偏振光反射法量薄膜厚度和折射率的研究11

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光学薄膜折射率和厚度测试技术及研究

光学薄膜折射率和厚度测试技术及研究

e l l i p s o m e t r y i s u s e d t o s e t t h e p r i m a r y s t a n d a r d o f o p t i c a l f i l m r e f r a c t i v e i n d e x a n d t h i c k n e s s
硕{ 一 论文
光学薄膜折射率和厚度测试技术及研究
毋响着各种新型薄膜器件和技术在新型武器装备上的应) I I . 而在国外,美国和英国已建立了光学薄膜折射率及厚度标准装置,美国的 . J . A . W o o la m公司和法国的 J Y公司生产的测量薄膜折射率及厚度的椭偏仪更是处于世
各向异性材料的测量等,并对这些测试结果进行了详尽的数据分析。
1 . 4 技术关键
光学薄膜折射率及厚度测试的难点及技术关键有以下几点: 1 ) 由于椭偏仪系统测试的直接值是甲和△, 而要获得光学薄膜折射率及厚度 值,必须先建立一个模型,由这个模型的预设值和实际测量值进行拟合, 通过计算机解超越方程从而得到折射率和厚度值。因此, 模型的建立是至
c o m m o n l y u s e d i n t h e w o r l d , a me t h o d w h i c h d e r i v e d f r o m v a r i a b l e a n g l e s p e c t r o s c o p i c
在以上参数中,薄膜的反射比、透射比标准我们已在 “ 八五”期间完成。而其他参数 目
前还没有标准, 例如折射率和厚度, 这些参数对薄膜的设计和工艺制造都是不可缺少的。 薄膜技术和器件的广泛应用, 推动着薄膜测试技术的发展, 同时面对武器装备的不 断更新和发展, 对提高薄膜的性能、评价膜系的优劣, 并对己有的测试仪器进行量值统 一提出了更高的要求。 在这方面国外研究起步较早,发展很快,加之先进的加工手段和

实验三用反射椭偏仪测量折射率和薄膜厚度

实验三用反射椭偏仪测量折射率和薄膜厚度

实验三 用反射椭偏仪测量折射率和薄膜厚度物理学院物理系 00004037 贾宏博 同组人:00004038 孙笑晨1 实验原理当样品对光存在强烈的吸收(如金属)或者待测薄膜厚度远远小于光的波长时,通常用来测量折射率的几何光学方法和测量薄膜厚度的干涉法均不再适用。

本实验用一种反射型椭偏仪测量折射率和薄膜厚度的方法。

用反射型椭偏仪可以测量金属的复折射率,并且可以测量很薄的薄膜(几十埃)。

反射型椭偏仪的基本原理是,用一束椭圆偏振光作为探针照射到样品上,由于样品对入射光中平行于入射面的电场分量(以下称p 分量)和垂直于入射面的电场分量(以下简称s 分量)由不同的反射、透射系数,因此从样品上出射的光,其偏振状态相对于入射光来说要发生变化。

样品对入射光电矢量的p 分量和s 分量的反射系数之比G 正是把入射光与反射光的偏振状态联系起来的一个重要物理量。

同时,G 又是一个与材料的光学参量有关的函数。

因此,设法观测光在反射前后偏振状态的变化可以测定反射系数比,进而得到与样品的某些光学参量(例如材料的复折射率、薄膜的厚度等)有关的信息。

1.1 光在两种均匀、各向同性介质分界面上反射如图3-1所示,单色平面波以入射角1ϕ入射到折射率为1n 的介质1和折射率为2n 的介质2的分界面上,折射角为2ϕ。

选用p 、s 分量的方向分别与入射光、反射光、透射光的传播方向构成右旋直角坐标系。

用(ip E ,is E ),(rp E ,rs E ),(tp E ,ts E )分别表示入射、反射、透射光电矢量的复振幅。

定义下列反射和透射系数:/,//,/p rp ip s rs isptp ip s ts is r E E r E E t E E t E E ==⎧⎪⎨==⎪⎩(3-1)图3-1光在两种介质界面上的反射把,p s r r 写成复数形式:exp(),exp()p p p s s s r r i r r i δδ==(3-2) 定义反射系数比/p s G r r = (3-3) 通常写成i G tg e ∆=ψ(3-4)由式(3-2)和式(3-3)可知/p s tg r r ψ=,p s δδ∆=-(3-5)根据Maxwell 方程组和界面上的连续条件,可得波在界面上反射的Fresnel 公式:211221121212112211221212112112211212111(cos cos )/(cos cos )()/()(cos cos )/(cos cos )sin()/sin()2cos /(cos cos )2sin cos /sin()cos()2cos /(cos p s psr n n n n tg tg r n n n n t n n n t n n ϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕ=-+=-+=-+=--+=+=+-=1222112cos )2sin cos /sin()n ϕϕϕϕϕ⎧⎪⎪⎨⎪⎪+=+⎩(3-6) 利用折射定律1122sin sin n n ϕϕ=(3-7)结合式(3-5)、(3-6)、(3-7)得21/2221111sin 11G n n tg G ϕϕ⎡⎤-⎛⎫=+⎢⎥ ⎪+⎝⎭⎢⎥⎣⎦(3-8)由式(3-8)可以看出,如果1n 是已知的,那么在一个固定的入射角1ϕ下测定反射系数比G ,则可以确定介质2得复折射率2n 。

椭圆偏振法测量薄膜厚度和折射率实验报告

椭圆偏振法测量薄膜厚度和折射率实验报告

椭圆偏振法测量薄膜厚度和折射率实验报告实验名称:椭圆偏振法测量薄膜厚度和折射率实验目的:利用椭圆偏振法测量薄膜的厚度和折射率,掌握椭圆偏振法的基本原理和实验操作方法。

