培训系列之2(张世伟):真空工程理论基础
真空物理基础要点
第2讲真空物理基础为了阐述真空技术中经常遇到的一些物理知识,特别是那些在真空行业中会经常遇到的一些基本物理定律和相关的理论问题,如理想气体定律、气体与蒸汽的性质、气体内部各种动力过程的规律以及气体与固体间相互作用的规律等一系列问题,对真空物理中的一些问题进行一些介绍是十分必要的。
2.1 理想气体定律及其状态方程本节所介绍的定律及相关公式是针对平衡状态下,符合理想气体的有关假设条件的前提下而得出的。
由于在真空技术中研究的气体大多数处于常温和低压状态下,因此在工程计算中应用这些定律基本上是符合实际的。
现就有关问题分述如下:2.1.1 气体定律气体的压力p(Pa)、体积V(m3)、温度T(K)和质量m(kg)等状态参量间的关系,服从下述气体实验定律:2.1.1.1 波义耳—马略特定律:一定质量的气体,当温度维持不变时,气体的压力和体积的乘积为常数。
即:pV=常数2-12.1.1.2 盖·吕萨克定律:一定质量的气体,当压力维持不变时,气体的体积与其绝对温度成正比,即:V常数T2-22.1.1.3 查理定律:一定质量的气体,当体积维持不变时,气体的压力与其绝对温度成正比,即:P/T=常数2-3上述三个公式习惯上称为气体三定律。
具体应用方式常为针对由一个恒值过程连结的两个气体状态,已知3个参数而求第4个参数。
例如:初始压力和体积为P1、V1的气体,经等温膨胀后体积变为V2,则由波义耳—马略特定律,即可求出膨胀后的气体压力为P2=P1V1/V2。
这正是各种容积式真空泵最基本的抽气原理。
2.1.1.4 道尔顿定律:相互不起化学作用的混合气体的总压力等于各种气体分压力之和,即:P=P1+P2+……P n2-4这里所说的混合气体中某一组分气体的分压力,是指这种气体单独存在时所能产生的压力。
道尔顿定律表明了各组分气体压力的相互独立和可线性叠加的性质。
2.1.1.5阿佛加德罗定律:等体积的任何种类气体,在同温度同压力下均有相同的分子数,或者说,在同温度同压力下,相同分子数目的不同种类气体占据相同的体积,人们把1mol 任何气体的分子数目N A 叫做阿佛加德罗数,N A =6.022×1023mol -1。
培训系列之质谱原理与真空检漏
探索法真空检漏系统
2.1 真空检漏法
在探索法检漏中,检漏器、被检件及辅助真空
系统的连接方式如上页图所示的两种方式。在系统
正常运转后就可以开始检漏工作。在示漏物质没有
施加到漏孔上时,检漏器8的本底输出信号可以认
为零(或补偿到零)。示漏物质施加到漏孔之后,示
应用,故在圆截面漏孔中取一微长度元ΔL,其 两端压差为Δp, 这样就满足了上述条件,并
令漏孔长为1cm,经分析可得到如下结论:
1.3 漏孔气流特性
当qL>10-6 Pam3s-1时,此时主要是粘滞流。 当qL<10-9 Pam3s-1时,其流动主要是分子流
。
不同种类气体通过漏孔漏率也不相同。如同 一漏孔的氦漏率与空气漏率的比值,在粘滞流 状态下为
真空室)的有效抽速为Se,则真空容器的允许漏率为
qLp=0.1×pωmax Se
式中pωmax —— 真空装置最大工作压力
Se —— 泵对被抽容器的有效抽速
1.4 最大允许漏率的计算
(2)静态真空系统(无消气剂继续抽气)允许漏 率:
静态系统是指工作时与泵隔开的系统,一般
称密闭容器或封离容器。这种系统的特点是要求极
(3)斜线c,压力直线上升,这说明是漏气。漏气率正比
于内外压力差。外部是大气压,内部压力很低,后者与 前者相比可忽略不计.故漏气率就正比于大气压,是一 常数,压力呈直线上升。
(4)曲线d,压力开始上升很快.后来变得较慢,但不出 现饱和迹象。这是曲线b和曲线c的叠加,即同时存在放 气和漏气。曲线d的 对检漏方法的要求及选择
培训系列之2(张世伟)真空工程理论基础
之一:真空技术的历史、现在与将来 之二:真空工程理论基础 之三:科技论文的检索、撰写与发表 之四:清洁真空获得技术 之五:真空系统设计 之六:真空系统设计辅助软件的使用 之七:真空测量 之八:真空装置与系统的检漏 之九:大型真空装置的监测与故障诊断 之十:专家座谈 之十一:真空获得技术 之十二:现代表面与薄膜技术 之十三:真空材料与真空卫生 之十四:真空技术应用及计算实例
荷能粒子与表面间的作用
荷能粒子: 诱导脱附:电子轰击去气 加热:电子束熔炼 溅射:镀膜
气体的宏观性质
表示气体宏观性质的物理量 气体三定律 理想气体状态方程 道尔顿定律
气体的宏观性质
表示气体宏观性质的物理量 压力 p / Pa 温度 T / K(关于真空中的温度) 体积 V / m3 质量 m / kg 密度 ρ/ kg·m-3 (分子数密度 n)
真空中的电现象
气体放电——定义与装置
定义:所谓气体放电,就是空间气体中有宏观
电流流过的气体导电现象。
直流 放电 装置
真空中的电现象
气体放电——伏安特性曲线与分类
分类:直流放电
汤生放电 辉光放电 弧光放电
真空中的电现象
气体放电——其它形式放电
射频放电(R.F. 13.56MH)
绝缘材料电极的放电
蒸汽在真空中的性质
饱和蒸汽压
封闭空间中,蒸汽与液体(固体)达到动 态平衡时所保持的状态称为饱和状态,此 时的蒸汽压力称为对应当时温度下的饱和 蒸汽压,当时的温度则称为饱和温度,即 对应当时压力的沸点。
饱和蒸汽压与饱和温度的一一对应关系, 由物质性质所决定。
蒸汽在真空中的性质
蒸汽对真空的影响 挥发性强的物质相当于放气源,常常会限
培训系列之11(张世伟):真空镀膜(二)CVD化学气相沉积
Vacuum and Fluid Engineering Research Center of Northeastern University, China
2.2化学气相沉积物理化学基础
2.2.1.CVD反应方式
2.2.2.CVD反应条件
2.2.3.CVD反应过程
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2.1化学气相沉积定义
化学气相沉积(简称CVD)是一种化学气相
