【CN110117792A】金属层用蚀刻剂组合物和制造导电图案的方法【专利】
用于形成导电图案的组合物、使用该组合物形成导电图案的方法及具
专利名称：用于形成导电图案的组合物、使用该组合物形成导电图案的方法及具有导电图案的树脂结构
专利类型：发明专利
发明人：田信姬,金宰贤,朴哲凞,朴致成,金在镇,郑汉娜,成恩圭,李秀贞
申请号：CN201580002176.3
申请日：20150416
公开号：CN105723469A
公开日：
20160629
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明涉及一种用于形成导电图案的组合物、一种使用该组合物形成导电图案的方法以及一种具有所述导电图案的树脂元件，所述组合物能够在聚合物树脂产品或树脂层上形成精细导电图案、降低机械物理性能的劣化并且具有优异的粘合强度。
所述用于形成导电图案的组合物包含：聚碳酸酯类树脂；以及包含第一金属和第二金属并且具有尖晶石结构的非导电金属化合物颗粒，其中，所述颗粒的粒径为0.1μm至6μm；其中，包含第一金属、第二金属或它们的离子的金属核由所述非导电金属化合物颗粒通过电磁波辐射形成。
申请人：LG化学株式会社
地址：韩国首尔
国籍：KR
代理机构：北京鸿元知识产权代理有限公司
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导电性高分子用蚀刻液、及将导电性高分子图案化的方法[发明专利]
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专利名称：导电性高分子用蚀刻液、及将导电性高分子图案化的方法
专利类型：发明专利
发明人：井原孝,藤本孝弘
申请号：CN200780036318.3
申请日：20070913
公开号：CN101523517A
公开日：
20090902
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明的目的是提供一种对于导电性高分子具有优越的蚀刻处理能力的导电性高分子用蚀刻液、及使用该导电性高分子用蚀刻液来将导电性高分子予以图案化的方法。
本发明的导电性蚀刻液，其特征为其是选自由下列所组成的族群中的蚀刻液：(1)含有超过0.5重量％、70重量％以下的(NH)Ce(NO)、或0.5重量％以上、30重量％以下的Ce(SO)的蚀刻液；(2)含有超过0.5重量％、30重量％以下的(NH)Ce(SO)的蚀刻液；(3)作为有效氯浓度为0.06重量％以上，并且pH值超过3且低于8的次氯酸盐水溶液的蚀刻液；(4)包括含有5重量％以上的盐酸、含有20重量％以上的硝酸，(盐酸浓度+0.51×硝酸浓度)的值为35重量％以下、且(盐酸浓度+0.5×硝酸浓度)的值为30重量％以上的亚硝酰氯的蚀刻液；(5)含有3重量％以上、40重量％以下的溴酸化合物，且含有4重量％以上的无机酸的蚀刻液；(6)含有6重量％以上、40重量％以下的氯酸化合物，且含有7重量％以上的卤化氢的蚀刻液；
(7)含有0.001重量％以上、20重量％以下的高锰酸化合物的蚀刻液；以及(8)含有3重量％以上、30重量％以下的六价铬化合物的蚀刻液。
申请人：鹤见曹达株式会社,东亚合成株式会社
地址：日本国神奈川县
国籍：JP
代理机构：中科专利商标代理有限责任公司代理人：李贵亮
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导电图案的制造方法和形成有导电图案的基板[发明专利]
![导电图案的制造方法和形成有导电图案的基板[发明专利]](https://img.taocdn.com/s3/m/5337ca88caaedd3382c4d399.png)
专利名称：导电图案的制造方法和形成有导电图案的基板专利类型：发明专利
发明人：内田博,篠崎研二,冈崎惠理,大簱英树,宫村泰直申请号：CN201480023443.0
申请日：20140417
公开号：CN105164764A
公开日：
20151216
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明提供能够简易地实现窄间距的导电图案的制造方法和形成有导电图案的基板。