实验原理:椭圆偏振法是一种常用的测量薄膜光学性质的方法。

当偏振光通过具有一定折射率的薄膜时,会发生透射和反射,经过反射和透射之后的光束会发生干涉现象。

当入射光是偏振光时,通过表层膜的透射光经过增偏器后变为线偏振光,其振动方向决定于表层膜的光学性质以及入射角。

通过调节增偏器的方向和旋转其角度,使得通过增偏器的振动方向与振动椭圆的长轴平行,此时称之为白光不通过表层膜,反射线偏振光与透射线偏振光的相位差为0. 形成一个相干叠加的椭圆偏振光。

根据椭圆偏振光的特性,可以通过测量椭圆偏振光的特性参数(主轴角度、椭圆离心率等)来确定薄膜的厚度和折射率。

实验装置:椭圆偏振仪、光源、待测试薄膜样品。

实验步骤:1. 启动椭圆偏振仪,调整光源使其达到合适的亮度和稳定性。

2. 将待测薄膜样品放置在椭圆偏振仪的样品台上,并通过对焦镜调整样品的焦距。

3. 调整增偏器的方向,使通过增偏器的线偏振光振动方向与椭圆的长轴平行。

4. 调整旋转台上的角度,使反射线偏振光与透射线偏振光的相位差为0,此时形成相干的椭圆偏振光。

5. 在椭圆偏振仪上的读数器上记录椭圆偏振光的主轴角度、椭圆离心率等参数。

6. 重复上述操作,测量多组数据,以提高测量准确度。

7. 根据测量得到的参数计算薄膜的厚度和折射率。

实验结果:通过测量多组数据,记录椭圆偏振光的主轴角度和椭圆离心率等参数,得到一组薄膜的厚度和折射率。

注意保留合适的有效数字。

实验讨论:1. 实验中应确保光源的稳定性和一致性,以获得准确的测量结果。

2. 实验中可以通过调整增偏器和旋转台的角度,使椭圆偏振光的参数达到最佳值,以提高测量精度。

3. 实验中应注意测量时的环境条件,避免与外部环境光的干扰。

实验结论:通过椭圆偏振法测量薄膜的厚度和折射率,可以得到薄膜的光学性质参数。

椭圆偏振光法测量薄膜的厚度和折射率

椭圆偏振光法测量薄膜的厚度和折射率

椭圆偏振光法测量薄膜的厚度和折射率摘要:本实验中,我们用椭圆偏振光法测量了MgF 2,ZrO 2,TiO 2三种介质膜的厚度和折射率,取MgF 2作为代表,测量薄膜折射率和厚度沿径向分布的不均匀性,此外还测量了Au 和Cr 两种金属厚膜的折射率和消光系数。

掌握了椭圆偏振光法的基本原理和技术方法。

关键词:椭偏法,折射率,厚度,消光系数 引言:薄膜的厚度和折射率是薄膜光电子器件设计和制备中不可缺少的两个参数。

因此,精确而迅速地测定这两个参数非常重要。

椭圆偏振光法就是一个非常重要的方法。

将一束单色椭圆偏振光投射到薄膜表面,根据电动力学原理,反射光的椭偏状态与薄膜厚度和折射率有关,通过测出椭偏状态的变化,就可以推算出薄膜的厚度和折射率。

椭圆偏振光法是目前测量透明薄膜厚度和折射率时的常用方法,其测量精度高,特别是在测量超薄薄膜的厚度时其灵敏度很高,因此常用于研究薄膜生长的初始阶段,而且由于这种方法时非接触性的,测量过程中不破坏样品表面,因而可用于薄膜生长过程的实时监控。

本实验的目的是掌握椭偏法测量薄膜的厚度和折射率的原理和技术方法。

测量几种常用介质膜的折射率和厚度,以及金属厚膜的复折射率。

原理:1. 单层介质膜的厚度和折射率的测量原理(1)光波在两种介质分界面上的反射和折射,有菲涅耳公式:121122112112211122322323223223322233cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos p s p s n n r n n n n r n n n n r n n n n r n n ϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕ-⎧=⎪+⎪-⎪=⎪+⎪⎨-⎪=⎪+⎪-⎪=⎪+⎩(tp-1); (2)单层膜的反射系数图1 光波在单层介质膜中传播以上各式中1n 为空气折射率,2n 为膜层的折射率,3n 为衬底折射率。

1ϕ为入射角,2ϕ,3ϕ分别为光波在薄膜和衬底的折射角。

实验椭圆偏振法测量薄膜厚度和折射率

实验椭圆偏振法测量薄膜厚度和折射率

实验:椭圆偏振法测量薄膜厚度和折射率随着现代科技的快速发展,薄膜材料的研究和应用受到越来越多的关注。

如何快速准确的测量薄膜材料的厚度和折射率等光学参数成为急需解决的问题之一。

椭圆偏振法是一种先进的测量薄膜纳米级厚度的方法,这种方法测量灵敏度高(可探测小于0.1nm的厚度变化)、精度较好(比干涉法高一到两个数量级)、对待测样品无损伤并且能同时测量薄膜的厚度和折射率。

因而,目前椭圆偏振法已经在光学、半导体、生物、医学等诸方面得到较为广泛的应用。

实验目的:1.了解椭圆偏振测量的基本原理,掌握利用椭偏仪测量薄膜厚度和折射率的基本方法。

2.学会组装椭圆偏振仪,熟悉椭圆偏振仪使用。

实验原理:椭圆偏振法测量的基本思路是,经由起偏器产生的线偏振光经取向一定的1/4波片后获得等幅椭圆偏振光,把它投射到待测样品表面时,只要起偏器取适当的透光方向,被待测样品表面反射出来的将是线偏振光.根据偏振光在反射前后的偏振状态变化,包括振幅和相位的变化,便可以确定样品表面的许多光学特性。

图1光在薄膜和衬底系统上的反射和折射图1所示为一光学均匀和各向同性的单层介质膜.它有两个平行的界面,通常,上部是折射率为n1的空气(或真空).中间是一层厚度为d折射率为n2的介质薄膜,下层是折射率为n3的衬底,介质薄膜均匀地附在衬底上,当一束光射到膜面上时,在界面1和界面2上形成多次反射和折射,并且各反射光和折射光分别产生多光束干涉.其干涉结果反映了膜的光学特性。