反应生长法。在不同的温度场、不同的真 空度下,将几种含有构成涂层材料元素的 化合物或单质反应源气体,通入放有被处 理工件的反应室中,在工件和气相界面进 行分解、解吸、化合等反应,生成新的固 态物质沉积在工件表面,形成均匀一致的 涂层。
1)必须达到足够的沉积温度,各种涂层
材料的沉积温度,可以通过热力学计算而 得到。 2)在沉积温度下,参加反应的各种物质 必须有足够的蒸气压。 3)参加反应的各种物质必须是气态(也 可由液态蒸发或固态升华成气态),而反 应的生成物除了所需的硬质涂层材料为固 态外,其余也必须为气态。
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2.6.2HT-CVD的主要工艺参数
1)沉积温度
2)反应室压力
3)各反应气体分压(配比) 4)涂层和基体界面
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真空技术及应用系列讲座15真空材料
!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!""""真空技术及应用系列讲座东北大学真空工程博士点#博士导师杨乃恒先生主持第一讲$真空科学的发展及其应用李云奇%&’()********************第二讲$真空物理基础张世伟%&’+)*************************第三讲$机械真空泵’一)’二)’三)’四)’五)’六)张以忱%&’,)-’&)-’.)-%.’/)-’()-’+)****第四讲$蒸汽流真空泵姚民生%.’,)*************************第五讲$气体捕集式真空泵徐成海%.’&)***********************第六讲$真空测量刘玉岱%.’.)-%0’/)-’()-’+)-’,)******************第七讲$真空检漏关奎之%0’&)-’.)-%1’/)-’()-’+)******************第八讲$真空系统设计王继常%1’,)-’&)-’.)-%%’/)-’()-’+)**************第九讲$真空系统组成元件王继常%%’,)-’&)-’.)-22’/)-’()-’+)-’,)**********第十讲$真空密封王继常22’&)-’.)-2/’/)-’()-’+)-’,)-’&)**************第十一讲$真空材料张以忱2/’.)-2(’/)***********************第十一讲$真空材料张以忱’东北大学#辽宁沈阳//222.)中图分类号$340,+5340%文献标识码$6文章编号$/22(72+((’(22()2(722&%72,89:贵重金属’上接(22(年第/期第&(页)+9,9/铂’;<)铂是延展性最好的金属之一#其加工容易=表//给出了铂的性质=表>>铂的性质性质温度’?)或成形数值单位原子序数原子量密度熔点热导率线热膨胀系数布氏硬度抗拉强度杨氏模量刚度电阻率电阻率的温度系数电子逸出功退火温度@(的溶解度(2A/22//22退火&2B 纯度加工&2B 纯度退火极纯的铂冷加工极纯的铂退火/222(22A/22,2201/%&9(+(/9,&/00+29/0/29(C/27.&2%2,2A,&%0A/2+/1A(2/2222A/0&22.222A0222%91/29.2922+%(+.9(0122A/(22+C/27(D E F G7+?F H I E F G 7/E J 7/E ?7/?7/K DE G G 7(K DE G G 7(K DE G G 7(K DE G G 7(L M EFG ?7/N O ?F G +’P 3;)Q /22D铂在高温时不与氧反应#当R S &22?时#铂表面上所有的氧化物均会分解=在022?以上时#氢能渗入铂中#但其它常见气体则不能=铂不受汞的腐蚀#但在高温下能与碱-卤素-硫-磷反应=除热王水之外#铂可耐一般的酸腐蚀=铂的化合物可用在一些高温钎焊合金-高温热电偶-坩埚和灯丝中#尤其可用在有腐蚀性气体的地方=镀;<的TU 栅极具有寿命长-二次电子发射率低的特性=铂的膨胀系数很适用于玻璃V 金属密封或陶瓷V 金属密封中的封接材料=铂细丝还可以封接在玻璃中用作高电导率的电极引线=在铂中加入W X或P Y 可以提高铂的硬度=由于铂的价格昂贵#所以一般只用于特殊场合=+9,9(钯钯是一种价格相对便宜的贵重金属#其硬度和强度类似于铂#但加工比铂稍难一点=表/(给出了钯的某些性质=钯与铂之间可以实现电阻焊或钎焊=与铂不同的是#钯在空气中加热会被氧化#但在102?时钯的氧化物便分解了=钯对@(表现出很高的溶解度’约体积的/222倍)=钯对@(的渗透率特别高’尤其是在+22A,22?时)#因此可在@(过滤器和检漏仪中应用钯=%&第(期(22(年,月真空Z [\]]^表!"钯的性质性质温度#$%或成形数值单位原子序数原子量密度熔点热导率线热膨胀系数布氏硬度抗拉强度杨氏模量电阻率电阻率的温度系数电子逸出功退火温度&’的溶解度()(***+(***+,**退火冷轧退火冷轧**+(***+-,*,./012(*234((35+(’3*’(,,1*3(2)*3()’(3(56(*7,(3’)6(*7,12(*5(1+’(--(’***(**-3)6(*7’-3(6(*7’1355)**8自身体积的),*倍9:;.7-$;<=:;.7(:>7(:$7($7(?9:..7’?9:..7’?9:..7’@A:;.