制备MoO 粉末的方法、由MoO粉末制备的产品、MoO薄膜的沉积以及使用

专利名称：制备MoO 粉末的方法、由MoO粉末制备的产品、MoO薄膜的沉积以及使用这种材料的方法专利类型：发明专利
发明人：L·F·麦休,P·库马,D·梅恩德林,吴荣祯,G·维廷,R·尼科尔森
申请号：CN200480021192.9
申请日：20040629
公开号：CN1826290A
公开日：
20060830
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明涉及在旋转或舟形炉中，通过使用氢作为还原剂，还原钼酸铵或三氧化钼得到的高纯MoO粉末。

将通过压制/烧结、热压和/或HIP进行的粉末固结用来制备圆盘、厚块或板，该圆盘、厚块或板用作溅射靶。

使用适宜的溅射方法或其它物理方式将该MoO圆盘、厚块或板形式溅射在基底上，从而提供具有期望膜厚的薄膜。

就透射率、导电率、功函数、均匀性以及表面糙度而言，该薄膜具有与氧化铟锡(ITO)和掺锌ITO可比或优于其的性能如电的、光的、表面粗糙度以及均匀性。

可将该MoO和含该MoO的薄膜用在有机发光二极管(OLED)、液晶显示器(LCD)、等离子体显示板(PDP)、场致发射显示器(FED)、薄膜太阳能电池、低电阻率欧姆接触以及其它电子和半导体器件中。

申请人：H.C.施塔克公司
地址：美国麻萨诸塞州
国籍：US
代理机构：中国专利代理(香港)有限公司
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