设φ1表示光的入射角,φ2和φ3分别为在界面1和2上的折射角.根据折射定律有:n 1sin φ1=n 2sin φ2=n 3sin φ3(1) 光波的电矢量可以分解成在入射面内振动的P 分量和垂直于入射面振动的s 分量。

用r 1p 、r 1s 表示光线的p 分量、s 分量在界面1的反射系数,用r 2p 、r 2s 表示光线的p 分量、s 分量在界面2的反射系数。

用E ip 、E is 表示入射光波电矢量的p 分量和s 分量,用E rp 、E rs 分别表示各束反射光电矢量的p 分量和s 分量的和。

椭偏仪的测折射率和薄膜厚度

椭偏仪的测折射率和薄膜厚度

椭偏仪测折射率和薄膜厚度实验简介椭圆偏振光在样品表面反射后,偏振状态会发生变化,利用这一特性可以测量固体上介质薄膜的厚度和折射率。

它具有测量范围宽(厚度可从10^-10~10^-6m量级)、精度高(可达百分之几单原子层)、非破坏性、应用范围广(金属、半导体、绝缘体、超导体等固体薄膜)等特点。

目前商品化的全自动椭圆偏振光谱仪,利用动态光度法跟踪入射光波长和入射角改变时反射角和偏振状态的变化,实现全自动控制以及椭偏参数的自动测定、光学常数的自动计算等,但实验装置复杂,价格昂贵。

本实验采用简易的椭圆偏振仪,利用传统的消光法测量椭偏参数,使学生掌握椭偏光法的基本原理,仪器的使用,并且实际测量玻璃衬底上的薄膜的厚度和折射率。

在现代科学技术中,薄膜有着广泛的应用。

因此测量薄膜的技术也有了很大的发展,椭偏法就是70年代以来随着电子计算机的广泛应用而发展起来的目前已有的测量薄膜的最精确的方法之一。

椭偏法测量具有如下特点:1. 能测量很薄的膜(1nm),且精度很高,比干涉法高1-2个数量级。

2. 是一种无损测量,不必特别制备样品,也不损坏样品,比其它精密方法:如称重法、定量化学分析法简便。

3. 可同时测量膜的厚度、折射率以及吸收系数。

因此可以作为分析工具使用。

4. 对一些表面结构、表面过程和表面反应相当敏感。

是研究表面物理的一种方法。

实验仪器椭偏仪测折射率和薄膜厚度实验装置包括:激光器(氦氖或半导体)、分光计、光栏、望远镜、黑色反光镜、薄膜样品、起偏器、检偏器、1/4波片。

实验内容1. 熟悉并掌握椭偏仪的调整椭偏仪实物图椭偏仪结构示意图椭偏仪的实物如上图所示。

了解图中各部件的作用,并学会正确调整。

2. 调整光路,并使入射到样品的光为等幅椭圆偏振光(1) 安装半导体激光器并调整分光计,使半导体激光器光束、平行光轴的中心轴、望远镜筒的中心轴同轴。

(2) 标定检偏器透光轴的零刻度,并使检偏器的透光轴零刻度垂直于分光计主轴。

3.1 椭偏光法测量薄膜的厚度和折射率

3.1 椭偏光法测量薄膜的厚度和折射率

实验3.1 椭偏光法测量薄膜的厚度和折射率一、引言椭圆偏振测量法,简称椭偏光法,是测量研究介质表面界面或薄膜光学特性的一种重要光学方法。

它是将一束偏振光非垂直地投射到被测样品表面,由观察反射光或透射光的偏振状态的变化来推知样品的光学特性,例如薄膜的厚度,材料的复折射率等。

这种测量方法的优点是测量精度非常高,而且对样品是非破坏性的,它可以测量出薄膜厚度约0.1 nm的变化。

因此。

可以用于表面界面的研究,也可用于准单原子层开始的薄膜生长过程的实时自动监测。

椭偏光法的应用范围广泛,自然界中普遍存在着各种各样的界面和薄膜,人工制备薄膜的种类也越来越多,因此椭偏光法应用于物理、化学、表面科学、材料科学、生物科学以及有关光学、微电子、机械、冶金和生物医学等领域中。

在材料科学中椭偏测量常用来测量各种功能介质薄膜、硅上超薄氧化层以及超薄异质层生长的实时监控、溅射刻蚀过程的实时监控等。

自1945年罗中(A. Rothen)描述了用以测量薄膜表面光学性质的椭偏仪以来,随着科学技术的迅速发展,椭偏光法发展很快,椭偏仪的制造水平也不断提高,特别是使用计算机处理复杂繁冗的椭偏测量数据后使测量快捷简便了许多。

二、实验目的1. 了解椭偏光测量原理和实验方法。

2. 熟悉椭偏仪器的结构和调试方法。

3. 测量介质薄膜样品的厚度和折射率,以及硅的消光系数和复折射率。

三、实验原理本实验介绍反射型椭偏光测量方法。

其基本原理是用一束椭偏光照射到薄膜样品上,光在介质膜的交界面发生多次的反射和折射,反射光的振幅和位相将发生变化,这些变化与薄膜的厚度和光学参数(折射率、消光系数等)有关,因此,只要测出反射偏振状态的变化,就可以推出膜厚和折射率等。

1. 椭圆偏振方程图1所示为均匀、各向同性的薄膜系统,它有两个平行的界面。

介质1通常是折射率为n 1的空气,介质2是一层厚度为d 的复折射率为n 2的薄膜,均匀地附在复折射率为n 3的衬底材料上。

φ1为光的入射角,φ2和φ3分别为薄膜中和衬底中的折射角。

椭偏法测量sio2薄膜折射率与厚度实验报告

椭偏法测量sio2薄膜折射率与厚度实验报告

东南大学材料科学与工程实验报告学生姓名班级学号实验日期2014.9.10 批改教师课程名称方向大型实验——电材批改日期实验名称发光材料激发光谱和发射光谱测试报告成绩小组成员一、实验目的1、了解椭偏法测试的基本原理;2、掌握椭偏法测试的基本操作技能二、实验原理椭圆偏振法(简称椭偏法)是一种光学测量技术。

