分信息。
2. 透射电子显微镜(TEM):通过透射电子束,观察材料的细观结构,揭示原子尺度的微观细节。
基于成果导向的《现代材料分析测试技术》课程教学研究与实践
基于成果导向的《现代材料分析测试技术》课程教学研究与实践
《现代材料分析测试技术》课程是材料科学与工程专业的重要课程之一,它涉及到材
料的结构、性能和应用等方面的知识,对于培养学生的实际技能和科研能力具有重要意义。本文将从成果导向的角度对《现代材料分析测试技术》课程的教学研究与实践进行探讨,
旨在提出一种更加有效的教学模式,为学生提供更好的学习体验和技能培养。
一、课程设置与教学目标
《现代材料分析测试技术》课程是面向材料科学与工程专业的学生的,旨在通过系统
地介绍各种材料分析测试技术的原理、方法和应用,培养学生熟练运用各种分析测试仪器
设备的能力,掌握材料性能评价、材料失效分析、材料表面与界面分析等技能。课程设置
应该以培养学生的实际技能和科研能力为目标,将理论教学与实践操作相结合,使学生在
课堂上获取知识,实验室中实践动手,通过课题研究等形式锻炼自己的科研能力,达到提
高学生分析测试技术能力和创新思维的目的。
二、课程教学内容与方法
1. 理论教学
在教学内容上,应首先介绍基础的材料分析测试技术知识,包括光学显微镜、扫描电
子显微镜、X射线衍射仪、透射电子显微镜、原子力显微镜等仪器设备的原理和使用方法;其次介绍新型分析测试技术,如原子吸收光谱、质谱仪、核磁共振仪等的原理和应用;最
后结合具体的材料性能评价、材料失效分析、材料表面与界面分析等实际问题,进行案例
分析和讨论。
2. 实践操作
在教学方法上,应设置充分的实践操作环节,引导学生亲自动手操作各种分析测试仪器,掌握实验技能,培养实践动手的能力。通过实验,学生可以将课堂上学到的知识运用
材料现代分析方法
化学成分和价键(电子)结构。包括宏观和微区化学 成份(不同相的成份、基体与析出相的成份)、同种 元素的不同价键类型和化学环境。
有机物的分子结构和官能团。
整理课件
9
四大类材料分析方法
相应地,材料分析方法分可以分为为形貌分析、 物相分析、成分与价键分析与分子结构分析四 大类方法。
利用电磁波与分子键和原子核的作用,获得分 子结构信息。
红外光谱(IR)、拉曼光谱(Raman)、荧 光光谱(PL)等是利用电磁波与分子键作用 时的吸收或发射效应;
而核磁共振(NMR)则是利用原子核与电磁 波的作用来获得分子结构信息的。
整理课件
28
4设计材料的开发
对于新材料的发现和研制,材料开发循环过程为:
通过电磁性质变化研究分子运动——介电松弛与核磁共 振;
通过体积变化研究分子运动——热膨胀计
整理课件
34
课程说明
教材与参考书 《材料研究方法》——王培铭,许乾慰主编,科学出版社 《材料现代分析方法》——左演声,陈文哲,梁伟主编,北京工业大学
出版社 《聚合物材料表征与测试》 》——杨万泰主编,中国轻工业出版社
材料现代分析方法是关于材料分析测试 技术及其有关理论的一门课程。 成分、结构、加工和性能是材料科学与 工程的四个基本要素,成分和结构从根本 上决定了材料的性能,对材料的成分和结 构的进行精确表征是材料研究的基本要求, 也是实现性能控制的前提。
基于成果导向的《现代材料分析测试技术》课程教学研究与实践
基于成果导向的《现代材料分析测试技术》课程教学研究与实践
一、引言
近年来,材料科学与工程领域的发展迅猛,尤其是在材料分析测试技术方面取得了许
多重要的成果。为了培养具有较强实践能力和创新意识的优秀材料科学与工程人才,许多
高校开设了《现代材料分析测试技术》课程。目前国内对于该课程的教学研究和实践探索
还比较匮乏,本文旨在对基于成果导向的《现代材料分析测试技术》课程教学进行研究与
实践,为相关领域的教学改革提供参考。
1. 成果导向的理念
成果导向教育是一种注重学生学习成果的教学理念,着眼于培养学生自主学习和实践
能力。在《现代材料分析测试技术》课程中,成果导向教育理念的引入可以更好地激发学