在基板(10)的至少一个主面的全部或一部分面上形成金属纳米丝层(12)，隔着以规定图案形成有透光部(14a)的掩模(14)而照射脉冲光，在所述规定图案的形状的区域将所述金属纳米丝层(12)中的金属纳米丝烧结，使所述规定图案的形状的区域显现导电性。
由此，能够以简易的工序制造具备任意图案的导电图案的基板。
申请人：昭和电工株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京市中咨律师事务所
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本发明的实施方式提供一种金属层用蚀刻 剂组合物，包括：62-68重量％的磷酸；6-8重量％ 的硝酸；4-6重量％的醋酸；0 .2-1 .0重量％的醋 酸盐；0 .1-0 .3重量％的亚磷酸；和余量的水。通 过使用该金属层用蚀刻剂组合物，可以制备蚀刻 缺陷减少的、具有精细尺寸的导电图案。
( 19 )中华人民 共和国国家知识产权局
( 12 )发明专利申请
(21)申请号 201910089721 .7
(22)申请日 2019 .01 .30
( 30 )优先权数据 10-2018-0014459 2018 .02 .06 KR
(71)申请人 东友精细化工有限公司 地址 韩国全罗北道
(72)发明人 刘仁浩 金范洙
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CN 110117792 A
说 明 书
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明导电氧化物层。 [0016] (6)根据上述(5)所述的制造导电图案的方法，其中所述透明导电氧化物层包括第 一透明导电氧化物层和第二透明导电氧化物层，并且所述含银层介于所述第一透明导电氧 化物层和所述第二透明导电氧化物层之间。 [0017] (7)根据上述(5)所述的制造导电图案的方法，其中所述透明导电氧化物层包括选 自由 氧化铟锡 (ITO) 、氧化铟锌 (IZO) 、氧化铟锡锌 (ITZO) 、氧化镓锌 (GZO) 和氧化铟镓锌 (IGZO)组成的组中的至少一种。 [0018] (8)根据上述(3)所述的导电图案的制造方法，还包括：在所述基板上形成薄膜晶 体管；形成与所述薄膜晶体管电连接的像素电极；和在所述像素电极上形成显示层，其中所 述金属层形成在所述显示层上。 [0019] (9)根据上述(3)所述的制造导电图案的方法，其中，所述导电图案设置为图像显 示装置的公共电极、反射电极或布线。 [0020] 根据示例性实施方式，可以通过醋酸与亚磷酸的盐来防止在湿法蚀刻工艺中出现 残留物和污点，使得可以抑制由于残留物引起的布线短路或暗点(盲点)的发生。 [0021] 另外，当金属层包括含银层和透明导电氧化物层时，可以通过蚀刻引发剂引发金 属氧化物的置换反应，使得可以同时均匀地蚀刻含银层和透明导电氧化物层。 [0022] 在一些实施方式中，通过使用该蚀刻剂组合物，可以将诸如显示装置的反射电极 的电极或触摸传感器的布线、感测电极、迹线或焊盘形成为具有期望的纵横比和轮廓。
发明内容 [0007] 根据本发明的一个方面，提供一种金属层用蚀刻剂组合物，其能够解决诸如残留 物、表面污点的问题，同时具有改善的蚀刻均匀性。 [0008] 根据本发明的一个方面，提供一种使用该金属层用蚀刻剂组合物制造导电图案的 方法。 [0009] 根据本发明的一个方面，提供一种使用该金属层用蚀刻剂组合物制造显示基板的 方法。 [0010] 通过以下特征或构造将实现本发明构思的以上方面： [0011] (1)一种金属层用蚀刻剂组合物，包括：62-68重量％的磷酸；6-8重量％的硝酸；46重量％的醋酸；0 .2-1 .0重量％的醋酸盐；0 .1-0 .3重量％的亚磷酸；和余量的水。 [0012] (2)根据上述(1)所述的金属层用蚀刻剂组合物，其中，所述醋酸盐包括选自由醋 酸钠、醋酸铵、醋酸钾和醋酸钙组成的组中的至少一种。 [0013] (3)一种制造导电图案的方法，包括：在基板上形成金属层；通过使用根据上述(1) 或(2)所述的金属层用蚀刻剂组合物来蚀刻所述金属层。 [0014] (4)根据上述(3)所述的制造导电图案的方法，其中所述形成金属层包括形成含银 层。 [0015] (5)根据上述(4)所述的制造导电图案的方法，其中所述形成金属层还包括形成透