$7(B C$-313-金#D E%金是一种延展性和可锻性都特别好的金属F而且还是极好的导电体G它对气体#尤其是氧气%的化学吸附性或溶解度很弱G但金能与汞生成汞齐并溶解于汞G表(-给出了金的某些性质G表!H金的性质性质温度#$%或成形数值单位原子序数原子量密度熔点比热热导率线热膨胀系数布氏硬度杨氏模量电阻率电阻率的温度系数拉制金丝*+(**铸造退火冷轧铸造退火冷轧’*1***+(**45(543’(53-’(*2-*3*-(*34((1’6(*74--’,,)4,2*)(**)*,**3*’-,*3*2--16(*7-9:;.7-$;<=:97(:$7(9:;.7(:>7(:$7($7(?9:..7’?9:..7’A:..7’:.7($7(金很容易焊接F并且很容易用银进行自身焊接G金可用作玻璃7金属封接的镀层和玻璃表面用于电接触的镀层F也可用作某些钎焊合金的成分G可以很容易的通过蒸发金的方法给玻璃镀膜或获得金薄膜G金有时也用作超高真空烘烤系统的密封垫片材料G-3131银#D9%银与金一样F常用作可烘烤超高真空系统的阀座或阀口上的密封垫片或镀层G表(1给出银的某些物理性质G与金不同的是F银对I’的溶解度很高F因此应避免在含氧的气氛中对银加热或退火G另外F氧在加热的银中扩散的快F因此如同纯净的氢气通过钯的方式一样F利用这一性质可以用银作为氧的选择过滤器G银还可用作钎焊料和硬焊料以及铜电极J金属化玻璃和电触点的镀层G有时为了增加强度F也采用银合金F如触点银#D9K L E F5(K5%或货币银#D9K L E F 5,K,%G表!M银的性质性质温度#$%或成形数值单位原子序数原子量密度熔点比热热导率线热膨胀系数布氏硬度抗拉强度杨氏模量刚度电阻率电阻率的温度系数电子逸出功退火温度*+(**退火拉制硬化退火硬化退火14(*43))(*3,,52*3)*3*,2’(3*(523)6(*74(,+-24,+5*’5+1*(-+(2)*,*2***+)***’2**(3,513(6(*7--3,2+13--1**+2**9:;.7-$;<=:97(:$7(;<=:;.7(:>7(:$7($7(?9:..7’?9:..7’?9:..7’@A:;.$7(B C$H3N软金属-3,3(铟#O0%铟是一种特别软J低熔点的金属F它的蒸气压很低G表(,给出了铟的某些性质G铟不能进行硬加工F只能在低于其熔点#(,2$%下使用#如用做密封垫片%G铟在熔点温度以上时F虽不氧化F但会受到大多数酸的腐蚀G铟可与汞很快形成汞齐F还能与很多金属形成合金G这些合金广泛用于低电阻率接触点J导电薄膜#如用O07P0合金制做O Q I薄膜%J焊料J玻璃R金属封接以及密封垫片材料G表!N铟的性质性质温度#$%或成形数值单位原子序数原子量密度熔点热导率比热线热膨胀系数布氏硬度抗拉强度杨氏模量电阻率’*$’*$’*$(,231$-3-)S15((134243-((,231*3*,4*3*,4-3-6(*74*35((((**5’5超导9:;.7-$;<=:;.7(:>7(:$7(;<=:97(:$7($7(?9:..7’?9:..7’?9:..7’@A:;.-3,3’镓#T<%镓的熔点很低F在-*$时熔化F但是镓的蒸气压相当低F因此可用做液体密封材料G而且由于镓在’1**$时仍为液体F所以可在高温温度计中应用G表*2真空第’期!"给出了镓的性质#镓可用作大多数金属之间的密封$而且稍一加热此密封便很容易拆掉#因为镓可与很多金属形成合金$所以常用来与其它低蒸气压金属形成合金#如%&’()和%&’()’*&低共熔合金在室温下就熔化$它们是很多金属和玻璃的优良润湿剂$而且不会造成腐蚀$因此可用在阀门+动密封+液体密封,应加防尘罩-和热偶计的连接,低接触电阻+良导热触点-上#在使用中应注意的是$镓的传热和导电的各向异性相当突出#表./镓的性质性质温度,0-或成形数值单位原子序数原子量密度熔点比热线热膨胀系数电阻率磁化率1234!3231131131!5!116!"7893:87!37895;183181571817:!51<!1’9:6:"85=1834<!1’"=1814<!1’">?@A’6@)B?>’!?0’!0’!C D?@A,@>E-F8/难熔金属68"8!钨,G-钨在常用的难熔材料中熔点最高$而相应的蒸气压最低#表!9给出了钨的性质$其中的一些性质是温度的函数#表.H钨的性质性质温度,0-或成形数值单位原子序数原子量密度熔点真空中的最高工作温度比热热导率线热膨胀系数布氏硬度抗拉强度杨氏模量电阻率电阻率的温度系数电子逸出功型模压制拉制!5!1111312:71型模压制退火退火冷拉丝1816A A1816A A131312!1194!56873!98"2!783!7832!78464113:"11816411816":1867748"<!1’"6:12411!9:23:1!!1411117111:81:847,485;18:-<!1’6483:>?@A’6@)B?>’!?0’!@)B?@A’!?E’!?0’!0’!I>?A A’3I>?A A’3I>?A A’3C D?@A0’!J K同所有难熔金属一样$钨是由粉末压实烧结+成形和退火制成的#钨是一种很硬+很稳定的元素$但比较脆#钨没有磁性$化学性质很稳定#大多数的酸和碱对钨只有轻微的作用$而氢气+水或稀酸对钨根本没有作用#钨只能被热的王水和!L!的M N与M O P6的混合液所腐蚀#但是在高温下$在含有氧气或其它氧化气体的大气中$钨会迅速氧化并形成GP6#由于钨的硬度和熔点高$因而加工与成形较困难$但片状或丝状钨的焊接很容易#钨可用做Q射线管的阳极+弹簧元件+高温热电偶+炉子的蒸发皿以及焊接电极#这些都利用了钨的稳定性和高熔点#钨在真空中还被大量用做蒸发加热器+灯照加热器和电子发射灯丝的材料#钨的电子发射率虽然相对较低,逸出功相对较高-$但是具有使用简便,只需去气-+抗热冲击及离子轰击能力强+熔点高及蒸气压低等特点弥补了电子发射率低的缺点#68"83钼,RS-钼是一种硬度高+无磁性+化学性质稳定的难熔金属#它只在高温时表现出氧化性$当T U"110时很快形成RS P6#钼只受热的稀M V B溶液和!L!的M N与M O P6混合液的腐蚀#在室温下$M3或干燥的P3对钼没有影响#表!5给出了钼的性质#表.W钼的性质性质温度,0-或成形数值单位原子序数原子量密度熔点比热热导率线热膨胀系数布氏硬度抗拉强度杨氏模量刚度电阻率电阻率的温度系数磁化率电子逸出功退火温度M3的溶解度3131退火钼板,1814A A厚-31冷拉钼丝退火钼丝3:"13:"1139939!939312!113123"3411"11437:87:72!13"!1181"3186:487<!1’"!4936123:1!412!53912!11!9611!!111!96112!9411!!1112!!31":8953687:68:48:9<!1’64897<!1’6!1’"48696:6<!1’!6:<!1’!