生的学习兴趣和动力,促进他们的创新思维和实践能力的培养。
2. 教学目标的明确
在成果导向的教学理念下,《现代材料分析测试技术》课程的教学目标需要更加具体
和明确。不仅要求学生掌握基本的测试技术和工具,还需要培养学生分析复杂材料问题的
能力,并且能够独立开展材料分析测试的实践能力。
3. 教学内容的优化
成果导向的《现代材料分析测试技术》课程应更加注重实践性、前沿性和实用性。教
学内容的设置应当是贴合材料科学与工程领域的最新发展趋势,并能够引导学生主动参与
课程的讨论、实验和研究。
4. 课程评价的准确性
成果导向的《现代材料分析测试技术》课程的评价体系应当更加注重学生的学习成果
和实际能力的考核。不仅要注重学生的理论知识水平,还要充分考核学生的实验操作技能、实验设计能力和数据分析能力。
5. 教学方法的多样化
成果导向的《现代材料分析测试技术》课程应当灵活运用多种教学方法,比如案例教学、项目驱动等教学模式,以提高学生的学习参与度和学习效果。
材料现代分析方法
1、埃利斑由于光的波动性,光通过小孔发生衍射,明暗相间的条纹衍射的图样,条纹间距随小孔尺寸的变大,衍射的图样的中心有最大的亮斑,称为埃利斑。
2、差热分析是在程序的控制条件下,测量在升温、降温或恒温过程中样品和参比物之间的温差。
3、差示扫描量热法(DSC)是在程序控制条件下,直接测量样品在升温、降温或恒温过程中所吸收的或放出的热量。
4、倒易点阵是由晶体点阵按照一定的对应关系建立的空间点阵,此对应关系可称为倒易变换。
5、干涉指数在(hkl)晶面组(其晶面间距记为dhkl)同一空间方位,设若有晶面间距为dhkl/n (n 为任意整数)的晶面组(nh,nk,nl)即(H,K,L)记为干涉指数。
6、干涉面简化布拉格方程所引入的反射面(不需加工且要参与计算的面)
7、景深当像平面固定时(像距不变)能在像清晰地范围内,允许物体平面沿透镜轴移动的最大距离。
8、焦长固定样品的条件下,像平面沿透镜主轴移动时能保持物象清晰的距离范围。
9、晶带晶体中,与某一晶向【uvw】平行的所有(HKL)晶面属于同一晶带,称为晶带
10、射线若K 层产生空位,其外层电子向K 层跃迁产生的X 射线统称为K 系特征辐射,其中有L 层电子跃迁产生的K 系特征辐射称为Ka.
11、数值孔径子午光线能进入或离开纤芯(光学系统或挂光学器件)的最大圆锥的半顶角之余弦,乘以圆锥顶所在介质的折射率。
12、透镜分辨率用物理学方法(如光学仪器)能分清两个密切相邻物体的程度
13 衍射衬度由样品各处衍射束强度的差异形成的衬度成为衍射衬度。
15 质厚衬度由于样品不同区间存在原子序数或厚度的差异而形成的非晶体样品投射电子显微图像衬度,即质量衬度,简称质厚衬度。
材料现代测试分析方法
材料现代测试分析方法
材料现代测试分析方法是一种研究材料性能和组成的科学手段,包括多种实验技术和数学分析方法。
1. 结构分析方法:如X射线衍射(XRD)、中子衍射(ND)、电子衍射(ED)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)等,用于研究材料的晶体结构、晶格参数、晶体形貌、晶界、晶体缺陷等结构相关性能。
2. 成分分析方法:如质谱法、元素分析、分子光谱法等,用于研究材料的化学组成、元素含量、官能团、化学键等成分相关性能。
3. 物理性能测试方法:如热分析、热力学测试、电学测试、磁学测试等,用于研究材料的热性能、电性能、磁性能等物理性质。
4. 力学性能测试方法:如拉伸试验、硬度测试、冲击试验等,用于研究材料的力学性能,如强度、韧性、硬度等。
5. 表面性能测试方法:如接触角测量、光学测量、表面电位测试等,用于研究材料的表面特性,如润湿性、光学性能、电化学性能等。
以上只是部分材料现代测试分析方法,随着科技的进步,测试方法不断更新和发展,为材料研究提供更全面和准确的实验手段。
现代材料分析方法
现代材料分析方法
现代材料分析方法是科学家们为了研究材料的性质和结构而开发的一