它通过测量一束椭圆偏振光波非垂直地投射到样品上发射后偏振状态的变化,来测量薄膜的光学参数(折射率及消光系数)及薄膜厚度。

由于偏振状态的变化对样品光学参数的微小差异非常灵敏,因此该方法对薄膜的测量有很高灵敏度,能测出膜厚1Å左右的变化,测量范围从10Å到几微米。

此外,椭偏法为非接触测量,相对于SEM,TEM,台阶仪,对样品来说为无损检测。

椭偏法测试原理如上图所示:用一束光作为探针入射到均匀介质薄膜样品上,由于样品对入射光中平行于入射面的电场分量p和垂直于入射面的电场分量s有不同的反射系数和透射系数,因此从样品上发射的光,其偏振状态相对于入射光发生了变化。

通过观察光在反射前后偏振状态的改变,可以得到与样品的某些光学参数,如折射率和厚度。

三、实验内容及步骤1、将样品放置在样品台上,待测表面朝向固定板。

开启控制电脑,开启主机电源;2、打开测试软件,设置光源类型(氦氖激光),衬底类型(si衬底),入射角度(默认70°);3、点击工具栏开始按钮,椭偏仪开始测量,约几分钟后测试结束,此时弹出一对对话框,点击对话框上的“快速”按钮,即显示测试结果;4、对样品进行周期判断。

当光源波长为632.8nm,入射角为70°时,SiO2薄膜的一个测试周期约为283nm,当膜厚大于此值,需采用双角度测量;5、双角度测量。

点击工具栏“设置”按钮,选择“双角度”测量模式,此时弹出对话框提示分别在70°和60°角度下测量。

先在70°入射角度下测量,然后调整光源座和接收器座在60°位置,再进行测量。

测量薄膜厚度的方法

测量薄膜厚度的方法

测量薄膜厚度的方法测量薄膜厚度是一项重要的技术任务,它在很多领域都有广泛的应用,如材料科学、纳米科技、光学等。

本文将介绍几种常见的测量薄膜厚度的方法。

一、光学干涉法光学干涉法是一种基于干涉现象的测量方法。

当光线从空气射入不同折射率的介质中时,会发生反射和透射。

薄膜的厚度决定了光线的相位差,通过测量干涉条纹的变化,可以计算出薄膜的厚度。

这种方法适用于透明薄膜的测量,如薄膜涂层厚度的测量。

二、原子力显微镜(AFM)原子力显微镜是一种利用探针与样品表面之间的相互作用力来进行测量的仪器。

通过探针在样品表面扫描,可以获取样品表面的拓扑图像,并结合探针与样品之间的力信号,可以计算出薄膜的厚度。

AFM具有高分辨率和高灵敏度的优点,适用于测量纳米薄膜的厚度。

三、X射线衍射法X射线衍射法是一种基于X射线与物质相互作用的测量方法。

X射线经过物质时会发生衍射,不同厚度的薄膜会产生不同的衍射图样。

通过测量衍射图样的特征参数,可以计算出薄膜的厚度。

这种方法适用于非透明薄膜的测量,如金属薄膜的厚度测量。

四、椭偏仪法椭偏仪法是一种基于光的偏振现象的测量方法。

当偏振光通过薄膜时,会发生偏振状态的改变,通过测量偏振光的参数变化,可以计算出薄膜的厚度。

这种方法适用于透明薄膜的测量,如液晶显示器中薄膜的厚度测量。

五、电子显微镜法电子显微镜法是一种利用电子束与物质相互作用的测量方法。

电子束经过薄膜时会发生散射,通过测量散射电子的特征参数,可以计算出薄膜的厚度。

电子显微镜法具有高分辨率和高灵敏度的特点,适用于测量纳米薄膜的厚度。

测量薄膜厚度的方法有很多种,每种方法都有其适用的范围和特点。

在实际应用中,可以根据具体情况选择合适的方法进行测量。

同时,随着科技的不断发展,还会有更多新的测量方法出现,为薄膜厚度的测量提供更多选择和便利。

椭偏光法测薄膜的折射率和厚度

椭偏光法测薄膜的折射率和厚度

实验五 椭偏光法测薄膜的折射率和厚度一、引言椭圆偏振测量术简称椭偏术。

它是利用光的偏振性质,将一椭圆偏振光射到被测样品表面,观测反射光偏振状态的变化来推知样品的光学常数。

就其理论范畴来讲,它与十涉法一样,都是利用光的波动性,以经典物理学为基础。

这种测量方法的原理早在上个世纪就提出来了,距今已有近百年的历史。

由于光波通过偏振器件及样品反射时,光波偏振状态变化得异常灵敏,使得椭偏术的理论精度之高是干涉法不能比拟的,又由于这种测理是非破坏性的,因此它的优越性是显而易见的。

长期以来,人们一直力图将这种测量方法付诸应用。

早在40年代就有人提出实验装置,但由于计算上的困难一直得不到发展。

电子计算机及激光技术的广泛应用,为椭偏术的实际应用及迅猛发展创造了条件。

今天椭偏术已成为测量技术的一个重要的分支。

椭偏术有很多优点,主要是测量灵敏、精度高,测量范围从1oA 到几个微米而且是非接触测量。

国外生产的高精度自动椭偏仪能测量正在生长的薄膜小于l oA 的厚度变化,可检测百分之儿的单分子层厚度,深入到原子数量级。

因此既可将其应用于精密分析测量,也可以用于表面研究,用于自动监控及分析液、固分界面的变化。

目前椭偏术已应用到电子工业,光学工业,金属材料工业,化学工业,表面科学和生物医学等领域。

在我们的实验中,使用消光椭偏仪测量薄膜的折射率和厚度。

除了能学习到其测量方法外,其巧妙的设计思想也将给我们极人的启发和收益。

二、椭偏术原理1.椭偏术基本方程椭圆偏振光入射到透明介质薄膜时,光在两个分界面(空气与薄膜,薄膜与衬底)来同反射和折射,如图5.1所示。

总反射光由多光束干涉而成,光在两个分界面的P 波和S 波的反射系数分别为1122p s p s r r r r 、、、图 5—1P E 2ϕ1ϕSE I II由菲涅尔公式有:121122112112211122322323223223322233cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos cos p s p s n n r n n n n r n n n n r n n n n r n n ϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕ-⎧=⎪+⎪-⎪=⎪+⎪⎨-⎪=⎪+⎪-⎪=⎪+⎩以上各式中1n 为空气折射率,2n 为膜层的折射率,3n 为衬底折射率。