>?@A’6@)B?>’!?0’!@)B?@A’!?E’!?0’!0’!I>?A A’3I>?A A’3I>?A A’3I>?A A’3C D?@A0’!,@>E-J K@A6,O X Y-!11>钼尽管有一点的脆性$但比钨易于加工#可用热处理的方法或加入O Z,6[O Z-形成合金的方法来提高钼的抗拉强度#选用适当的焊料可以实现RS与RS或RS与G之间的钎焊$在很清洁的条件下甚至可以实现点焊#钼在!"910下才能彻底去气#它可以做成杆+圆筒+螺栓+螺母及加热线圈$还可以用于硬玻璃与金属的封接+真空电炉中的蒸发皿以及各种真空器件的电极#!"第3期张以忱\真空材料!"#"!钽$%&’钽是一种重量轻(强度高的难熔金属)它的熔点很高$*+,,-’.蒸气压很低.对所有的活泼气体$包括氢在内’都具有较明显的吸气性能)表/+给出了钽的某些性质)钽的制造比较困难.由于钽对氧气和氮气敏感.因此钽的加工和成形应和低碳钢一样在室温中完成)钽可以进行点焊和缝焊.但要在表面保护的条件下进行)同样道理.钽的钎焊和去气只能在真空中进行)钽对王水$甚至是沸腾的王水’(铬酸(硝酸(硫酸和盐酸都具有非常好的抗腐蚀性.但是钽溶于01(氟化物溶液和草酸中)%&与23(%4(56一样.和氢结合能生成氢化物.这种氢化物破坏了它的金属性质)甚至在低温$/,,-’下所形成的氢化物也会使钽产生严重的脆性)将钽在真空中加热到7#,-以上时.钽中的氢气则可以放出)钽能够吸收真空系统中除惰性气体以外的大多数残余气体.特别是在高温$7,,8/*,,-’下更是如此)因此.在工作之前.对吸气表面在高真空下进行去气处理是很重要的)钽是一种好的电子发射体$居于9:与;之间’.在0<=离子镀膜设备中常用钽制做空心热阴极枪来产生电子束)用机械方法或电方法增加表面粗糙度可大幅度地提高钽的电子发射率)钽还可用做吸气剂(坩埚和高真空(高温条件下的蒸发器)表>?钽的性质性质温度$-’或成形数值单位原子序数原子量密度熔点比热线热膨胀系数热导率布氏硬度抗拉强度杨氏模量电阻率电阻率的温度系数磁化率电子逸出功*,,8/,,*,8/@,,*,/A !,/#!,退火加工$板状.硬化,"*@B B 薄板’退火加工,",C B B 钽丝/C /,,,/#!,,8/,,7!/C ,"C C/#"#8/7",*++#D@,,",!##"@E/,F #C "C E/,F #,"/!,,"/7A ,"/CA @8/*@/*@8!@,/,,!@*7/+,,,/*"A@A 7/!"C E/,F !G,"+!E/,F #A "/,H I J B F !-J &KI H F /I-F /-F /J &K I J B F /I L F /I -F /M HI B B F *M HI B B F *M HI B B F *N O I J B-F /$J H L ’P Q$未完待续RRRRRRRRRRRRRRRRRRRRRRRRRRRRRRRRRRRRRRRRRRRRRRRRR’浙江台州环球真空设备厂简介台州环球真空设备厂是真空设备专业制造厂.拥有雄厚的技术力量.具有铸造(金加工(装配(测试等一整套完整的管理体系与加工设备.产品质量过硬.性能良好./++#年经国家真空设备质量监督检验中心抽检为合格产品)主要产品S 0滑阀真空泵系列T *U 旋片真空泵系列T V 5(V W (*V W 水环真空泵系列T 5X (5X Y 罗茨真空泵系列及各类真空机组等)产品畅销全国各地.广泛应用于食品(冶金(化工(医药(航空(电子(国防和科研等部门)本厂致力于真空应用领域的开发.不断改进老产品.引进国外先进技术.以质量求生存.以信誉求发展.竭诚欢迎国内外客商光顾.共同开发真空事业)台州环球真空设备厂厂长S 赵计春地址S 台州市椒江区机场路Z [号电话S $\]^[’_‘\]?\‘_‘\Z Z []传真S $\]^[’_‘\]?\‘邮编S Z >_\\\北京市华瑞真空技术公司简介暨地址变迁启事本公司是北京市科委认定的高新科技企业.是生产真空设备的专业厂家)公司的科技人员均多年在真空行业从事产品设计(制造工作.可根据用户需要设计(生产各种用途的真空设备)产品设计的指导思想S 技术的先进性T 整机质量的高稳定性T 运行的高可靠性T 工艺的高重复性)产品特点S 一体性强T 单元化设计T 安装方便T 操作简单T 便于维护T 通用性好)主要产品系列S 多弧离子镀膜机T 磁控溅射镀膜机T 电阻蒸发和电子枪蒸发镀膜机T 光学离子镀膜机(油扩散泵机组)本公司重合同.守信誉)注重售后服务T 提供售前咨询新迁地址S 北京市朝阳区潘家园南里7号院内+号楼.望新老客户及时与我们取得联系.本公司全体员工愿与您们共同合作(发展)电话S \>\a[^^>[[^>电传S \>\a[^^>[[_Z*#真空第*期。
培训系列之2(张世伟)真空工程理论基础
真空中气体的流动
气体流动的状态与特征
湍
流 —
粘滞流 —
过渡流 — 分子流 —
经作者授权,版权归东北大学真空与流体工程研究中心与原作者共有。未经本中心及原著者 同意,任何人或任何单位不得私自拷贝、刻录、传播、转载本讲义,或用于商业用途。
真空中气体的流动
气体流动状态的判别——判据
雷诺数 湍 流
东北大学第八期《真空技术》培训班讲义之二
2011,5.13~2011.5.23
真空工程 理论基础
主讲人:东北大学 张世伟
经作者授权,版权所有归东北大学真空与流体工程研究中心与原作者共有。未经本中心及原著者同意, 任何人或任何单位不得私自拷贝、刻录、传播、转载本讲义,或用于商业用途。
真空的性质与应用
真空的力学性质 真空与大气之间存在压力差约为:
1kgf / cm2 真空力学性质特点:无处不在,而且均 匀恒定,可以作为良好的动力来源。
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真空的性质与应用
沸点降低与蒸发加强 在真空中,物质的性质发生变化:液体沸点降低,