系列技术和手段。随着科学技术的进步,越来越多的先进分析方法被开发
出来,使得人们能够更加深入地了解材料的特性和行为。以下将介绍一些
常见的现代材料分析方法。
1.X射线衍射(XRD):X射线衍射是一种用于确定晶体结构的分析方法。通过照射材料并观察衍射的X射线图案,可以推导出材料的晶格常数、晶胞结构以及晶体的取向和纯度等信息。
2.扫描电子显微镜(SEM):SEM使用电子束来扫描样品表面,并通
过捕获和放大反射的电子来产生高分辨率的图像。SEM可以提供有关材料
表面形貌、尺寸分布和化学成分等信息。
3.透射电子显微镜(TEM):TEM使用电子束透射样品,并通过捕获
透射的电子来产生高分辨率的图像。TEM可以提供有关材料内部结构、晶
体缺陷和晶界等信息。
4.能谱仪(EDS):能谱仪是一种与SEM和TEM配套使用的分析设备,用于确定材料的元素组成。EDS通过测量样品散射的X射线能量来识别和
定量分析元素。
5.红外光谱(IR):红外光谱是一种用于确定材料分子结构和化学键
的分析方法。通过测量材料对不同频率的红外辐射的吸收,可以确定样品
的功能基团和化学结构。
6.核磁共振(NMR):核磁共振是一种用于研究材料中原子核的分析
方法。通过利用材料中原子核的磁性质,可以确定样品的化学环境、分子
结构和动力学信息。
7.质谱(MS):质谱是一种用于确定材料中化合物和元素的分析方法。通过测量材料中离子生成的质量-电荷比,可以确定样品的分子量、结构
和组成。
8.热分析(TA):热分析是一种通过测量材料对温度的响应来研究其
现代材料分析测试技术材料分析测试技术
500
0.00142
30
0.00698
1000
0.00087
说明:经相对论校正
电子波和光波不同,不能通过玻璃透镜会聚成像。但是轴对称的非均匀电场和磁场则可以让电子束折射,从而产生电子束的会聚与发散,达到成像的目的。人们把用静电场构成的透镜称之“静电透镜”;把电磁线圈产生的磁场所构成的透镜称之“电磁透镜”。电子显微镜中用磁场来使电子波聚焦成像的装置就是电磁透镜。
3
更短的波长是X射线。但是,迄今为止还没有找到能使X射线改变方向、发生折射和聚焦成象的物质,也就是说还没有X射线的透镜存在。因此X射线也不能作为显微镜的照明光源。
4
除了电磁波谱外,在物质波中,电子波不仅具有短波长,而且存在使之发生折射聚焦的物质。所以电子波可以作为照明光源,由此形成电子显微镜。
如何提高显微镜的分辨率
光学显微镜的放大倍数可以做的更高,但是,高出的部分对提高分辨率没有贡献,仅仅是让人眼观察更舒服而已。所以光学显微镜的放大倍数一般最高在1000-1500之间。
有效放大倍数
1
根据式(1-3),要想提高显微镜的分辨率,关键是降低照明光源的波长。
2
顺着电磁波谱朝短波长方向寻找,紫外光的波长在13-390nm之间,比可见光短多了。但是大多数物质都强烈地吸收紫外光,因此紫外光难以作为照明光源。
透镜球差系数、色差系数与激磁电流的关系
材料现代测试分析技术
衍射方向的描述 结构因子概念与 消光规律 晶体取向测定准确度
X射线衍射
电子衍射(TEM上)
X射线(λ,10-1nm 数量级) 电子束(λ,10-3 nm数量级)
Hale Waihona Puke Baidu
X射线被样品中各原子核 电子束被样品中各原子核 外电子弹性散射的相长干 弹性散射的相长干涉 涉
固体
薄膜
几~几十μm
约0.1~0.5m m3
衍射仪法
物相定性分析,物相定量分析,点阵常数测 定,应力测定,嵌镶块尺寸测定,织构测定, 单晶定向,非晶态结构分析
(粉末)照相法 物相定性分析,点阵常数测定,丝织构测定
单晶体
劳埃法
单晶定向,晶体对称性测定
四圆衍射仪法 单晶结构分析,晶体学研究,化学键测定
编辑ppt
8
X射线衍射仪
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9
二、电子衍射分析
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3
