晶体管分类

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不同类型晶体管的区别和特点

不同类型晶体管的区别和特点晶体管是一种电子器件，用于控制电流通过的开关。

根据其结构和材料特性的不同，晶体管可以分为多种类型，每种类型都具有不同的特点和应用领域。

一、晶体管的分类根据材料类型的不同，晶体管可以分为两大类：硅基晶体管和化合物半导体晶体管。

1. 硅基晶体管硅基晶体管是最常见的晶体管类型，其主要由硅材料制成。

硅材料具有丰富的资源、制造工艺成熟、价格低廉等优点，因此硅基晶体管是最广泛应用的晶体管类型。

硅基晶体管又可分为三类：NPN型、PNP型和MOS型。

（1）NPN型晶体管：NPN型晶体管是最常见的硅基晶体管类型。

其结构由两个N型半导体夹一个P型半导体构成，中间的P型半导体称为基区。

NPN型晶体管通常用于放大电路和开关电路，其特点是集电极和发射极之间的电流放大倍数高，适用于高频和高速的电路。

（2）PNP型晶体管：PNP型晶体管与NPN型晶体管结构相反，由两个P型半导体夹一个N型半导体构成。

PNP型晶体管与NPN型晶体管的工作原理及应用领域相似，但由于电流流动的方向相反，其极性也相反。

（3）MOS型晶体管：MOS型晶体管（金属氧化物半导体场效应晶体管）是一种基于金属-绝缘体-半导体结构的晶体管。

它的主要特点是电流消耗小，输入电阻高，适用于低功耗和高速的电路。

MOS型晶体管广泛应用于数字电路和微处理器等领域。

2. 化合物半导体晶体管化合物半导体晶体管由多种化合物材料构成，如砷化镓（GaAs）、碲化镉（CdTe）等。

与硅基晶体管相比，化合物半导体晶体管具有更高的载流子迁移率和更好的高频特性，因此在高频和高速电路中具有广泛的应用。

化合物半导体晶体管主要有以下几种类型：HBT、HEMT和MESFET。

（1）HBT（异质结双极型晶体管）：HBT是由不同的材料构成的异质结构，常见的是砷化镓（GaAs）和磷化铟（InP）的组合。

HBT具有高迁移率和高频特性，适用于高速数字电路和射频放大器等领域。

（2）HEMT（高电子迁移率晶体管）：HEMT是一种基于异质结构的晶体管，其材料组合主要是砷化镓（GaAs）和铝镓砷（AlGaAs）。

晶体管分类

晶体管分类晶体管，也称为晶体管管或半导体三极管，是一种电子元件，用于放大和开关电信号。

晶体管的发明使得电子设备的制造和使用变得更加方便和高效。

晶体管可以按照不同的标准进行分类。

下面将根据不同的分类标准对晶体管进行详细的介绍。

一、按照结构分类1. 点接触型晶体管点接触型晶体管是最早的一种晶体管结构，它由金属探针和半导体材料组成。

当探针与半导体材料相接触时，就形成了一个二极管结构。

点接触型晶体管具有简单的结构和易于制造等优点，但是其性能较差。

2. 普通增强型晶体管普通增强型晶体管是由三个掺杂不同类型半导体材料组成。

其中中间一层为基底层，两侧为掺杂不同类型的外层。

这种结构能够实现放大信号，并且具有较高的输入阻抗。

3. 压控型双极性转移器（VCCS）压控型双极性转移器是一种特殊的晶体管结构，它由四个层次组成。

其中两个层次为掺杂不同类型的外层，中间两个层次为掺杂相同类型的基底层。

这种结构能够实现电流放大和电压放大。

4. 域效应晶体管（FET）域效应晶体管是一种特殊的晶体管结构，它由三个掺杂不同类型半导体材料组成。

其中中间一层为基底层，两侧为掺杂不同类型的外层。

这种结构能够实现电流放大和电压放大，并且具有较高的输入阻抗。

二、按照作用方式分类1. 放大型晶体管放大型晶体管是最常见的一种晶体管，它能够将输入信号进行放大，并输出到输出端口。

这种晶体管在各种电子设备中广泛使用，如收音机、电视机、计算机等。

2. 开关型晶体管开关型晶体管能够将输入信号转换成数字信号，并通过开关操作控制输出端口的开关状态。

这种晶体管在数字逻辑电路中广泛使用，如计算机内存、CPU等。

3. 比较型晶体管比较型晶体管能够将两个输入信号进行比较，并输出比较结果。

这种晶体管在各种电子设备中广泛使用，如计算器、电子秤等。

三、按照材料分类1. 硅基晶体管硅基晶体管是最常见的一种晶体管，它由硅半导体材料制成。

这种晶体管具有高可靠性、低噪声和高温度稳定性等优点。

晶体管的分类

晶体管的分类晶体管是一种半导体器件，广泛应用于电子电路中的开关、放大、稳压等功能。

根据晶体管的结构和性质，可以将其分为多种不同的类型。

本文将从几个方面详细介绍晶体管的分类。

一、按材料分类1.硅晶体管硅晶体管是最常见的一种晶体管，其材料主要由硅元素制成。

它具有高稳定性、可靠性和低噪声等特点，被广泛应用于各种电子设备中。

2.锗晶体管锗晶体管是硅晶体管之前使用的一种材料。

它具有较高的导电率和热稳定性，但容易受到氧化影响而失效。

3.砷化镓晶体管砷化镓晶体管是一种新型半导体材料，具有高速、高频、低噪声等优点。

它被广泛应用于高频率放大器和微波电路中。

二、按结构分类1.结型晶体管结型晶体管又称为JFET（Junction Field Effect Transistor），它是通过控制PN结上空间电荷区域内场效应来控制电流的。