蒸发升华加强。 液面上方大气压等于饱和蒸汽压时液体沸腾,同 时飞出液面的分子易于扩散。 如:青藏高原大气压力为380Toor,水的沸点为 80 ℃。铝在一个标准大气压时要2400℃时才能 蒸发,在 10-3 Pa 只要847℃就大量蒸发。
适合于将各个分散物向集中地输送(气压输送恰 好相反)。 使用实例:吸尘器;伦敦的邮政信件传递;粮食、 冶金配料等颗粒物料的输运;等等。
培训系列真空测量技术基础
培训系列真空测量技术基础
o 正确的压力测量必须对真空计进行校 准。因为多数真空计是通过与压力有关的 物理量间接反应压力,而不是直接通过真 空计有关参数计算求得压力值。这种真空 计必须用标准真空计或能产生已知低压的 校准装置进行校准。可以说真空计校准是 真空测量的基础,是发展真空测量的有力 工具。
o 真空计量器具分三类:计量基准器具、 计量标准器具和工作计量器具。前两类用 于复现和传递真空度量值,统一全国真空 量值;后一类是在现场应用。三种计量器 具的不确定度依次降低。
中性气氛。在这种情况下,麦克斯威速度分布、
余弦散射定律和流体静力学压力概念
(
)
都较好地符合客观实际,真空度的测量也比较简 单容易。
培训系列真空测量技术基础
o
根据真空度定义,真空度最好用分子密度n表
示,而以压力表示真空度与此并不矛盾。测量压
力时,一般气体处于平衡态并满足麦克斯威速度
分布定律,即
成立。 测量时气体温度T一定,所以气体压力p正 比于分子密度n。也就是说,此时压力是分子密 度的量度,所以可以用压力表示真空度。
19个数量级(105~10-14 Pa),没有任何一种真空
计能测量如此宽的压力范围,因此总是用几种真
空计分别管辖一定的区域。但由于各种真空计在
原理上的差异,在相互衔接的区域,往往要造成
较大的误差。
培训系列真空测量技术基础
o 在被测空间引起一定物理现象,还会 出现这样的问题,即从测量的角度出发, 本需要一种单纯的物理现象,但有时却不 可避免地带来一系列寄生现象,这些寄生 现象不但给测量带来误差,有时还会“喧 宾夺主”,完全把主要现象掩盖住了。
培训系列真空测量技术基础
p = ρgh 式中 p —— 待测压力
真空技术基础和应用培训PPT教案
真空技术中的物理基础
基本定律和方程:
设计和分析真空系统的特征常用的基本定律 1. 理想气体状态方程:PV=nRT 2. 理想气体实验三定律:玻玛定律;盖吕定律和查理定律。
Байду номын сангаас
connecting tube 1 cm inner diameter 10 cm length
估计:
P(N2) in chamber 1 P(N2) in chamber 2 P(O2) in chamber 1
抽空时间计算:
d P V SP 抽气流量方程 dt
dP S P dt V P P0 e-t/τ τ V
parts(真空部件)
Outlines(概述):
Key points (技术要点)
Practical concerns :(实用技术) 1. Surface (表面的真空特性) 2. Material (真空材料的采用):
SUS(不锈钢), Al alloy(铝合金), ceramic(陶瓷), plastic(塑料), Baking(烘烤技术) Virtual leak(虚假漏气) Leak test (检漏技术) UHV (超高真空的获得)
Vacuum Technology-1
(真空技术之一) Concepts
(基本概念)
什么是真空?
真空:气体分子数量低于大气压状态的空 间。但不是完全空的
真空术语
本底真空度:全密封真空腔体内抽空时的气压 工作真空度:实验或工艺过程所必须的气压力 极限真空度:真空泵进气口处测量得到的气压 真空规: 测量真空中气压的仪表或者传感器
《真空技术基础》课件2
THANKS
感谢观看
机遇和挑战。
真空技术的突破
目前,真空技术已经广泛应用于各个领域,如电子、能源、环保等。未来,随着技术的 不断突破,真空技术的应用领域将进一步扩大,为人类社会的发展带来更多的便利和效
益。
真空技术在新能源领域的应用
太阳能光伏产业
真空技术在太阳能光伏产业中发 挥着重要作用,如太阳能电池的 制造需要高真空环境,而真空镀 膜技术可以提高太阳能电池的光
详细描述
真空镀膜技术利用物理或化学方法,在材料表面形成一层具 有特殊性能的薄膜,如高硬度、高耐磨性、高反射率等。这 种技术广泛应用于眼镜、钟表、手机等产品的表面处理,提 高产品的外观和性能。
真空热处理技术
总结词
真空热处理技术是一种在真空中对金属材料进行加热和冷却处理,以达到改变 材料性能的工艺。
详细描述
气体净化
对进入系统的气体进行净化处理,以 减少气体杂质对密封面的磨损和腐蚀 。
定期维护
对密封件进行定期检查和维护,以保 证密封效果和延长使用寿命。
04
真空技术的应用实例
真空镀膜技术
总结词
真空镀膜技术是一种在真空中将金属、非金属或化合物蒸气 沉积在材料表面形成薄膜的工艺,广泛应用于光学、电子、 机械、建筑等领域。
真空电子器件制造技术需要在高真空条件下进行,以保证电子器件的性能和稳定 性。这种技术广泛应用于电视、电脑、手机等电子产品中,是现代电子工业的基 础之一。
真空在科研领域的应用
总结词
真空在科研领域的应用广泛,如真空镀膜、真空热处理、真空电子器件制造等,为科学研究提供了重要的实验手 段和基础条件。
真空技术第二讲
RT nRT
克拉伯龙方程
气体分子运动论基本假设
• 1.任何气体均由大量微小分子的质点所组成;对 于单一气体,这些质点完全是相同的。这些微小 质点称为分子。 • 2.分子尽管微小,但仍有一定体积。因此在运动 时它们不断碰撞,且亦与容器器壁碰撞,这些碰 撞是完全弹性的,即无能量损失的,即无能量损 失的。 • 3.分子的运动及碰撞遵从牛顿定律,可以用经典 力学来处理。 • 4.分子的数目是巨大的,而气体的宏观性质是大 量分子微观性质的统计平均值,可以采用统计学 的方法予以求出
• 速率分布函数 速率分布函数是用来描述气体分子速率分布规律的, 表 示速率 v 附近单位速率区间内分子数占总分子数的比率。 若气体分子总数为N,dN为速率区间v~v +dv内的分子, 则