基于电磁辐射及运动粒子束与物质相互作用的各种性质 建立的各种分析方法已成为材料现代测试分析方法的 重要组成部分: 衍射分析 光谱分析 电子能谱分析 电子显微分析
基于其它物理性质与材料的特征关系建立的分析方法:
色谱分析
质谱分析
热分析
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4
检测过程
信号发生 信号检测 信号处理 信号读出
晶胞的形状大小
材料现代分析技术整理
第一部份 X 射线衍射分析(XRD )
1. K 系特征谱线特点:由L 、M 、N 等壳层的电子跃迁到K 壳层的空位时发出的X 射线,别离称为K α、K β、K γ谱线,一路组成K 线系特征谱线。K α特征谱线最强,比相邻谱线强90倍,是最常常利用的谱线。
2. 特征X 射线的产生:在原子内固定壳层上的电子具有特定能量,当外加能量足够大时,可将内层电子激发出去,形成一个内层空位,外壳层的电子跃迁到内层,多余的能量以X 射线形式放出。
3. X 射线的本质为电磁波。
4. 滤光片的目的和材料:用来过滤或降低X 射线光谱中的持续X 射线和K β线的金属薄片,K β大部份被吸收,K α损失较小,滤波片材料的原子叙述一般比X 射线管靶材的原子序数低1。
5. CuK α的含义:以Cu 作为靶材,高速电子轰击在铜靶上,使铜K 层产生了空位,L 层电子跃迁到K 层,产生K 系特征辐射。
6. X 射线的衍射方向是按照布拉格方程理论推导出的。
7. 布拉格方程的推导:
含义:线照射晶体时,只有相邻面网
之间散射的X 射线光程差为波长的整数
倍时,才能产生干与增强,形成衍射线,
反之不能形成衍射线。λθn d hkl =sin 2
讨论:
(1) 当λ必然,d 相同的晶面,
必然在θ相同的情况下才能取得反射。
(2) 当λ必然,d 减小,θ就要增大,这说明间距小的晶面,其掠过角必需是较
大的,不然它们的反射线无法增强,在考察多晶体衍射时,这点由为重要。
(3) 在任何可观测的衍射角下,产生衍射的条件为:d 2≤λ,但波长太短致使
衍射角过小,使衍射现象难以观测,常常利用X 射线的波长范围是
材料现代测试技术作业分析
材料现代测试技术作业分析
材料现代测试技术是指利用现代科技手段进行材料性能测试和分析的技术方法。随着材料科学的不断发展,对材料性能的测试和分析要求也越来越高,传统的测试方法已经不能满足现代材料的需要,因此材料现代测试技术应运而生。本文将从材料现代测试技术的定义、分类、特点以及未来发展方向等方面进行深入探讨。
首先,材料现代测试技术可以被定义为利用现代科技手段对材料性能进行测试和分析的技术方法。传统的测试方法主要依靠人工操作,测试结果的准确性和可靠性存在一定的局限性。而材料现代测试技术借助先进的仪器设备和计算机处理技术,能够更精准地测试和分析材料的性能指标,具有高效、自动化、无损伤等特点。
根据测试的内容和实际需求,材料现代测试技术可以分为结构分析技术、性能测试技术和表面分析技术等。结构分析技术主要包括显微镜观察、扫描电子显微镜、透射电镜等,可以用于研究材料的晶体结构、晶粒尺寸和相态等信息。性能测试技术主要包括拉伸试验、冲击试验、硬度测试等,可以测定材料的力学性能、热响应性能等指标。表面分析技术主要包括X射
线衍射、扫描电子显微镜等,可以用于评估材料的表面形貌、元素含量以及化学活性等特征。
材料现代测试技术相较于传统测试方法具有几个显著的特点。首先,现代测试技术能够实现对材料性能的多维度测量,不仅能够获得性能指标的绝对值,还能够获取性能指标的变化规律。
其次,现代测试技术能够实现对材料的实时监测,可以对材料的性能进行动态判断和分析。此外,现代测试技术还具有高效、无损伤、自动化等特点,能够提高测试效率,减少测试成本,同时避免了材料的损坏和浪费。
材料现代分析方法知识点
材料现代分析方法知识点
现代分析方法是指在分析领域中应用先进科学技术和设备对材料进行