它具有低噪声、高输入阻抗等特点，被广泛应用于放大器和开关电路中。

2.双极型晶体管双极型晶体管又称为BJT（Bipolar Junction Transistor），它是由两个PN结组成的三层结构。

它具有较高的放大倍数和较低的输入阻抗，被广泛应用于放大器、开关和振荡器等电路中。

3.场效应晶体管场效应晶体管又称为FET（Field Effect Transistor），它是由金属栅极、绝缘层和半导体构成的。

它具有高输入阻抗、低噪声等特点，被广泛应用于放大器、开关和振荡器等电路中。

三、按工作方式分类1.增强型晶体管增强型晶体管是一种需要外加正向偏压才能工作的晶体管。

当栅极与源极之间施加正向偏压时，会形成导通通道，从而使得漏极之间产生电流。

它具有较高的放大倍数和较低的输入阻抗。

2.耗尽型晶体管耗尽型晶体管是一种不需要外加偏压就能工作的晶体管。

当栅极与源极之间没有施加偏压时，会形成一个耗尽区，从而使得漏极之间无法产生电流。

当施加负向偏压时，会增加耗尽区的宽度，从而减小漏极之间的电流。

3.复合型晶体管复合型晶体管是一种同时具有增强型和耗尽型特点的晶体管。

晶体管的介绍

G－栅极（基极）－栅极（基极） S－源极（发射极）－源极（发射极） D－漏极（集电极）－漏极（集电极） B－衬底－
MOS管工作原理管工作原理
正常放大时外加偏置电压的要求
以N沟道增强沟道增强型MOS管为管为例
VDS > 0
VGS > 0
栅源电压VGS对iD的控制作用
在栅极下方形成的导电沟在漏源电压作用下开道中的电子，因与P型半道中的电子，因与型半始导电时（即产生i 始导电时（即产生i 导体的多数载流子空穴极D）的栅源电压为开启电反型层。性相反，故称为反型层性相反，故称为反型层。压VT
工作状态偏置条件电流关系 C、E间等 C、E间等效电阻截止放大饱和发射结和集电结均正偏发射结和集电发射结正偏集电结反偏结均反偏
iB =0 iC =ICEO ≈ 0
很大
iB >0 iC = β iB
可变
iC =ICS≠β iB UCES=0.3V
很小
c b+ uBE iB iC + uCE iE -e
I
PN结的单向导电性使 PN结的单向导电性使 PN结在使用时有得PN结在使用时有正向开启电压的存在：开启电压的存在：硅管的开启电压约 0.7V，为0.7V，锗管的开 O 启电压约为0.3V。启电压约为0.3V。
反向
V
1、发射区向基区注入大量电子、因浓度差，发射结因浓度差，发射区的大量电子经发射结扩散注入基区，形成电子流 →IEn 结扩散注入基区，正偏扩散）（扩散）基区空穴扩散注入发射区 →IEP
P IEn
EC
3、集电区收集发射区扩散过来的电子、在外电场作用下，在外电场作用下，由发射区扩散在集电集电结结附近的非平衡少子漂移到集电区 →ICn 反偏漂移）（漂移）基区的电子漂移到集电区平衡少子的漂移 → ICBO 集电区的空穴漂移到基区

