一种具有条纹结构的过渡金属二硫属化合物及其制备方法[发明专利]

专利名称：一种具有条纹结构的过渡金属二硫属化合物及其制备方法
专利类型：发明专利
发明人：刘中流,朱知力,王业亮,高鸿钧
申请号：CN201910104985.5
申请日：20190201
公开号：CN111517291A
公开日：
20200811
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明公开了一种具有条纹结构的过渡金属二硫属化合物及其制备方法。

其中，具有条纹结构的二硒化钒，不仅具有单层二硒化钒固有的硒钒硒三层原子构成的三明治层状结构，并且表面布满由线状硒空位等间距排列所构成的一维条纹。

本发明在特定的真空条件下，对单层的二硒化钒进行退火处理，通过控制退火处理的工艺参数使得单层二硒化钒中的硒原子部分脱附产生硒空位，剩余的硒进行晶格重排，从而在单层二硒化钒表面生成有序的周期性的一维条纹纳米结构，该一维条纹纳米结构是一种可逆的结构。

这种高度有序并可调制的单层二硒化钒面内一维条纹结构材料为实现二维材料功能化提供了新的途径，在低维材料、分子电子学、催化等相关研究与应用方面具有广泛的应用潜力。

申请人：中国科学院物理研究所
地址：100190 北京市海淀区中关村南三街八号
国籍：CN
代理机构：北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：胡剑辉
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