表征、分析和测试的一种方法。它广泛应用于材料科学、化学、生物学、
医学等领域。本文将重点介绍几种常见的现代分析方法,包括质谱分析、
光谱分析、扫描电镜、透射电镜和原子力显微镜等。
质谱分析是一种通过测量被测物质的质量和相对丰度来确定其分子结
构和组成的方法。它可以用来分析有机物、无机物和生物大分子等。质谱
仪通过将样品中的分子离子化,然后对离子进行加速、分选和检测,最终
得到质谱图。质谱图是指将离子的质量与相对丰度作为坐标绘制成的图形。质谱分析可以用于研究材料的分子结构、元素组成、反应机理等。
光谱分析是一种利用物质与辐射相互作用来研究物质性质的方法。常
见的光谱分析方法有紫外可见吸收光谱、红外光谱和拉曼光谱等。紫外可
见吸收光谱通过测量物质对紫外或可见光的吸收强度与波长之间的关系来
研究物质的电子结构和色素成分。红外光谱通过测量物质对红外光的吸收
强度与波数之间的关系来研究物质的分子结构和官能团。拉曼光谱通过测
量物质对激光散射光的频率移动来研究物质的分子振动和晶格结构。
扫描电镜是一种通过扫描样品表面的电子束来获得高分辨率图像的方法。它可以提供材料的表面形貌、结构和成分等信息。扫描电镜可以分为
传统扫描电镜和透射电镜。传统扫描电镜通过扫描物质表面的二次电子和
反射电子来获得样品表面形貌和成分分布。透射电镜则通过将电子束穿过
样品来获得样品的内部结构和晶格信息。扫描电镜在材料科学、生物医药
和纳米材料等领域有着广泛的应用。
透射电镜是一种通过透射电子来研究材料的内部结构和成分的方法。
现代材料分析测试技术
这些波必须是相干波源 (同方向、同频率、位相 差恒定)
X射线的衍射
•X射线在晶体中的衍射现象,实质上是大量的原子散射波互相干涉的结果,每种晶体所产生的衍射花样都反映 出晶体内部的原子分布规律。
○ 衍射花样的特征有两方面来定义: •衍射线在空间的分布规律(衍射方向)
1 : 1 :1 h:k:l pqr
晶向与晶向指数
在晶体点阵中,连接两个结点的直线所确定的方向称为晶向。晶向用晶向指数[uvw] 表示。确定晶向指数的方法:
1. 在一簇互相平行的结点直线中引出过坐标原点的直线; 2. 在该直线上选距原点最近的结点,量出它的结点坐标; 3. 将三个坐标用方括号括起来,即为该结点直线的晶向指数。
晶体的基 本性质
一. 均一性:指晶体内部在其任一部位都具有相同性质的特性。如密 度、化学性质。
二. 异向性:指晶体的性质因观测方向的不同而表现出差异的特性。 如硬度,解理。
三. 对称性:指晶体中的相同部分或性质,能够在不同方向或位置上 有规律地重复出现。
四. 自限性:指晶体能自发地形成封闭的凸几何多面体外形的特点。
Βιβλιοθήκη Baidu
,
晶面指数
描述晶面或一族互相平行面网在 空间位置的符号(hkl)称为晶面 符号或密勒符号。其中hkl称为晶 面指数或晶面指标。
现代材料分析方法
现代材料分析方法
现代材料分析方法是指利用现代科学技术手段对材料的组成、结构、性能等进行分析的方法。随着材料科学和表征技术的发展,现代材料分析方法也得到了极大的丰富和完善,下面将介绍几种常见的现代材料分析方法。
首先是扫描电子显微镜(SEM)。SEM是一种利用电子束照射样品表面并检测所产生的信号来观察材料微观形貌和获得相关信息的方法。通过SEM可以获得材料表面的形貌、纹理、晶粒大小等信息,对于材料的结构和性能分析非常有用。
其次是透射电子显微镜(TEM)。TEM是一种利用电子束穿透样品来观察样品内部结构和获得高分辨率图像的方法。与SEM不同,TEM可以提供材料的原子级分辨率图像,对于研究材料的晶格、晶界、纳米结构等非常重要。
再次是X射线衍射(XRD)。XRD是一种利用材料对X射线的衍射来分析材料结构的方法。通过XRD可以得到材料的晶体结构信息,如晶格常数、晶面间距和晶体取向等,对于材料的物相分析、相变研究等具有重要意义。
此外,还有紫外可见光谱(UV-Vis)、红外光谱(IR)、拉曼光谱(Raman)等光谱分析方法。这些方法通过测量材料对不同波长的光的吸收、散射或发射来研究材料的分子结构、内部结构等性质。光谱分析方法在材料的成分分析、结构表征、表面修饰等方面具有广泛的应用。
