四探针法测电阻率

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四电极法测电阻率——Summary

四电极法测电阻率——Summary

51 四探针法测电阻率1. 理解四探针测量半导体或金属薄膜电阻率的原理 2. 了解四探针测量材料电阻率的注意事项实验原理四探针法测量电阻率常用的四探针法是将四根金属探针的针尖排在同一直线上的直线型四探针法如图1-1a 所示。

当四根探针同时在一块相对于探针间距可视为半无穷大的平面上时如果探针接触处的材料是均匀的并可忽略电流在探针处的少子注入则当电流I 由探针流入样品时可视为点电流源在半无穷大的均匀样品中所产生的电场线具有球面对称性即等势面为一系列以点电流源为中心的半球面。

样品中距离点电源r 处的电流密度j电场ε和电位V 分别直流四探针法也称为四电极法主要用于低电阻率材料的测量。

使用的仪器以及与样品的接线如图3-1所示。

由图可见测试时四根金属探针与样品表面接触外侧两根1、4为通电流探针内侧两根2、3为测电压探针。

由电流源输入小电流使样品内部产生压降同时用高阻抗的静电计、电子毫伏计或数字电压表测出其他二根探针的电压即V23伏。

a 仪器接线b点电流源c四探针排列图1-1 四探针法测试原理示意图一块电阻率为的均匀材料样品其几何尺寸相对于探针间距来说可以看作半无限大。

当探针引入的点电流源的电流为I由于均匀导体内恒定电场的等位面为球面则在半径为r处等位面的面积为2r2则电流密度为jI/2r2 1-1 52 根据电导率与电流密度的关系可得E2222rIrIj 1-2 其中E为电场强度σ和ρ分别是样品的电导率和电阻率。

若电流由探针流出样品则距点电荷r处的电势为rIV2 1-3 因此当电流由探针1流入样品自探针4流出样品时根据电位叠加原理在探针2处的电位为在探针 3 处的电位为式中的S1是探针1和2之间的距离S2是探针2和3之间的距离S3是探针3和4之间的距离。

各点的电势应为四个探针在该点形成电势的矢量和。

所以探针2、3 之间的电位为通过数学推导可得四探针法测量电阻率的公式为IVCrrrrIV231341324122311112 3-4 式中13413241211112rrrrC为探针系数单位为cmr12、r24、r13、r34分别为相应探针间的距离见图3-1c。

四探针法测电阻率结论

四探针法测电阻率结论

四探针法测电阻率结论高温四探针测试仪的测量原理测量电阻率的方法很多,如三探针法、电容-电压法、扩展电阻法等,四探针法则是一种广泛采用的标准方法,高温四探针测试仪采用经典直排四探针原理,同时采用了双电测组合四探针法。

经典的直排四探针法测试电阻率,要求使用等间距的探针,如果针间距离不等或探针有游移,就会造成实验误差。

当被测片较小或在大片边缘附近测量时,要求计入电场畸变的影响进行边界修正。

采用双电测组合四探针的出现,为提高薄膜电阻和体电阻率测量准确度创造了有利条件。

高温四探针测试仪采用双电测组合四探针法的优势采用双电测组合四探针法进行测试,测试结果与探针间距无关,能够消除间距不等及针尖机械游移变化的影响,因此四探针测试台允许使用不等距探针头。

采用双电测组合四探针法具有自动修正边界效应的功能,对小尺寸被侧片或探针在较大样品边缘附近时,不需要对样品做几何测量,也不需要寻找修正因子。

采用双电测组合四探针法,不移动四探针针头,同时使用三种模式测量,既可计算得到测试部位的电阻均匀性。

高温四探针测试仪可以实现高温、真空及惰性气氛条件下测量硅、锗单晶(棒料、晶片)电阻率和外延层、扩散层和离子注入层的方块电阻以及测量导电玻璃(ITO)和其他导电薄膜的方块电阻。

那么高温四探针测试仪的测量原理是什么呢?测量电阻率的方法很多,如三探针法、电容-电压法、扩展电阻法等,四探针法则是一种广泛采用的标准方法,高温四探针测试仪采用经典直排四探针原理,同时采用了双电测组合四直排四探针法经典的直排四探针法测试电阻率,要求使用等间距的探针,如果针间距离不等或探针有游移,就会造成实验误差。