椭偏光法测量薄膜的折射率和厚度

椭偏光法测量薄膜的折射率和厚度
椭偏光法测量薄膜的折射 率和厚度
• 引言 • 椭偏光法的基本原理 • 椭偏光法测量薄膜的折射率 • 椭偏光法测量薄膜的厚度 • 实验结果与分析 • 结论与展望
01
引言
椭偏光法的简介
椭偏光法是一种光学测量技术,通过 测量光在薄膜表面反射后的偏振状态 变化,可以推导出薄膜的折射率、消 光系数和厚度等物理参数。
06
结论与展望
椭偏光法测量薄膜ห้องสมุดไป่ตู้优缺点
精度高
椭偏光法能够以高精度测量薄膜的折射 率和厚度,误差范围通常在纳米级别。
VS
非侵入性
椭偏光法不需要直接接触样品,不会对薄 膜造成损伤或污染。
椭偏光法测量薄膜的优缺点
• 适用范围广:椭偏光法适用于各种类型的薄膜材料,包括 光学薄膜、金属薄膜、半导体薄膜等。
电场矢量在垂直于传播方向的平面上 振动,其振幅和方向随时间变化,形 成椭圆轨迹。
椭偏光在传播过程中,其偏振状态会 受到周围介质的影响,如折射、反射 和散射等。
椭偏光的形成
当自然光通过特定波片时,波片内的 晶体对光波产生双折射效应,导致光 波的偏振状态发生变化,形成椭偏光。
薄膜对椭偏光的影响
01
反射和透射
如入射角、波长等实验参数的选择也会影响测量结果。
厚度测量的精度与误差分析
01
02
03
04
1. 选择稳定的光源和性 能良好的光学元件。
2. 对薄膜表面进行抛光 或清洁,减小表面粗糙 度。
3. 优化实验参数,如选 择合适的入射角和波长。
4. 进行多次测量并取平 均值,以减小随机误差 的影响。
05
实验结果与分析
当椭偏光照射到薄膜表面时,部分光波被反射,部分光波穿透薄膜并继

实验椭圆偏振法测量薄膜厚度和折射率

实验椭圆偏振法测量薄膜厚度和折射率

实验椭圆偏振法测量薄膜厚度和折射率椭圆偏振法是一种常用的非破坏性薄膜厚度和折射率测量方法,它可以通过对样品反射和透射光的偏振状态进行测量,来获得样品的光学特性参数。