晶体管的基本特性与分类概述

晶体管的基本特性与分类概述晶体管是现代电子技术中最重要的器件之一。

它的发明和应用对计算机、通信和电子设备的发展起到了重要的推动作用。

本文将介绍晶体管的基本特性和分类，旨在让读者对晶体管有一个基本的了解。

一、晶体管的基本特性晶体管是一种半导体器件，它具有放大、开关和逻辑控制等功能。

具体来说，晶体管的基本特性包括：1. 管子：晶体管通常由三层半导体材料构成。

这三层分别被称为发射极（Emitter）、基极（Base）和集电极（Collector）。

2. 构造：晶体管的外形类似于一个小型的晶体管，并且有几个引脚用于外部电路连接。

3. 工作原理：当向发射极施加电流时，由于P-N结的存在，电流会从发射极到基极，进而控制集电极上的电流。

二、晶体管的分类晶体管根据不同的材料、结构和工作方式可以分为多种类型。

下面介绍几种常见的晶体管分类：1. 按材料分：a. 硅晶体管：硅晶体管是最常用的晶体管类型之一。

它具有成本低、可靠性好、耐高温等特点，在各种电子设备中得到广泛应用。

b. 砷化镓晶体管：砷化镓晶体管是一种高频率的晶体管，适用于射频放大器等高频率应用。

2. 按结构分：a. NPN晶体管：NPN晶体管由两个P型掺杂的半导体层包裹一个N型掺杂的半导体层组成。

它是最常用的晶体管结构之一。

b. PNP晶体管：PNP晶体管与NPN晶体管结构相反，由两个N 型掺杂的半导体层包裹一个P型掺杂的半导体层组成。

3. 按工作方式分：a. 放大型晶体管：放大型晶体管可以将微弱的信号放大到较大的幅度，常用于放大电路中。

b. 开关型晶体管：开关型晶体管可以控制电流的通断，常用于数字电路和开关电源等应用。

除了以上几种分类，还有一些特殊类型的晶体管，比如场效应晶体管（FET）和金属-绝缘体-半导体（MIS）晶体管等。

综上所述，晶体管作为一种重要的半导体器件，具有放大、开关和逻辑控制等功能。

根据材料、结构和工作方式的不同，晶体管可以分为多种类型。

晶体管分类及对应型号

（二）高频晶体管
高频晶体管（指特征频率大于30MHZ的晶体管）可分为高频小功率晶体管和高频大功率晶体管。
常用的国产高频小功率晶体管有3AG1~3AG4、3AG11~3AG14、3CG3、3CG14、3CG21、3CG9012、3CG9015、3DG6、3DG8、3DG12、3DG130、3DG9011、3DG9013、3DG9014、3DG9043等型号，部分国产高频小功率晶体管的主要参数见表5-1。
常用的进口高频中、大功率晶体管有2SA634、2SA636、2SA648A、2SA670、2SB940、2SB734、2SC2068、2SC2258、2SC2371、2SD1266A、2SD966、2SD8829、S8050、S8550、BD135、BD136等型号，各管的主要参数见表5-4。
（三）超高频晶体管
常用的进口高频小功率晶体管有2N5551、2N5401、BC148、BC158、BC328、BC548、BC558、9011~9015、S9011~S9015、TEC9011~TEC9015、2SA1015、2SC1815、2SA562、2SC1959、2SA673、2SC1213等型号。表5-2是各管的主要参数。
常用的国产低频大功率晶体管有3DD102、3DD14、3DD15、3DD52、DD01、DD03、D74、3AD6、3AD30、3DA58、DF104等型号，表5-9是各管的主要参数。
常用的进口中、低频大功率晶体管有2SA670、2SB337、2SB556K、2SD553Y、2SD1585、2SC1827、2SC2168、BD201~BD204等型号，表5-10是各管的主要参数。
1．带阻晶体管的电路图形符号及文字符号带阻晶体管目前尚无统一标准符号，在不同厂家的电子产品中电路图形符号及文字符号的标注方法也不一样。例如，日立、松下等公司的产品中常用字母“QR”来表示，东芝公司用字母“RN”来表示，飞利浦及NEC（日电）等公司用字母“Q”表示，还有的厂家用“IC”表示，国内电子产品中可以使用晶体管的文字符号，即用字母“V”或“VT”来表示。图5-12是不同厂家电子产品中带阻晶体管常用的电路图形符号。

《晶体管电路设计(上)》

《晶体管电路设计(上）》一、晶体管基础知识1. 晶体管的分类与结构晶体管是一种半导体器件，按照结构和工作原理的不同，可分为两大类：双极型晶体管（BJT）和场效应晶体管（FET）。

双极型晶体管包括NPN型和PNP型，而场效应晶体管主要包括增强型MOS管和结型场效应管。

2. 晶体管的工作原理（1）双极型晶体管（BJT）工作原理：当在基极与发射极之间施加适当的正向电压，基区内的少数载流子会增多，导致集电极与发射极之间的电流增大，从而实现放大作用。