最后,电子能谱(XPS)和扫描隧道显微镜(STM)等表面分析方法也是现代材料分析的重要手段。XPS可以提供材料表面元素组成和化学状态的信息,而STM则可以直接观察到材料表面的原子和分子结构,对于研究材料表面性质、表面修饰以及表面反应机理等非常重要。
现代材料分析技术及应用
现代材料分析技术及应用
现代材料分析技术是指利用现代科学技术手段对材料进行全面、准确、细致的研究和分析的方法。它是材料科学领域研究的基础和支撑,广泛应用于材料的研发、生产和质量控制等方面。现代材料分析技术包括物理性质测试、化学分析、显微成像、表面分析、光谱分析、电子显微镜等多个方面。下面将介绍几种常见的现代材料分析技术及其应用。
一、物理性质测试技术
物理性质测试技术是对材料的物理性能进行测试和分析的方法。常见的测试技术有强度测试、硬度测试、韧性测试、热膨胀系数测量等。这些测试技术可以用于评估材料的强度、硬度、韧性、热稳定性等性能。例如,在金属材料的研发过程中,可以通过硬度测试来评估其抗拉强度和延展性,进而确定最佳的工艺参数。
二、化学分析技术
化学分析技术是对材料中化学成分进行定性和定量分析的方法。常见的化学分析技术包括光谱分析、质谱分析、原子吸收光谱分析等。这些技术可以确定材料中元素的种类、含量以及化学结构。化学分析技术在材料研发过程中起到了重要作用,可以选择最佳的原材料组合,提高材料的性能。
三、显微成像技术
显微成像技术是观察和研究材料的微观形貌和结构的方法。常见的显微成像技术有光学显微镜、电子显微镜和原子力显微镜等。这些技术可以提供高分辨率的图
像,揭示材料的表面形貌、内部结构和缺陷等信息。显微成像技术广泛应用于材料的质量检测、缺陷分析和外观评估等方面。
四、表面分析技术
表面分析技术是研究材料表面性质和表面结构的方法。常见的表面分析技术有扫描电子显微镜、表面拉曼光谱、X射线光电子能谱等。这些技术可以提供材料表面的化学组成、成分分布、晶体结构等信息。表面分析技术对于材料的表面改性、涂层质量控制等有重要意义。
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1. 基本概念
(1) 成象理论 (2) 电子显微镜光路图 (3) 图像衬度 (4) 分辩力
阿贝成象理论(Abby’s Theory of Image Formation)
图像衬度(Image Contrast)
衍射衬度(Diffraction contrast): 常规电镜 - 取决于衍射条件和物镜光阑大小和位置 衬度 — 光阑大小 — 分辩力
Sin2tsg 2sg2
运动学理论是动力学理论的一个特例 !
3.3. 完整晶体的特征图像
g
2
2
2 g
Sin2 (tsgeff (sgeff )
)
当 t 变化时: 当 sg 变化时:
厚度消光条纹 (厚度条纹) 弯曲消光条纹 弯曲条纹 弯曲中心
4. 晶体缺陷分析
5.1.2 运动学公式和动力学公式
2.2 简单SAD花样的标定(Indexing of simple SAD patterns)
2.2.1尝试校核法( Trier and error: ) 2.2.2 已知相机常数法(Known camera constant) 2.2.3 标准衍射谱法(Standard diffraction patterns) 2.2.4 计算机标定法(Computer simulation)
h2k2l2
R2
R3
000
R1
h1k1l1
h3k3l3
( R1 )2 R2
N1 N2
h12 h22
k12 k22
l12 l22
cos
h1h2 k1k2 l1l2
h12 k12 l12 h22 k22 l22
B = R1 x R2
fcc : N=3, 4, 8, 11, 12, 16, 19,……. bcc : N= 2, 4, 6, 8, 10, …….