下面我们将介绍实验椭圆偏振法的测量步骤和注意事项。

1. 实验原理当一束偏振光碰到被测薄膜表面时,反射的光和透射的光都会发生偏振,其偏振状态可以通过椭圆偏振仪来测量。

通过测量样品反射和透射光的偏振椭圆参数,可以计算出薄膜厚度和折射率等光学参数。

2. 实验步骤(1) 样品制备准备一片光学平整的样品,涂上一层薄膜。

需要保证样品表面光洁度良好,无明显缺陷和表面过度粗糙。

(2) 调整椭圆偏振仪首先需要进行仪器校准,保证椭圆偏振仪能够正常工作。

然后,将样品放置在椭圆偏振仪的样品台上,调整偏振仪的角度、波长等参数,使样品的反射和透射光能够被完全接收和测量。

(3) 测量反射光打开椭圆偏振仪的偏振片,使入射光为线偏振光,然后测量样品反射光的偏振椭圆参数。

一般需要测量三个不同角度和波长条件下的参数,以保证数据的准确性。

(5) 数据处理通过测量数据,可以得到样品的反射和透射光的偏振椭圆参数。

根据计算公式,可以计算出样品的折射率和厚度等光学参数。

需要注意的是,测量过程中需保持仪器稳定,以免数据误差。

3. 注意事项(1) 样品表面应该光洁度良好,无缺陷和过度粗糙。

(2) 测量前需要进行椭圆偏振仪的校准,保证仪器能够正常工作。

(4) 测量过程中需要保持仪器稳定,以免数据误差。

(5) 需要注意心理学处理的方法和如何保留数据以及整合数据,以便之后的进一步研究和分析。

总结:实验椭圆偏振法是一种非常实用的分析方法,能够快速准确地测量薄膜的厚度和折射率等光学参数。

在实验过程中需要注意样品表面光洁度、仪器稳定等因素,以保证数据的准确性。

此外,数据分析也是实验的重要部分,需要采用合适的处理方法和工具,以得出正确的结论和结论。

折射率与厚度的估算方法

折射率与厚度的估算方法

折射率与厚度的估算方法折射率和厚度是光学材料性质的重要参数,对于光学器件的设计和性能分析起着关键作用。

本文将介绍折射率和厚度的估算方法,包括经典方法和现代方法。

1.经典方法1.1光程差法光程差法是最常用的估算折射率的方法之一、通过测量入射光线在材料中传播的时间来确定光线速度,从而计算折射率。

该方法需要测量光线在不同厚度的样品中传播的时间,并根据光速与光程之间的关系计算折射率。

1.2单色光干涉法单色光干涉法是基于薄膜干涉现象的方法。

通过观察在不同厚度的材料上自然形成的干涉条纹,可以推导出材料的折射率。

该方法需要严格控制入射光的波长,并进行精确的干涉条纹测量。

1.3弗伦耐尔-阿贝法弗伦耐尔-阿贝法是基于折射率与光线入射角度之间的关系来估算折射率的方法。

通过测量材料在不同入射角度下的反射光线的偏振状态和强度,可以得到折射率的信息。

该方法需要用到特殊的测量装置,包括角度变化装置和偏振测量装置。

2.现代方法2.1椭偏光测量椭偏光测量是一种基于材料对偏振光的影响来估算折射率的方法。

通过测量入射光与透射光之间的偏振状态和强度差异,可以得到材料的光学常数。

这种方法不需要测量厚度,因此对厚度的估算并不依赖。

2.2激光光弹法激光光弹法是一种应用激光和光弹性理论来估算折射率和厚度的方法。

通过测量材料在激光照射下产生的光弹性效应,如光弹聚焦等,可以计算出材料的折射率和厚度。

这种方法对材料的折射率和厚度变化非常敏感。

2.3自相关法自相关法是一种基于光线在材料中多次反射和传播的干涉效应来估算折射率和厚度的方法。

通过测量材料上自然形成的干涉条纹的形状和位置,可以推导出材料的折射率和厚度。

这种方法适用于透明材料的表面和界面的厚度估算。

3.小结折射率和厚度的估算方法包括经典方法和现代方法。

其中经典方法主要包括光程差法、单色光干涉法和弗伦耐尔-阿贝法,而现代方法主要包括椭偏光测量、激光光弹法和自相关法。

不同的方法适用于不同的材料和测量条件,研究人员可以根据实际需求选择合适的方法进行折射率和厚度的估算。

偏振光反射法测量薄膜厚度和折射率的研究

偏振光反射法测量薄膜厚度和折射率的研究

偏振光反射法测量薄膜厚度和折射率的研究薄膜技术的发展及其应用薄膜是一种较特殊的物质形态,其在厚度这一特定方向上尺寸较小,仅是微观可测的物理量,并且在厚度方向上由于表面、界面的存在,使物质的连续性发生中断,由此使得薄膜材料产生了与块状材料具有不同的性能。

也可以解释为,由于成膜的过程中晶体取向、晶粒大小、杂质浓度、成份的均匀性、基底材料、温度以及清洁度等因素的影响,使得薄膜的物理性能与块状材料的物理性能在诸多方面不同。

这引起了诸多科研工作者们较为浓厚的研究兴趣并使之得到更为广泛的应用。

二十世纪70年代以来,薄膜技术得到空前的发展,无论在学术研究上还是在工业应用中都取得了较丰硕的成果。

薄膜技术及薄膜材料已成为当代真空技术及材料科学研究中最活跃的领域之一,并在新科学技术革命中,具有举足轻重的地位。

薄膜技术涉及的范围比较广,其中包括物理气相沉积、化学气相沉积成膜技术,以离子束刻蚀为代表的微细加工技术,成膜、刻蚀过程的监控技术,以及薄膜分析、评价与检测技术等。

目前,薄膜技术在电子元器件、集成光学、电子技术、红外技术、激光技术、航天技术和光学仪器等许多领域均得到了极为广泛的应用,不仅成为了一门独立的应用技术,而且成为了材料表面改性和提高某些工艺水平的重要手段。

许多国家对薄膜材料和薄膜技术的研究开发极为重视,称之为“腾飞的薄膜产业”,并且每年均要举行多次国际会议。

最早应用薄膜技术的领域要算光学领域,早在1817年夫琅禾费就用酸蚀方法制成了光学上的减反射膜。

1930年,由于真空蒸发设备出现使薄膜大量地应用于光学领域。

近代的彩色电视、彩色摄影机、太阳能电池、激光器、集成光学等均离不开薄膜技术,大部分光学仪器或光电装置也均离不开光学薄膜。

利用薄膜的光学性能,可改变元件反射率、吸收率与透射率,实现光束分束、并束、分色、偏振、位相调整等,使某光谱带通或阻滞等。

薄膜技术应用领域很广泛,由于高精尖的制造技术、跨学科的综合设计与严格科学的实际应用,使薄膜技术应用在高新技术领域、信息、生物、航空、航天、新能源等前沿领域中显示越来越重要的地位。

椭偏仪测量薄膜厚度和折射率实验报告

椭偏仪测量薄膜厚度和折射率实验报告

椭偏仪测量薄膜厚度和折射率实验报告组别:69组 院系:0611 姓名:林盛 学号:PB06210445 实验题目:椭偏仪测量薄膜厚度和折射率实验目的:了解椭偏仪测量薄膜参数的原理,初步掌握反射型椭偏仪的使用方法。

实验原理:椭圆偏振光经薄膜系统反射后,偏振状态的变化量与薄膜的厚度和折射率有关,因此只要测量出偏振状态的变化量,就能利用计算机程序多次逼近定出膜厚和折射率。

参数∆描述椭圆偏振光的P 波和S 波间的相位差经薄膜系统关系后发生的变化,ψ描述椭圆偏振光相对振幅的衰减。

有超越方程:tan pr pi sr si E E E E ψ⎛⎫⎛⎫= ⎪⎪⎝⎭⎝⎭()()pr sr pi si ββββ∆=---为简化方程,将线偏光通过方位角±45︒的14波片后,就以等幅椭圆偏振光出射,pi si E E =;改变起偏器方位角ϕ就能使反射光以线偏振光出射,()0pr sr ββπ︒∆=-=或,公式化简为:tan pr sr E E ψ= ()pi si ββ∆=--这时需测四个量,即分别测入射光中的两分量振幅比和相位差及反射光中的两分量振幅比和相位差,如设法使入射光为等幅椭偏光,1/=is ip E E ,则=ψtg rs rp E E /;对于相位角,有:)()(is ip rs rp ββββ---=∆ ⇒ =-+∆is ip ββrs rp ββ-因为入射光is ip ββ-连续可调,调整仪器,使反射光成为线偏光,即rs rp ββ-=0或(π),则)(is ip ββ--=∆或)(is ip ββπ--=∆,可见∆只与反射光的p 波和s 波的相位差有关,可从起偏器的方位角算出.对于特定的膜, ∆是定值,只要改变入射光两分量的相位差)(is ip ββ-,肯定会找到特定值使反射光成线偏光, rs rp ββ-=0或(π)。