（2）场效应晶体管（FET）工作原理：通过改变栅极电压，控制源极与漏极之间的导电通道，实现电流的放大。

3. 晶体管的特性参数（1）直流参数：包括饱和压降、截止电流、放大系数等。

（2）交流参数：包括截止频率、增益带宽积、输入输出阻抗等。

二、晶体管放大电路设计1. 放大电路的基本类型（1）反相放大电路：输入信号与输出信号相位相反。

（2）同相放大电路：输入信号与输出信号相位相同。

（3）电压跟随器：输出电压与输入电压基本相等。

2. 放大电路的设计步骤（1）确定电路类型：根据实际需求选择合适的放大电路类型。

（2）选择晶体管：根据电路要求，选取合适的晶体管型号。

（3）计算电路参数：包括偏置电阻、负载电阻、耦合电容等。

（4）电路仿真与调试：利用电路仿真软件进行仿真，并根据实际效果调整电路参数。

三、晶体管开关电路设计1. 开关电路的基本原理晶体管开关电路利用晶体管的截止和饱和状态，实现电路的通断控制。

当晶体管处于截止状态时，开关断开；当晶体管处于饱和状态时，开关闭合。

2. 开关电路的设计要点（1）选择合适的晶体管：确保晶体管在截止和饱和状态下都能满足电路要求。

（2）优化电路参数：合理设置驱动电流、开关速度等参数，以提高开关电路的性能。

（3）考虑开关损耗：在设计过程中，尽量降低开关过程中的能量损耗，提高电路效率。

《晶体管电路设计(上）》四、晶体管稳压电路设计1. 稳压电路的作用与分类稳压电路的主要作用是保证输出电压在一定范围内稳定不变，不受输入电压和负载变化的影响。

半导体基础 7.1场效应晶体管-MOSFET

南京大学第三部分场效应晶体管半导体器件基础第七章：MOSFET一、MOSFET简介二、MOS电容三、MOSFET定性分析四、MOSFET定量分析电子科学与工程学院MOSFET与BJT半导体器件基础南京大学电子科学与工程学院2014/4/9一、MOSFET简介半导体器件基础（1）基本概况晶体管的分类：双极型晶体管（少子与多子参与导电）单极型晶体管（电流由多数载流子输运）。

硅平面工艺和外延技术的发展，实现了对器件尺寸的较精确的控制。

对硅—二氧化硅界面特性的研究及表面态密度的控制，使场效应管得到了显著的发展。

南京大学电子科学与工程学院器件比较半导体器件基础电压控制器件(MOSFET)利用加在栅极与源极之间的电压来控制输出电流。

饱和区工作电流IDSS会随VGS而改变。

电流控制器件(BJT)利用基极电流控制集电极电流。

南京大学电子科学与工程学院1场效应管的分类：半导体器件基础表面场效应管（绝缘栅场效应管IGFET和MOS场效应管）。

结型场效应管（JFET），使用PN结势垒电场控制导电能力的体内场效应管。

薄膜场效应管（TFT）采用真空蒸发工艺制备在绝缘衬底上。

结构与原理类似表面场效应管。

南京大学电子科学与工程学院半导体器件基础2014/4/9半导体器件基础性能比较输入阻抗高：（103-106与109-1015）。

噪声系数小。

多子输运电流，不存在散粒噪声和配分噪声。

功耗小，可用于制造高密度的半导体集成电路。

温度稳定性好。

多子器件，电学参数不易随温度而变化（n与）。

抗辐射能力强：双极型晶体管的下降（非平衡少子的寿命降低），而场效应管的特性变化小（与载流子寿命关系不大）。

其它：工艺卫生要求较高，速度较低。

南京大学电子科学与工程学院半导体器件基础南京大学电子科学与工程学院南京大学电子科学与工程学院2南京大学集成电路工艺的演变半导体器件基础•10 µm — 1971 •6 µm — 1974 •3 µm — 1975 •2 µm — 1979•1.5 µm — 1982 •1 µm — 1985•800 nm (0.80 µm) — 1989 •600 nm (0.60 µm) — 1994 •350 nm (0.35 µm) — 1995 •250 nm (0.25 µm) — 1998 •180 nm (0.18 µm) — 1999 •130 nm (0.13 µm) — 2000•90 nm — 2002 •65 nm — 2006 •45 nm — 2008 •32 nm — 2010 •22 nm — approx. 2011 •16 nm — approx. 2013 •11 nm — approx. 2015电子科学与工程学院2）P沟耗尽型：半导体器件基础在零偏栅极电压下，半导体表面存在P型沟道（采用B离子注入的方法）。

晶体管知识介绍

Iceo,又称为漏电流，是指基极开路（Ib=0)时，集电极和发射极间加上规定的反向电压Uce时的集电极反向电流，此电流值越小，三极管的性能越好。
Iebo，是指集电极（Ic=0）开路时,在发射极和基极间加上规定的反向电压时发射极的电流。
3.反向基穿电压（BUceo和BUcbo)
BUceo，是指基极开路时，集电极与发射极间的反向击穿电压。 BUcbo，是指发射极开路时，集电极与基极间的反向击穿电压。
当uBE<UBE(on)时，iB≈0。 UBE(on)为三极管的导通电压或死区电压，硅管约为0.5-0.6V，锗管约为0.1V。
当uBE>UBE(on)时，随着uBE的增大，iB开始按指数规律增加，而后近似按直线上升。
2.当uCE=0时，三极管相当于两个并联的二极管，所以 be间加正向电压时，iB很大，对应的曲线明显左移。
外形图片
第二章: MOS管
MOS管
定义：MOS管是利用输入电压产生的电场效应来控制输出电流的一种电压控制型器件，是只依靠一种载流子导电的晶体管，它具有三个电极：栅极(G)、漏极(D)、源极(S)。
工作原理：利用改变栅源电压VGS，来改变导电沟道的宽度和高度，从而改变沟道电阻，最终达到对漏极电流ID 的控制作用。如下VGS与ID的特性曲线可知：VDS不变时，ID随着VGS电压的增大而增大。
计算公式：
gm
diD dVGS
VDS 常数
MOS管的特性参数
极限参数
最大漏极电流 IDM，是指管子在工作时允许的最大漏极电流。最大耗散功率 PDM，是指管子性能正常时所允许的漏源极间的最大耗散功率，
最大耗散功率PDM＝VDS·IDM，它受管子最高工作温度的限制。漏源极击穿电压 V(BR)DS，是指漏源极间所能承受的最大电压，也就是使ID开始急剧上升