dN dN N f (v) dv f (v) N dv
由于分子速率在0~ ∞之间分布,在其上概率为
2.气体的压强
• 宏观定义:处在容器中的气体,对器壁施有压力。 在达到平衡以后,这个压力是恒定的。单位面积 器壁上所受的压力称为压强 • 微观定义:从气体分子运动论的观点来看,气体 的压力是大量分子碰撞于单位面积器壁而产生的 动量变化率的总和。(从此观点判定,压强这个 概念是具有统计性质的) • 根据分子运动论理论,可求出压强公式
在真空技术的具体问题中,常需要计算单位时间内 入射到单位面积上的分子数目,即分子入射率。 由麦克斯韦速率分布推导出的分子入射率为
1 nv x f (vx )dvx nv 0 4 气体分子单位时间入射到单位面积上的分子数与分子 数密度 n 成正比,与气体热运动平均速率 v成正比。
N0 P P 2m KT 2RT
混合气体中分子平均自由程 1 1 K m2 d1 d 2 2 1 ( ) ni m1 2 i 1
2011-00真空技术基础
1 . 5 . 1 真空在输运、吸引、起吊及真空 造型等设备中的应用
1.5.2 真空在电真空器件中的应用
• 出于各种真空器件的工作原理是基于电场、磁场 来控制电于在空间的运动借以达到放大、振荡、 显示图像等目的。 • 因此.避免电子对气体分子间的碰撞,保证电子 在空间的运动规律、防止发射热电子的阴极氧化 中毒,把电子器件内抽成不同电真空器件所要求 的不同真空度,保证电子器件的正常工作,是绝 对必要的。 • 目前,电真空工业中所生产的电真空器件主要有 电子管,离于管,电子束管,电光源管.还有中 子管、电子衍射仪、电子显微镜、x光显微镜,各 种粒子加速器、质谱仪、核辐射谱仪、气体激光 器等。这些电于器件及工艺,在近代科学和近代 大工业生产中起着重要作用。
• 大气压力随着离地面高度的递增而降低,基本按指 数规律下降。18km高空,大气压力降到标准大气 压的十分之一,96km高空,只有百万分之一。地 球大气层以外的宇宙真空,称为“空间真空”.它 是典型的“自然真空”。 • 人通过胸腔和腹腔之间的隔膜收缩和放松使肺呼吸, 吸气时胸腔压力接近大气压力,呼气时降到半个大 气压力以下,即人为的真空状态。进一步,人们运 用科技手段,发明了各种真空泵去抽掉密闭容器中 的气体,以获得“人为真空”,逐渐形成了“真空 科学与技术”这个学科。 • 但是,即使使用现代排气方法获得的最低压力.也 只能达到10-12~10-13Pa。还远未达到绝对真空。
主要内容
• • • • • • • • • 绪论 1 稀薄气体的分子运动理论 2 真空中气体的流动理论 3 吸附与脱附 4 真空中的电现象 5 真空获得 6 真空测量 7 真空检漏 8 真空系统的组成与设计
பைடு நூலகம் 绪论
• 1.1 何为真空 • 物理学上的“真空”是指没有或者不计气体 分子和原子存在的物理空间,仅存在各种能 量粒子的场空间; • 另—种是应用物理与技术所讨论的“真 空”——低于一个大气压力的稀薄气体的空 间状态。 • “真空”一词来自拉丁语“Vacuum”,意为 “空虚”。 • 真空分为自然真空和人造真空。
真空计培训资料(PDF 62页)
PEG : 清洗或更换备件 第五步:插入陶瓷片
41
PEG : 清洗或更换备件 第六步:插入阳极环
42
PEG : 清洗或更换备件 第七步:调整阳极环
43
PEG : 清洗或更换备件
第八步:装入阴极片
44
PEG : 清洗或更换备件 第九步:检漏(建议)
45
PEG: 备件
1。更换清洗套件: 包括 阴极片(5个) 陶瓷垫(5个)
1
27
4
BPG400: 故障诊断
灯丝
皮拉尼灯丝1断 皮拉尼灯丝2断 熱电离灯丝断 短路 短路 短路 短路 短路 短路
28
BPG400: 备件 BPG400 规管传感器 DN25KF 订货号:354-490 BPG400 规管传感器 DN40CR 订货号:354-491
29
冷电离规---潘宁规
与S-on连用
53
VGC: 规管参数设置
S-off (设定规管关闭)
设定规管电源关闭条件或方式 Hand(手动),Hot(自动)CH1/2/3
T-off(阈值设定)
与S-off连用
54
VGC: 通用参数设置
3. 通用参数设置 (PArA GEn)
测量单位 (unit)
Pa(帕),Torr(乇),Mbar(毫巴),UC(毫米汞柱)
49
触点设置工作方式
50
VGC: 参数设置 2
2. 规管参数 (PArA SEn)
连接的规管不同,显示的参数设置菜单不同
51
VGC: 规管参数设置
Filt (测量信号筛选器)
设置真空规控制器对讯号改变的反应快速
Fast (快速)
Nor(正常)
真空知识培训教材
真空理论知识培训拟制:许坤良目录:一.基础知识:二.往复式真空泵:三.旋片式油封机械真空泵:四.罗茨式真空泵:五.分子真空泵:六.油扩散泵:七.低温泵:八.真空泵流量的测量方法:九.冲洗抽气法:一.基础知识:1.真空及其度量:真空----一般是指在给定的空间内,压力低于101325Pa的气体状态。
在真空状态下,气体的稀薄程度,通常用气体的压力值来表示。
真空的主要特性-----真空状态同正常的大气状态相比较,气体较为稀薄,即单位体积内的分子数目较少,分子之间或分子与其他质点(如电子、离子)之间的碰撞几率减少,分子在单位时间内碰撞于单位表面积(如器壁)上的次数也相对减少。
分为:“自然真空”和“人为真空”人为真空---是指人们对一个容器进行抽气而获得的真空空间。
气体的稀薄程度叫真空度。
真空度可用气体压强、分子密度、平均自由程和形成一个单分子层的时间来描述,在真空科学与技术中,通常都用气体的压强来表示。
气体压强越低,真空度越高。