实验仪器:椭偏仪平台及配件 、He-Ne 激光器及电源 、起偏器 、检偏器 、四分之一波片、待测样品、黑色反光镜等。

椭圆偏振仪测量薄膜厚度和折射率演示课件

椭圆偏振仪测量薄膜厚度和折射率演示课件
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实验操作
将1/4波片快轴转到+450位置 仔细调节检偏器A和起偏器P,使目镜内的亮点最暗,
即检流计值最小。计下A、P的刻度值,测得两组消 光位置数值 将1/4波片快轴转到-450位置 重复2的工作。
其中:A分别取大于900和小于900 两种情况。
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测试结果点
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和 称为椭圆偏参量(椭圆偏角)
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和的物理意义
光的复数形式 EEexpi() 反射前后p和s分量的振幅比 ta nErpEis/ErsEip
反射前后p和s分量的位相差 (rp r)s(ipis )
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问题的简化
入射光为等幅椭圆偏振光 Eis / Eip 1
反射光为线性偏振光 rprs0()
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简化目的
ta n Erp/Ers 恰好是反射光p和s的幅值比,通过 检偏器角度A可求;
(ipis)0() 为光经过膜位相的改变,可通 过起偏器的角度P求得
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简化条件的节起偏器的角度就可以使入射光的位相差连
续可调.
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仪器校准
•自准法调光路水平和共轴 •利用布儒斯特角调节检偏器 •利用检偏器和起偏器的关系调节起偏器 •确定1/4波片
一束自然光经偏振器变成偏振光,再经过1/4波 片使它变成椭圆偏振光入射在待测膜上;
反射时,光的偏振状态发生变化;
通过检测这种变化,便可推算出待测膜面的膜 厚度和折射率.
6
多光反射示意图
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n1 n2 n3
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偏振光反射法测量薄膜厚度和折射率的研究摘要:本文主要介绍了偏振光反射法求薄膜参数的方法。

我们从理论上对反射法测量薄膜参数进行了优化,给出了薄膜参数的精确的计算方法。

方法流程是:扫描出反射率曲线,在不同入角度处取其反射率,根据计算公式求解出薄膜厚度和折射率(一组以上解);利用已扫描出的反射率与求解出的薄膜参数对应反射率拟合后可确定出薄膜参数最优解;在求出的薄膜参数附近拓展一定范围,再次拟合,可求出更精确的薄膜参数。

当测量反射率误差低于%时,计算出薄膜参数的最大误差小于%。

模拟实验结果证明反射法测量的可行性,提高了实验的精确度。

关键词:偏振光,反射率,薄膜厚度,折射率,最小二乘法Abstract: This paper reports an innovation of the polarized reflectances measurement thchnique for thickness and index theory,the reflection method for measuring film parameters are optimized and the errors are more accurate method is runs as follow, after scanning the reflectance curve,take two points on the curve by avoiding special point,for various values of m can work out some group of film right parameters can be determined after expanding fitting, can work out the more accurate film parameters. Numerical simulation results show that the method errors were %or less when the measurement error less than %.Key words :S-polarizedlight,reflectance ratio,refractive index;thickness,least square method.0 引言简单、精确地测量薄膜厚度及其折射率在工业生产和实验研究中都是比较重要的。

在众多类检测方法中,光学方法是应用最为广泛的方法之一。

至今人们提出了多种方法,例如,椭圆偏振测量法[1] [2]、干涉测量法[3]、光谱法[4],阿贝勒(Abeles)方法[5]、棱镜耦合法[6][7][8]、反射率法[9][10]等。

其中,有些方法只能测量薄膜的厚度,有些方法只能测量薄膜的折射率,有些方法可同时测量薄膜的厚度和折射率。

它们各有千秋,可以满足不同应用的需要。

Tami Kihara等人介绍了反射法测量薄膜参数的方法。

具体是根据三个不同入射角的反射率求出解薄膜参数。

同Tami Kihara 的方法相比我们进行多角度测量反射率,采用拟合算法提高了实验精确度。

具体方法为:首先在一定角度范围内扫描出反射率分布曲线,带入理论公式确定最佳解,利用最小二乘法拟合,进而提高薄膜参数的精确度。

也适用于各向异性的薄膜。

模拟实验结果证明测量精度有所提高,为薄膜参数的测量提供了另一种参考方法。

1 理论基础入射光为P 偏振光或S 偏振光。

反射法测量的实际结构图如图1所示,设待测样品是均匀涂镀在衬底上的同性质膜层,根据折射定律以及菲涅尔反射公式,以S 偏振光为例,薄膜样品反射系数为[11]0112101121exp(2)1exp(2)s s s s s r r i r r r i ββ+-=+- (1)其相邻反射光束之间的相位差为112222110042(sin )d n n πβθλ=- (2)图1. 入射光在待测样品上的入射和反射。

0n 、1n 、2n 分别为空气、薄膜、 衬底的折射率,1d 为薄膜的厚度。

入射光束波长为λ,在0θ处入射。

薄膜界面反射率为 2s s R r = (3) 由(1)、(2)、(3)可以得到薄膜厚度[6]()()1101200120s 11222201,,,,cos ,,,,,2d (0,1,2,3........)4(sin )p p F n n n G n n n R m m n n λθλθλππθ-⎡⎤±+⎣⎦==-(4)()()()2200211=1,2,3,4J s j s j j R R j J χθθ=⎡⎤-=⎣⎦∑,(5)对于薄膜样品,已知λ,0n ,2n 三个参数,m ,1n ,1d 未知。

扫描出待测样品的()0s j R θ曲线,如图3(实线)所示,在曲线上一定角度范围内(如0020~70范围,实虚线交点除外)任取两点()101,s R θ、()202,s R θ,膜厚度范围未知情况下,可设定膜序数范围(如m 取0、1、2、3、4、5)。

把参量()0202s2,,,,,n n m R λθ、()0201s1,,,,,n n m R λθ分别带入等式(4),联立解方程组。

由于m 值不确定,根据不同的m 值,可求出几组1n ,1d 解。

根据求出的几组1n ,1d 值,根据公式在一定角度范围内(如0020~70范围,间隔20)计算出其反射率()0s j R θ,根据公式(5)当2χ取最小值的一组()11,n d 解即为最佳解。