晶体三极管

vCE较大时，特性曲线进入与vCE轴基本平行的区域
当集电结反偏电压较大时，扩散到基区的电子基本上都可以被集电区收集，此后 v CE 再增加，电流也没有明显的增加，故特性曲线与 v C E 轴基本平行
BJT输出特性曲线的三个工作区
vCB= vCE - vBE
(1) 饱和区
特征： : 判断依据 iB 0 iB 0 范围 : 或偏或反偏(但反偏电压很小发射结正偏，集电结正 )； v v V vCE VCC BE vBECE vCE CC vCE 或 i 随 v 的增加而增加， iC iB ； C CE vBE Vth vBE Vth vCE 很小，称为“饱和管压降vCES ”
BJT中的电流分配关系
I C I CN I CBO I B I B I CBO I E I B I C I I I B CN E
(2) 电流放大系数
(a) 电流控制作用
I CN 定义：＝，称为 IE
IC IE
IC IB
三个电极电流之间满 “共基极直流电流放大足一定的比例分配关系数”， 1但接近1 系，一个电极电流发 I CN 定义：＝，称为生改变，另两个电流 I B 都会发生变化，因此 “共射极直流电流放大 I C I CN I CBO 可实现电流控制和放 I B I B I CBO I E I B I C 系数”，＝ 1 大作用 I I I 1 － E B CN
BJT安全工作区示意图
PCM=iCvCE 双曲线
集电极最大允许电流ICM
当集电极电流增加时，即 I B 和 I C 增加，就要下降，当值下降到线性放大区值的 70 ～ 30 ％时，所对应的集电极电流称为集电极最大允许电流ICM。至于值下降多少，会随三极管的型号以及生产厂家而有所差别。

晶体管的分类及符号

晶体管的分类及符号
晶体管是一种重要的电子器件，常用于电子电路中的放大、开关和控制等功能。

根据结构和工作原理的不同，可以将晶体管分为以下几种常见类型：
1. NPN 晶体管：NPN 晶体管是一种双向导电的晶体管，由两个N 型半导体层夹着一个P 型半导体层构成。

其符号为三个箭头，其中两个箭头指向P 型半导体，一个箭头指向N 型半导体。

2. PNP 晶体管：PNP 晶体管也是一种双向导电的晶体管，与NPN 晶体管相比仅改变了半导体层的类型。

其符号与NPN 晶体管相比，箭头的方向相反。

3. MOSFET：MOSFET 是金属氧化物半导体场效应晶体管（Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor）的简称。

它由金属门极、氧化物绝缘层和半导体基区构成。

根据结构和工作原理的不同，MOSFET 又可以分为N 沟道型和P 沟道型两种类型。

4. JFET：JFET 是结型场效应晶体管（Junction Field-Effect Transistor）的简称。

它有N 型和P 型两种型号。

N 型JFET 的符号为一个箭头指向内部N 型层，P 型JFET 的符号为一个箭头指向内部P 型层。

这些都是晶体管中最常见的类型，每种类型的晶体管都有不同的应用场景和特点。

在电子电路设计中，正确选择和使用适当的晶体管类型非常重要。

三极管的分类和作用

------------------------------------------------------------------1.概念:半导体三极管也称双极型晶体管,晶体三极管,简称三极管,是一种电流控制电流的半导体器件.作用:把微弱信号放大成辐值较大的电信号, 也用作无触点开关.2.三极管的分类:a.按材质分: 硅管、锗管b.按结构分: NPN 、 PNPc.按功能分: 开关管、功率管、达林顿管、光敏管等.3.三极管的主要参数:a. 特征频率fT:当f= fT时,三极管完全失去电流放大功能.如果工作频率大于fT,电路将不正常工作.b. 工作电压/电流:用这个参数可以指定该管的电压电流使用范围.c. hFE:电流放大倍数.d. VCEO:集电极发射极反向击穿电压,表示临界饱和时的饱和电压.e. PCM:最大允许耗散功率.f. 封装形式：指定该管的外观形状,如果其它参数都正确，封装不同将导致组件无法在.4.判断基极和三极管的类型:先假设三极管的某极为“基极”,将黑表笔接在假设基极上,再将红表笔依次接到其余两个电极上,若两次测得的电阻都大(约几K到几十K),或者都小(几百至几K),对换表笔重复上述测量,若测得两个阻值相反(都很小或都很大),则可确定假设的基极是正确的,否则另假设一极为“基极”,重复上述测试,以确定基极.当基极确定后,将黑表笔接基极,红表笔笔接基它两极若测得电阻值都很少,则该三极管为NPN,反之为PNP.判断集电极C和发射极E,以NPN为例:把黑表笔接至假充的集电极C,红表笔接到假设的发射极E,并用手捏住B和C极,读出表头所示C,E电阻值,然后将红,黑表笔反接重测.若第一次电阻比第二次小,说明原假设成立.体三极管的结构和类型晶体三极管，是半导体基本元器件之一，具有电流放大作用，是电子电路的核心元件。

