CN_x薄膜的PCVD制备及研究

CN_x薄膜的PCVD制备及研究
彭军;彭应全;姚江宏;陈光华
【期刊名称】《甘肃科学学报》
【年(卷),期】1996(8)3
【摘要】ＣＮｘ薄膜是一种新型的超硬膜。

我们用等离子增强化学气相淀积法（ＰＣＶＤ），制备出了含氮量为２１ａｔ％的ＣＮｘ膜，并用俄歇电子探针，红外谱仪和拉曼光谱仪及Ｘ光衍射仪对其结构进行了研究。

结果表明膜中氮元素主要以Ｃ≡Ｎ，Ｃ＝Ｂ，Ｃ—Ｎ键的形式与碳结合。

ＣＮｘ薄膜中含有β－Ｃ３Ｎ４的微晶成分。

其显微硬度为Ｈｖ＝２６５０ｋｇ／ｍｍ２。

【总页数】3页(P14-16)
【关键词】薄膜;气相淀积;氮化碳;PCVD;制备
【作者】彭军;彭应全;姚江宏;陈光华
【作者单位】兰州大学物理系,北京工业大学应用物理系
【正文语种】中文
【中图分类】O484.1
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