权利要求书1页 说明书8页 附图24页
CN 110117792 A
CN 110117792 A权Fra bibliotek利 要 求 书
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1 .一种金属层用蚀刻剂组合物，包括： 62-68重量％的磷酸； 6-8重量％的硝酸； 4-6重量％的醋酸； 0 .2-1 .0重量％的醋酸盐； 0 .1-0 .3重量％的亚磷酸；和 余量的水。 2 .根据权利要求1所述的金属层用蚀刻剂组合物，其中所述醋酸盐包括选自由醋酸钠、 醋酸铵、醋酸钾和醋酸钙组成的组中的至少一种。 3 .一种制造导电图案的方法，包括： 在基板上形成金属层；和 通过使用根据权利要求1或2所述的金属层用蚀刻剂组合物来蚀刻所述金属层。 4 .根据权利要求3所述的制造导电图案的方法，其中所述形成金属层包括形成含银层。 5 .根据权利要求4所述的制造导电图案的方法，其中所述形成金属层还包括形成透明 导电氧化物层。 6 .根据权利要求5所述的制造导电图案的方法，其中所述透明导电氧化物层包括第一 透明导电氧化物层和第二透明导电氧化物层，并且 所述含银层介于所述第一透明导电氧化物层和所述第二透明导电氧化物层之间。 7 .根据权利要求5所述的制造导电图案的方法，其中所述透明导电氧化物层包括选自 由氧化铟锡(ITO) 、氧化铟锌(IZO) 、氧化铟锡锌(ITZO) 、氧化镓锌(GZO) 和氧化铟镓锌 (IGZO)组成的组中的至少一种。 8 .根据权利要求3所述的制造导电图案的方法，还包括： 在所述基板上形成薄膜晶体管； 形成与所述薄膜晶体管电连接的像素电极；和 在所述像素电极上形成显示层， 其中所述金属层形成在所述显示层上。 9 .根据权利要求3所述的制造导电图案的方法，其中所述导电图案被设置为图像显示 装置的公共电极、反射电极或布线。
(74)专利代理机构 北京市中伦律师事务所 11410
代理人 杨黎峰 钟锦舜
(51)Int .Cl . C23F 1/30(2006 .01) H01L 21/3213(2006 .01)
(10)申请公布号 CN 110117792 A (43)申请公布日 2019.08.13
( 54 )发明 名称 金属层用蚀刻剂组合物和制造导电图案的
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CN 110117792 A
说 明 书
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金属层用蚀刻剂组合物和制造导电图案的方法
技术领域 [0001] 本发明涉及一种金属层用蚀刻剂组合物和一种使用其制造导电图案的方法，更具 体地，涉及一种包括酸组分的金属层用蚀刻剂组合物和一种使用其制造导电图案的方法。
背景技术 [0002] 例如，薄膜晶体管(TFT) 用作半导体装置和显示装置中的驱动电路的一部分。TFT 可以 布置在例如有机发光显示 (OLED) 装置或液晶 显示装置 (LCD)的基板上的每个像素中 ， 并且可以与诸如像素电极、对电极、源电极、漏电极、数据线、电源线等的布线连接。 [0003] 为了制备电极或布线，可以在显示基板上形成金属层，可以在金属层上形成光致 抗蚀剂，然后可以使用蚀刻剂组合物从显示基板部分地去除金属层。 [0004] 为了通过减小布线电阻来防止信号传输延迟并确保布线的耐化学性和稳定性，金 属层可以由彼此具有不同化学性质的不同种类的金属制成，或者可以形成为包括不同种类 的导电材料的多个层。 [0005] 例如，形成含银(Ag)层以实现低电阻特性，并且可以在其上进一步形成诸如氧化 铟锡(ITO)的透明导电氧化物层，以改善布线的耐化学性、稳定性和透射率。 [0006] 如韩国专利注册No .10-0579421中所述，无机强酸例如磷酸、硫酸等用作蚀刻剂组 合物中的基本组分。然而 ，当使 用常规蚀刻剂组合物时 ，存在发生金属再次吸附 、残留物、表 面污点等的问题。