三极管是在一块半导体基片上制作两个相距很近的PN结，两个PN结把正块半导体分成三部分，中间部分是基区，两侧部分是发射区和集电区，排列方式有PNP和NPN两种，从三个区引出相应的电极，分别为基极b发射极e和集电极c。

晶体管的分类

晶体管的分类晶体管的代表形状晶体管分类图：按照该分类，掌握其种类1. 按结构分类根据工作原理不同分类，分为双极晶体管和单极晶体管。

双极晶体管双是指Bi（2个）、极是指Polar（极性）。

双极晶体管，即流经构成晶体管的半导体的电流由空穴（正极性）和电子（负极性）产生。

一般而言的晶体管是指这种由硅构成的晶体管。

FETField Effect Transistor的简称，是指场效应晶体管。

有接合型FET和MOS型FET以及GaAs型。

接合型FET多用于音频设备等的模拟电路中，MOS型FET主要用于微控制器等数字IC。

GaAs型用于卫星广播信号接收等的微波增幅。

※MOSMetal Oxide SemicONductor的简称，因其构造分别是金属(Metal)、硅酸化膜 (Oxide)、半導体 (SemicONductor)，故称MOS。

MOS还分为P型、N型、C型，因为消费电流小，用于微控制器等集成度高的IC。

2. 按功率分类主要以最大额定值的集电极功率PC进行区分的方法。

大体分为小信号晶体管和功率晶体管，一般功率晶体管的功率超过1W。

ROHM 的小信号晶体管可以说是业界第一的。

小信号晶体管最大集电极电流 (IC(max)) 在500mA以下，最大集电极功率(PC(max)) 不超过1W的晶体管。

相对功率晶体管而得名，一般以树脂封装居多，这是其特点之一。

功率晶体管一般功率晶体管的功率超过1W。

相比小信号晶体管拥有更大的最大集电极电流、最大集电极功率，对于散热而言，它本身形状就很大，有的功率晶体管上还覆盖着金属散热片。

晶体管"一词由Transfer（传送信号）和Resistor（电阻器）组成。

构成晶体管的硅是形成地球的岩石中大量含有的物质。

因此，晶体管也俗称"石"，设计者常用"…之石"的叫法3. 按集成度分类为满足客户需求，ROHM在分立式晶体管以外，还制造集成多个晶体管的复合晶体管。

世界晶体管手册

世界晶体管手册晶体管是现代电子技术中不可或缺的元件之一，广泛应用于电脑、手机、电视等各种电子设备中。

本文将介绍晶体管的基本原理、发展历程以及主要分类和应用领域。

一、晶体管的基本原理晶体管是一种电子器件，主要以硅（Si）或者锗（Ge）等半导体材料制成。

它具有三个层次：发射极（Emitter）、基极（Base）和集电极（Collector）。

发射极中注入的电子通过控制基极电压，从而控制栅极上的电流。

晶体管的工作原理是基于PN结的导电性转变和场效应管现象。

当发射极正极性与基极负极性相连时，形成正向偏置，晶体管处于导通状态。

而当发射极负极性与基极正极性相连时，形成反向偏置，晶体管处于截止状态。

二、晶体管的发展历程晶体管的发展经历了数十年的努力和探索。

1947年12月，美国贝尔实验室的肖克利等人成功制造了第一颗固态晶体管，这被视为晶体管的问世之始。

1954年，美国物理学家巴丝基特发明了结型晶体管（Junction Transistor），取得了重大突破。

20世纪50年代末，由英国科学家肖克利发明的单晶体硅晶体管进一步推动了晶体管的发展进程。

20世纪60年代，摩尔定律的提出，在晶体管的连续改进和升级中发挥重要作用。

三、晶体管的分类根据结构和性质，晶体管可以分为多种类型。

其中，最常见的是双极性晶体管（BJT）。

此外，还有场效应晶体管（FET）、绝缘栅双极型晶体管（IGBT）等。

双极性晶体管具有放大电流和开关功能，广泛应用于音频放大器、射频放大器和数字逻辑电路等领域。

而场效应晶体管则因其高输入阻抗和低输出阻抗而在集成电路中得到广泛应用。

四、晶体管的应用领域晶体管技术的应用范围非常广泛。

在通信领域，晶体管被广泛应用于手机、卫星通信等设备中。

在电脑领域，晶体管作为核心元件，推动了计算机技术的迅猛发展。

在医疗设备方面，晶体管常用于心脏起搏器等电子器械中。

此外，由于晶体管具有快速开关和小尺寸的特点，也常被应用于车载电子设备以及军事领域。

全面了解三极管——三极管基本参数总结

全面了解三极管——三极管基本参数总结 Xiaoxiaodawei现在的IC 技术是日新月异的技术，无论是模拟电路，还是数字电路都能进行IC 化或LSI 化。

观察电视机和计算机内部，除了电源电路以外，几乎所有的电路都被IC 化或LSI 化，找到晶体管和FET 等单个放大器是很困难的。

但是，仅仅使用IC 和LSI 的电路设计，只是选择符合电路设计说明书的性能与功能的IC 和LSI ，因此不能说是创造性的工作，并且OP 放大器出现问题时，不能直接调整，但是，如果是单个晶体管的放大电路，就能采取多种对策。