2.换算关系:1atm=1.01325*105Pa (1Pa=1N/m2)(760mmHg)1atm=760mmHg=760Torr(标准大气压)1Torr=133.322Pa(1Pa=7.5*10-3Torr=0.0075Torr=7.5mTorr)1bar=105Pa=750Torr 1Pa=7.5mTorr 1mbar=750mTorr3.各真空区域的物理特性及应用:低真空:1*105Pa-----1*102Pa=0.75Torr=750mTorr中真空:1*102-----1*10-1Pa=0.75mTorr高真空:1*10-1----1*10-6Pa=7.5mTorr超高真空:1*10-6---1*10-12Pa极高真空:小于10-12Torr3.1低真空(1*105Pa-----1*102Pa)在低真空状态下,气态空间的特性和常压时相比,没有明显的不同。
气体分子仍以杂乱无章的热运动为主,气体分子间的相互碰撞十分频繁。
真空理论基础知识
实验十 真空的获得与测量实验目的 1.学习高真空的获得与测量方法。
2.熟悉有关设备和仪器的使用方法。
实验仪器高真空装置,机器泵,扩散泵,复合真空计,检漏仪。
实验原理 真空技术在工业生产和科学研究中广泛的应用。
真空技术主要包括真空的获得、测量和检查漏气等方面的内容。
1.高真空的获得获得真空用真空泵。
真空泵按工作条件的不同分为两类:能够在大气压下工作的真空泵称为初级泵(如机器泵),用来产生预备真空,需要在预备条件下才能工作的真空泵称为次级泵(如扩散泵),次级泵用来进一步提高真空度,获得高真空。
(1)机器泵 一般采用油封转片式机器泵,其结构如图3-10-1所示,在圆柱形气缸(定子)内有偏心圆柱作为转子,当转子绕轴转动时,其最上部与气缸内表面紧密接触,沿转子的直径装有两个滑动片(简称滑片),其间装有弹簧,使滑动片在转子转动时与气缸内表面紧密接触,当转子沿箭头所指方向转动时,就可以把被抽容器内的气体由进气管吸入而经过排气孔,排气阀排出机械泵。
为了减少转动摩擦和防止漏气,排气阀及其下部的机械泵内部的空腔部分用密封油密封。
机械泵用的密封油是一种矿物油,要求在机械泵的工作温度下有小的饱和蒸汽压和适当的粘度,机器泵的极限真空度一般在10-2~10-4mmHg ,抽气速率一般为每分钟数十升到数百升。
(2)扩散泵 一般多采用油扩散泵,其结构如图3-10-2所示,扩散泵是高真空泵,当机器泵的极限真空度不能满足要求时,通常加扩散泵来获得高真空。
这种泵不能从通常气压下开始工作,只能在低于1Pa气压下才能工作。
因此,必须与初级泵串联使用。
油扩散泵使用的工作液体有许多种,目前广泛使用的是274号硅油(20℃时饱和汽压为1.3×10-7 Pa )和275号硅油(20℃时饱和汽压为1.3×10-8 Pa )。
在扩散泵开始工作之前,必须先开动机器泵抽气,等达到预备真空时(约1.3 Pa ),便可以使用电炉对蒸发器中的硅油进行加热。
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1.3 真空技术的应用领域
真空在输运、吸引、起吊及真空造型等设备中的应用 真空输运、吸引、起吊设备具有结构简单,易于操作、维护、 运输,起吊吸引过程中无振动,生产效率高,运送易损坏物 件安全可靠,对环境无污染等特点。 吸鱼、粮食、面粉、煤粉、烟草、水泥、泥浆、纸浆、粉状 矿物的输运 水泥地板、机场及公路水泥道路的快速吸干 车间起吊、机床夹具、玻璃装运 吸乳、吸尘、吸痰、吸胸膜积水、吸原子弹爆炸所产生的辐 射尘埃 真空造型近年来在立体军用地图、盲人书籍、高级陶瓷、电 冰箱洗衣机板件、玩具复制浮雕和文物中都有广泛应用 化工、制糖、水泥等工业部门已开始大量采用连续真空过滤, 很容易将黏度大的悬浮液利用压力差的作用,通过微细筛孔 将悬浮液中的液体与固体分离 真空浸渍是先对片状或纤维状的疏松物质进行抽真空,再在 液体中浸渍充填一些 新的物质的一种新型工艺 返回
第一章 引论
1) 1.1 真空及其度量
概念 物理学上的真空:指没有或者不计气体分子和原子存在的
物理空间。
应用物理与技术所讨论的真空:低于一个标准大气压的气体
状态
标准大气压-北纬45度海平面,海拔高度为零,空间温度
为27摄氏度的大气压.此时压强为: 1.01325105 pa 2.5 1019 个 / cm3 分子密度为: 2)
1 1
M
R
M
所以
mN R PV RT RT N T NkT m N0 N0
R 8.31 k 1.3810 23 J / K 23 N 0 6.0210 N n V
将 将 P n
M
于是
m
P nkT
P kT m
压强公式
代入得
k R N0
压强: Torr
Pa
bar
mmHg
m m H2 O
1atm 760mmHg 760 Torr
1atm 1.01325105 pa
1Torr 133.322Pa
(1Pa 7.5 103 Torr)
1mmHg 13.6mmH O 9.8Pa 2
1bar 105 Pa
真空在电真空器件中的应用——由于各种真空器件的工作原 理是基于电场磁场来控制电子在空间的运动借以达到放大、 振荡、显示图象等目的。因此,避免电子对气体分子间的碰 撞,保证电子在空间的运动规律,防止发射热电子的阴极氧 化中毒,把电子器件内抽成所要求的不同真空度,保证电子 器件正常工作。 电真空工业中利用真空中电子束来进行除气、熔炼、区域提 纯、开槽切割、放射性同位素的蒸发难熔金属的焊接等。 真空在冶金工业中的应用 真空熔炼、真空脱气及炉外精炼、真空热处理、真空烧结、 真空蒸馏浓缩和结晶 真空在镀膜工业中的应用 真空镀膜广泛的应用在光学、电子学、理化仪器、建筑机械、 包装、民用制品、表面科学中。 真空镀膜所采用的方法主要有:蒸发镀、溅射镀、离子镀、 束流沉积镀、化学气相沉积法等 增透膜、高反射膜、导电膜、绝缘膜、保护膜
第二章 气体在平衡状态下的物理特性
平衡态 非平衡态 标准状态 2.1 基本定律 2.1.1 实验定律 ① 波义耳-马略特定律 M一定 T=C PV C ② 盖吕萨克定律 M一定 P=C ③ 查理定律 M一定 V=C
PV CM
V CT P CT
常量
N 0 6.02 1023 个 / m ol V0,mol 22.4 103 m 3 / m ol V0 M
3)
PV RT P RT PV RT M
M
熟练掌握
PV
M
RT
— —1 — —2
P nkT P