设定步长(如1n 步进步长为,1d 步进步长为),我们拓展()11,n d 范围为()11111111~,~n n n n d d d d -∆+∆-∆+∆,根据公式(5)采用最小二乘法拟合,可得出精确的()11,n d 值。

2数值模拟计算为验证上述分析方法的可行性,进行了模拟实验。

仿真参数为:入射光为S 偏振光,薄膜为二氧化硅(2i S O ,1n =,1d =260nm ),衬底为硅衬底。

考虑到实验实际噪声情况及实验仪器精度,添加%的高斯白噪声,模拟200~700范围内,每间隔20的反射率。

在01θ=200、02θ=400处,取反射率1s R =、2s R =。

m 取0~4,模拟结果如图2所示,三个交叉点(图中箭头标示)所对应的厚度和折射率的值即为求出的解。

具体解如表格1所示。

根据表格1的数据,通过拟合即可确定出最接近正确值的膜参数值为1n =,误差为%,1d =,误差为%。

REFRACT IVE INDEXT H I C K N E S S (n m )图2 硅(i S ,n 2=衬底、二氧化硅(2i S O ,1n =,1d =260nm )膜折射率和薄膜厚度的对应关系图(实线对应入射角400,虚线对应入射角200)方程组的解(图中箭头表示)的值为薄膜的光学参数表格1 1n ,1d 交点值为了提高精确度,我们拓展1n 范围为~,设定步进步长为;拓展1d 范围为~,设定步进步长为。

求出扩展参数范围内的反射率()0sj j R θ(j 为入射角序数)。

代入(5)式拟合,得出1n =,误差为%。

1d =,误差为%。

入射角度的选择对测量结果是有影响的,如果入射角度取值刚好使等式:112222110042(sin )2a d n n m πβθπλ=-=(6)成立,那么等式(1)就变为:0112002020112002cos cos 1cos cos s s s s s s r r n r r r r n θθθθ+-===++22n n (7)等式(7)中不再含有1d 的信息,所以在此处测量Rs,在0a θ处取值计算出误差较大。

图3以二氧化硅(2i S O ,1n =,1d =260nm )膜镀在硅(i S ,n 2=衬底上的样品为例,模拟出薄膜样品反射率s R 曲线和202s r 相切于0a θ=540。

为减小误差,选角要远离0a θ。

00.10.20.30.40.50.60.70.80.91ANGLE OF INCIDENCE(degree)R E F L E C T A N C E图3实线1表示s R ,虚线2表示计算值202sr ,相切点:0a θ=540。

硅衬底(i S ,n 2=、二氧化硅膜(2i S O ,1n =,1d =260nm )为了验证上述方法的普遍性,在波长λ不变的情况下,及高斯白噪声强度分别取1%,%,%模拟二氧化硅(2i S O ,1n =,)膜镀在硅(i S ,n 2=衬底上,薄膜厚度范围0~300nm (每间隔10nm 取一组参数),角度范围角度范围为200~700,每间隔20取反射率值。

厚度和折射率的误差变化情况如图4所示,图4(1)是对反射率分别附加1%、%、%的高斯白噪声,拟合后厚度的误差分布;图4(2))是对反射率分别附加1%、%、%的高斯白噪声,拟合后折射率误差分布。

通过数据分析我们发现经过二次拟合,厚度小于50nm 误差很大。

厚度大于50nm 时,对反射率附加误差为1%时,模拟实验数据误差较大,最大厚度误差为6%,最大折射率误差为%;对反射率附加误差为1%时,厚度误差最大为%,折射率误差最大为%;对反射率附加误差为%时,模拟厚度和折射率误差最大误差为%。

折射率的误差明显低于厚度的误差。

THICKNESS(nm)E R R O R (%)图4(1)附加1%、%、%误差,拟合出1d 误差THICKNESS(nm)E R R R O R (%)图4(2)附加1%、%、%误差,拟合出1n 误差3.结论本文对反射法测量理论和实验方法进行了介绍,从算法上对反射测量法进行了改进。

提出了精确、简便的计算方法。

模拟S偏振光反射率曲线,通过拟合算法求出薄膜的厚度和折射率的大小;模拟了对反射率附加高斯白噪声引起的薄膜参数误差。

仿真实验结果验证了反射法测量的准确性,降低了实验误差。

实验对测量样品的形状和薄膜的厚度无要求,无需知道薄膜的厚度周期,可以测量透明和不透明的薄膜,此方法在薄膜参数测量方面有可能得到进一步的应用。

6 参考文献[1]黄佐华,何振江.测量薄膜厚度及其折射率的光学方法[J],现代科学仪器 42-44.[2],.多功能椭偏测厚仪[J]光学技术, 432-434.[3]乔明霞,薄膜光学常数和厚度的透射光谱法测定研究[学位论文].四川大学.2006[4]章睿荣,通过全光谱拟合法确定薄膜光学常数和厚度[学位论文].浙江大学.2007[5]R M A Azzam and A -R M Zaghloul,Polarization-independent reflectance matching (PRIM): A technique for the determination of the refractive index and thickness of transparent . Optics (Paris) 1977,8(3),201-205.[6]李红根.亚毫米尺度双面金属包覆波导的直接耦合方法及其应用研究[学位论文].上海交通大学.2006.[7]赵孝祥,许政权,利用棱镜祸合器测量光波导衬底的折射率 [J].中国激光,1992,19(6).[8]李红根,沈启瞬,曹庄琪.双面金属包覆介质波导的直接耦合方法[J],光学学报.2002,22(8).[9]Rosencwaig,Allan,Opsal,Jon,Willenborg,Beam profile reflectometry:A newtechnique for dielectric film measurements [J]., 1992. 60(11),4482-4487[10],,Simultaneous measurement of refractive index and thickness of thin film by polarized reflectances,Applied Optics, 1990,29(34), pp. 5069-5073.[11]林木欣主编,近代物理实验教材[M],科学出版社2008年:134.。

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