所以还是有必要全面学习三极管的。

接下来是对三极管分类、晶体管三个直流特性参数以及技术手册看哪些参数进行讲解。

关键词：晶体管分类；晶体管三个直流特性参数；技术手册；一、晶体管的分类晶体管有两种类型，分别称NPN 晶体管和PNP 晶体管，它们都有两个PN 结，基本结构如图1-1所示：图1-1 晶体管的PN 结图1-1中所示的PN 结为二极管，可以认为，晶体管在基极-发射极间和基极-集电极间连接着二极管。

二、晶体管的三个直流特性参数1、直流增益hfe如果获得适当的偏置，可以把b 极电流IB 进行放大，在c 极形成一个较大的电流Ic ，三极管的直流增益可以表示为：C FE B I h I = (1.1)该参数描述了三极管把电流放大的倍数，假设直流增益hfe 为200，基极电流IB 为50uA ，那么集电极电流Ic 为：2005010C FE B I h I A mA μ==⨯= (1.2)可见三级管把50uA 放大到了10mA 。

有的朋友可能会大胆地说，如果三极管直流增益hfe=200，那为了实现某个电流Ic=2A 的需求，干脆就给三极管b 极输入10mA 的电流行不行？答案是否定的，这里有两个问题：第一个问题是任何型号的三极管都有一个最大集电极电流Ic ，如图2-1某三极管的极限参数最大集电极电流Ic 为200mA ，所以如果b 极输入过大的电流就有可能烧毁三极管的风险。

晶体管有哪些分类-晶体管的分类

晶体管有哪些分类-晶体管的分类
晶体管有哪些分类-晶体管的分类
晶体管是一种固体的器件,它属于半导体，那么，晶体管有哪些分类大家知道吗?下面，店铺为大家讲讲晶体管的分类，快来看看吧!
电流容量
晶体管按电流容量可分为小功率晶体管、中功率晶体管和大功率晶体管。

按功能和用途
晶体管按功能和用途可分为低噪声放大晶体管、中高频放大晶体管、低频放大晶体管、开关晶体管、达林顿晶体管、高反压晶体管、带阻晶体管、带阻尼晶体管、微波晶体管、光敏晶体管和磁敏晶体管等多种类型。