kT RT — —3 m R R N0 N0 k m k m k R m mk
R
N
2 0
mk
4 5
12 13
真空的特点: 1稀3少
气体较为稀薄 单位体积内分子数目较少(分子密度小) 分子之间或分子与其它质点之间碰撞几率减少 分子在单位时间内碰撞于单位表面积上的次数相对减少
分类: 按成因分为自然真空和人为真空 动物 人(肺): 吸满气(740Torr)呼气(300Torr) 章鱼: 呼气时可达100Torr 蚊子: 吸血原理,利用大气压与腹腔压差造成真空
冷缩、蒸气冷凝等物理现象来形成罐内真空。
真空技术开始的标志——1643年Torrcelli(意大利)托里拆利
实验 帕斯卡(法 物理学家 数学家)-12岁发现三角形内角和定 理,24岁发现压强.证明了大气压与高度有关 1654年德国人葛利克发明了活塞真空泵——马德堡半球实验 (为了证明大气压的巨大力量) 真空技术最初的理论基础——1662年,英国人玻义耳发现了 玻义耳定律;1738年瑞士人伯努利提出了气体分子运动论。 1905年德国人盖得发明了机械泵、1906年皮拉尼发明了热阻 真空计、1913年和1915年盖得先后发明了分子泵和扩散泵、 1916年贝克利发明了热阴极电离计。真空技术迅速从低真空 发展到高真空。1936年希克曼发明了分馏式油扩散泵、 1937年潘宁发明了冷阴极电离计,使高真空技术在获得和测 量两个方面基本完善。
④ 液体的沸点降低 冷冻-升华:真空冷冻脱水、冬天凉衣服、 真空冷冻干燥蔬菜、食品
④ 高速空气动力学实验设备(火箭、导弹、飞机、F1赛车)— —低压风洞
1 6 3)高真空( 10 Pa 10 Pa )真空冶金、真空镀膜、真空 器件的生产
①
分子密度更加降低,分子之间的碰撞次数很少,平均自 由程很大,基本不存在气体分子之间的能量交换,分子 流动完全呈现分子流态。带电粒子的飞行方向不受干扰 (显像管),减少了气体的电离。
真空发展史 最早的真空获得和应用的实例——可追溯到公元前6世纪,
那时我国炼铁技术已相当进步,为了融化铁,在炼铁炉上 配有鼓风设备。最初使用的叫“鞲”的皮囊鼓风、“风箱” 鼓风。风箱的作用过程包括:负压吸气和增压排气。与现 在的往复式活塞真空泵的作用原理基本相同。
典型的真空应用的例子:中医的拔火罐。利用了空气的热胀
109 Pa 1014 Pa ) 5)极高真空(
总结: 真空区域的划分原则——真空的物理性质
低真空:力学性质 中真空:液体的沸点降低,气体放电 高真空:绝缘、绝热、无氧化 超高真空:获得清洁表面 极高真空:宇航、物理研究
真空区域的划分原则——真空获得技术
低真空:旋片泵、水环泵、滑阀泵 中真空:罗茨泵、油增压泵 高真空:扩散泵、分子泵 超高真空:离子泵、升华泵
T0 273K R 8.31Jm ol1 K 1 k Βιβλιοθήκη .38 10 23 JK 1
V0,mol
2.1.2 理想气体状态方程
PV P1V1 P0V0 T T1 T0
1.01325 10 Pa
5
M
22.4 103 m 3 / m ol
273K 8.31Jm ol K
转到
2)中真空(
102 Pa 101 Pa
)
① 气体分子密度和常压相比有很大下降,氧化程度降低——真 空冶炼(黑色金属的真空熔炼、脱气、浇铸和热处理)—金 属材料内气泡、疏松减少,机械强度和性能大大增强 ② 气体中的带电粒子在电场作用下将产生定向运动——气体放 电——真空电弧炉 ③ 气体的对流消失——真空隔热和绝缘、(保温)保温瓶
R
N0
N0 1 mk R
返回
2.2 气体的压强公式
P nkT
P
— —实验定律(宏观)
(微观)
1 2 1 2 nm c 2 n( mc 2 ) n 平 3 3 2 3
气体分子的动能 1)分子的自由度 2)能量按自由度均分原理
真空在食品包装及冷冻干燥工业中的应用
生物体保存、贵重或热敏性药物生产、食品制作与保存等 真空在航天工业中的应用(模拟实验)
火箭发动机、航天员训练密封舱、离子推力器、材料及元件、 卫星表面带电模拟
真空在加速器及受控核聚变中的应用
加速器是对粒子加速使被加速的粒子获得高能量的装置,加 速器产生的粒子和射线已经用于核物理研究和医疗、工业、 农业食品等部门。 真空在表面科学研究中的应用
②
化学反应接近于零 活泼金属一定要在此状态下冶炼 Ti 、Be 、 Zr 、 U 、 Ge 、 Mo 、W ③ 良好的电、热绝缘性能 1atm 24000 C ④ 材料的沸点、熔点降低 铝
103 Pa 8470 C
③
空心钽阴极蒸发离子镀——蒸镀氮化钛仿金薄膜
4)超高真空( 106 Pa 109 Pa ) 气体分子是以固体表面的吸附为主; 单分子层形成时间等于或大于在实验室测量所用时间——制 备“清洁”表面; 太空模拟室、可控热核聚变的研究、表面物理表面化学的研 究
当真空度达到的 107 Pa 超高真空时,在固体表面吸附一 个原子或分子层厚度时,所需的时间大约是60分钟。充分利 用这段时间对实验件进行表面研究和测试,是完全可能的。
1.4 真空物理与真空工程 分子运动论(2) 气体的流动理论(4) 真空中的热力学问题(3) 表面现象(3) 溶解、扩散和渗透(5) 表面电子发射(7) 气体放电(8) 带电粒子在各类型电磁场中的运动(9) 电子光学基础(10) 公式总结 习题
1940年以后真空技术在原子能方面得到广泛应用,并在真空冶 金、真空镀膜、真空冷冻干燥等方面得到扩展。到1950年,真 空范围已提高到 10 10 Pa 。贝阿德—阿尔伯特在1950年发 明了B-A规,为测量高真空创造了条件。1953年吸气泵-离子泵 的出现,使人们可以获得清洁超高真空。 从20世纪50年代到70年代的20多年里,真空技术融入了许多 尖端科学技术并一起得到迅速发展。高能加速器、等离子体核 聚变装置、微电子学中的超大规模集成电路,特别是航天技术, 10 10 Pa 促使真空技术发生新的飞跃。压力范围下降到 现代真空科学与技术分成8个学科分支:真空技术、真空冶金、 等离子体科学与技术、薄膜科学与技术、电子材料与加工工艺、 表面科学、应用表面科学、纳米科学与技术