相位衬度(Phase contrast): HREM - 取决于 PCTF, 也即 CS 和 Df
分辩力(Resolution)
衍射分辩率:
dd
0.61
衍射和球差限制的分辩率:
d
0.61
CS 3
C 1/ 4 1/ 4
opt
S
dmin 0.65CS1/ 4 3/4
D = 2f
1
Df 1.2(CS) 2
位错核心一侧的一条黑线 靠近表面的位错 衬度和图像宽度
不可见准则(Invisibility Criteria)
螺位错( screw dislocations):
R ( b )Tan1(z y) / x b
2
2
g b 0 不可见(Invisible)
g b 0 可见(Visible)
3. 衍射衬度理论
3.1 基本假设
运动学理论的基本假设
运动学理论
晶柱假设 平面波假设 双束近似 衍射束总是比透射束弱得多 电子只能衍射一次 不存在对电子的吸收
动力学理论
晶柱假设 平面波假设
双束近似
衍射束可以和透射束一样强 电子可以多次衍射 电子吸收不可避免
3.2 公式
运动学公式 :
t
g (i /g ) exp[2isg z]dz
刃位错( edge dislocations):
运动学公式:
g
( i g
)
t 0
exp[2i(
sg
z
g
R )]dz
2g R
动力学公式:
d0
dz
(0
/0' )
(i
/
g
)
(1
/
' g
)
g
d0
dz
(i
/
g
)
(1
/
' g
)
0
(
/0) 2i(sg
g (dR / dz)
g
4.2 位错
4.2.1完全位错 不可见准则
柏氏矢量的确定 完全位错的衬度特征:
i 0
0
exp(2isg
z)
i g
g
样品对电子的吸收:
1
g
1
g
i
' g
1
0
1
0
i
0'
0 0'
— 均匀吸收系数(Uniform absorption coefficient)
g
' g
— 反常吸收系数(Abnormal absorption coefficient)
g
2
2
2 g
Sin2 (tsgeff (sgeff )
)
如果 sg = 0, 则 |g |2 = (t/g)2 假定 > g/ 则有 |g |2 > 1 这与能量守恒定律矛盾!
即, 理论失效!! 所以, |sg|>> 0, or t < g/
如果 sg >> 1/g,
那么
seff g
sg
g
2
2
2 g
Sin2 (tsgeff (sgeff )2
)
2
2 g
衍射和色差限制的分辩率:
d
0.61
CC
DE E
opt
0.61
( CC
DE
)
1 2
E
球差和色差哪一个更重要?
象散
D = 2f
PCTF - 相位衬度传递函数
2. 电子衍射
2.1. 基本概念
(1) 厄瓦尔德球
(2) 衍射斑点的强度: (3) 衍射花样的类型:
I g f (Fg , sg )
非晶试样
Fra Baidu bibliotek
电子衍射与X射线衍射的比较
相似性
差异性
1.波的叠加性导致: 布拉格公式 结构因子 消光规律
2.衍射花样类型: 单晶花样 多晶花样
3.单晶花样能确定晶体 位向
1.单原子散射的特性: (E): 受原子核散射 (X):受核外电子散射
2.衍射波长及衍射角: (E):λ=10-3 nm,衍射角2θ从0~3° (X):λ=10-1 nm,衍射角2θ从0~180°
3.衍射斑点强度 IE / IX 106 ~ 107
4.辐射深度:(E):低于1μm数量级 (X):低于100μm数量级
5.作用样品体积:(E):V 1μm3 10 9 mm 3 (X):V 0.1 ~ 5mm3
6.晶体位向测定精度: (E):用斑点花样测定,约±3° (X):优于1°
注:(E)表示电子衍射,(X)表示X射线衍射。
0
g VcCos / f ( ) g (i /g )( Sintsg /sg ) exp[ itsg ] Ig g 2 ( /g )2 (Sin2tsg / 2sg2 ) 1 I0
动力学理论(Dynamic Theory):
d0 dz
i 0
0
i g
g
exp( 2isg z)
d g dz
环状衍射花样(Ring pattern)
晶体试样:
单晶斑点花样(Single crystal spot pattern)
菊池线花样(Kikuchi line) (4) 电子衍射可提供的信息:
晶体结构
取向关系
晶体学信息:
晶体学方向
相鉴定
入射束方向与法线方向
第二相粒子形状
衍衬条件的确定
(5) X-射线衍射和电子衍射的比较