工作频率
晶体管按工作频率可分为低频晶体管、高频晶体管和超高频晶体管等。

封装结构
晶体管按封装结构可分为金属封装(简称金封)晶体管、塑料封装(简称塑封)晶体管、玻璃壳封装(简称玻封)晶体管、表面封装(片状)晶体管和陶瓷封装晶体管等。

其封装外形多种多样。

材料
按晶体管使用的半导体材料可分为硅材料晶体管和锗材料晶体管。

按晶体管的极性可分为锗NPN型晶体管、锗PNP晶体管、硅NPN型晶体管和硅PNP型晶体管。

工艺
晶体管按其结构及制造工艺可分为扩散型晶体管、合金型晶体管和平面型晶体管。

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晶体管的分类

晶体管的分类一、晶体管的概述晶体管是一种半导体器件，用于控制电流的流动。

它是现代电子技术中最重要的元件之一，广泛应用于计算机、通信、电源等领域。

晶体管的分类主要根据其结构和工作原理来进行。

二、按结构分类2.1 管腿型晶体管管腿型晶体管是最早的晶体管类型之一，也是最简单的一种。

它由两个金属电极（基极和发射极）和一个半导体材料组成。

管腿型晶体管的结构简单，制造成本低廉，但其性能相对较差，逐渐被新型晶体管取代。

2.2 管芯型晶体管管芯型晶体管是一种改进型的晶体管，它在管腿型晶体管的基础上增加了一个控制电极（集电极）。

管芯型晶体管的结构更加复杂，但由于集电极的引入，其性能得到了显著提升。

管芯型晶体管广泛应用于各个领域，成为了当时最主要的晶体管类型。

2.3 型面型晶体管型面型晶体管是一种新型的晶体管，它采用了型面技术制造。

型面型晶体管结构更加复杂，但具有更好的性能表现。

型面型晶体管在高频率和高功率应用中表现出色，成为了现代电子技术中的重要组成部分。

三、按工作原理分类3.1 NPN型晶体管NPN型晶体管是一种常见的极性型晶体管，它由两个N型半导体材料（发射区和集电区）夹一个P型半导体材料（基区）组成。

NPN型晶体管的工作原理是通过控制基极电流，调节发射极和集电极之间的电流流动，实现信号放大和开关控制。

3.2 PNP型晶体管PNP型晶体管与NPN型晶体管相似，只是材料的类型和极性相反。

PNP型晶体管的工作原理也是通过控制基极电流，调节发射极和集电极之间的电流流动。

PNP型晶体管常用于与NPN型晶体管组合成逻辑门电路和放大电路。

3.3 MOSFET晶体管MOSFET晶体管是一种特殊的晶体管，它采用了金属-氧化物-半导体结构。

MOSFET 晶体管的工作原理是通过控制栅极电压，调节漏极和源极之间的电流流动。

MOSFET 晶体管具有高输入电阻、低功耗和快速开关速度等优点，广泛应用于集成电路和数字电路中。

3.4 JFET晶体管JFET晶体管是一种结构特殊的晶体管，它采用了PN结的结构。

三极管分类

三极管分类
三极管，又称为晶体管，是一种电子控制元件，广泛应用于电子设备的设计和控制中。

三极管可以分为不同的类型，主要是根据结构和功能的不同来进行分类。

首先，根据三极管内部结构的不同，三极管可以分为pnp型和npn型两种。

其中，pnp型三极管内部结构采用pnp结构，它的输入
电压可以正向输入，可以用来对下游的特定电子设备进行正向控制，而npn型三极管内部结构采用npn结构，它的输入电压可以负向输入，可以用来对电子设备进行负向控制。

其次，根据三极管的功能分类，三极管可以分为普通三极管、隔离放大器三极管、驱动器三极管和放大器三极管等。

其中，普通三极管是最常用的三极管，它可以将输入的低功率电能转换为较高功率的电能，从而将输入的信号变成输出的信号；而隔离放大器三极管采用负反馈机制，可以隔离电子设备之间的信号传输，避免出现信号和电源混乱的情况；而驱动器三极管可以驱动电子设备，它可以提供较高的输出功率以驱动电子设备；而放大器三极管采用正反馈机制，可以将电子设备的输入信号放大，从而获得更强的输出信号。

最后，根据空气冷却管的工作原理，三极管也可以分为隔离型、网络型和功率型三极管。

其中，隔离型三极管可以用来隔离电路之间的信号，以避免信号和控制信号的混乱；而网络型三极管可以用来连接不同的网络电路，以实现网络的互联互通；而功率型三极管可以将输入的低功率电能转换为较高的功率，用来提供电子设备的功率需求。

总之，三极管可以根据结构和功能不同来进行分类，它们各自具有不同的特性和作用，在电子设备的设计和控制中发挥着重要作用。

gan功率晶体管

gan功率晶体管（原创版）目录1.功率晶体管的概述2.功率晶体管的分类3.功率晶体管的特点与应用4.功率晶体管的发展趋势正文1.功率晶体管的概述功率晶体管，又称为功率三极管，是一种用于放大和开关电信号的半导体器件。

其主要作用是在电路中承受和控制高功率电流，从而实现对电气设备的控制和驱动。

功率晶体管具有较高的工作电压和电流，能够承受较大的功率损耗，广泛应用于放大器、稳压器、脉冲发生器等电子设备中。

2.功率晶体管的分类根据结构和材料不同，功率晶体管可分为两类：双极型功率晶体管（BJT）和场效应晶体管（FET）。

（1）双极型功率晶体管（BJT）：双极型功率晶体管主要包括 NPN 型和 PNP 型，具有三个控制电极：发射极、基极和集电极。

根据电流放大系数不同，双极型功率晶体管又可分为两类：共射极放大器、共基极放大器和共集极放大器。

（2）场效应晶体管（FET）：场效应晶体管根据沟道材料不同，可分为金属氧化物半导体场效应晶体管（MOSFET）和增强型氮化镓场效应晶体管（GaN HEMT）等。

FET 具有较高的输入电阻和较低的噪声，可以实现较大的信号增益，适用于高频、高压、大功率应用。

3.功率晶体管的特点与应用（1）特点：功率晶体管具有较高的工作电压和电流，能够承受较大的功率损耗；具有较低的导通电阻和较高的电流放大系数，可以实现较大的信号增益；具有较好的温度稳定性和可靠性，能够在恶劣环境下正常工作。

（2）应用：功率晶体管广泛应用于放大器、稳压器、脉冲发生器等电子设备中，实现对电气设备的控制和驱动。

同时，随着新型材料技术的发展，功率晶体管在高频、高压、大功率应用领域具有广泛的应用前景。

4.功率晶体管的发展趋势随着科技的不断进步，功率晶体管在材料、结构和工艺等方面不断创新，呈现出以下发展趋势：（1）材料：由硅材料向氮化镓、碳化硅等宽禁带材料发展，以实现更高的工作电压、电流和频率。

（2）结构：由传统的双极型功率晶体管向场效应晶体管发展，以提高开关速度和减小导通电阻。