当被测片较小或在大片边缘附近测量时,要求计入电场畸变的影响进行边界修正。

采用双电测组合四探针的出现,为提高薄膜电阻和体电阻率测量准确度创造了有利条件。

目前双电测组合(亦称双位组合)四探针法有三种模式:模式(1),模式(2),模式(3),高温四探针测试仪采用模式(2),通过用计算机对三种模式的理论进行比较研究的结果表明:对无穷大被测片三种模式都一样,可是测量小片或大片边缘位置时,模式(2)更好,它能自动消除边界影响,略优于模式(3),更好于模式(1)。

四探针法测量电阻率

四探针法测量电阻率
实验二 四探针法测量电阻率
一、引言 电阻率是反映半导体材料导电性能的重要参数之一.虽然测量电阻率的方法很多, 但由于四探针法设备简单、操作方便、精确度高、测量范围广,而且对样品形状无严 格要求,不仅能测量大块材料的电阻率,也能测量异形层、扩散层、离子注入层及外 延层的电阻率,因此在科学研究及实际生产中得到广泛利用。 本实验是用四探针法测量硅单晶材料的电阻率及 pn 结扩散层的方块电阻。通过 实验,掌握四探针法测量电阻率的基本原理和方法以及对具有各种几何形状样品的修 正,并了解影响测量结果的各种因素。 二、原理 1、 四探针法测量单晶材料的电阻率 最常用的四探针法是将四根金属探针的针尖排在同一直线上的直线型四探针法,如 图 2.1 所示。当四根探针同时压在一块相对于探针间距可视为半无穷大的半导体平坦表 面上时,如果探针接触处的材料是均匀的,并可忽略电流在探针处的少子注入,则当电 流 I 由探针流入样品时,可视为点电流源,在半无穷大的均匀样品中所产生的电力线具 有球面对称性,即等势面为一系列以点电流源为中心的半球面。样品中距离点电源 r 处 的电流密度 j,电场ε和电位 V 分别为
0
式中 q 为电子电荷,u 为扩散层中多数载流子的迁移率。因此,可引入扩散层平均电阻 率 ,可以证明,
R X j C 0
三、实验装置
V23 X j ............(15) I
实验装置主要由三部分组成:四探针头、电流调节装置、电压测试仪。 1、 四探针头 四根探针头要等距离地排列在一直线上,探针间距要固定(通常约为 1mm 左右) , 游移度要小。探针头地曲率半径约为 50um 左右,探针之间的电绝缘性能要好。为了 使探针和样品形成较好的欧姆接触,要求探针与待测材料有较低的接触电势差,而且 探针和样品之间要加一定的压力(每根探针压力为 100-200g) 。因此,探针要用导电 性能好的硬质、耐磨金属制成,通常采用钨、碳化钨、锇铱合金、合金钢等。 2、 电流调节装置 四探针法的测试电路如图 2.2 所示。

四探针法测电阻率

四探针法测电阻率

四探针法测量导体的电阻率电阻率的测量是导体材料常规参数测量项目之一。

测量电阻率的方法很多,如二探针法、三探针法、四探针法、电容---电压法、扩展电阻法等. 四探针法则是一种广泛采用的标准方法,在半导体工艺中最为常用,其主要优点在于设备简单,操作方便,精确度高,对样品的几何尺寸无严格要求.并且四探针法测量电阻率有个非常大的优点,它不需要较准;有时用其它方法测量电阻率时还用四探针法较准。

本文主要讲述四探针法测量导体材料电阻率的工作原理.直流四探针法也称为四电极法,主要用于半导体材料或超导体等的低电阻率的测量。

使用的仪器以及与样品的接线如图1(a)所示。

由图可见,测试时四根金属探针与样品表面接触,外侧两根1、4为通电流探针,内侧两根2、3为测电压探针。

由电流源输入小电流使样品内部产生压降,同时用高阻抗的静电计、电子毫伏计或数字电压表测出其他二根探针的电压即V23(伏)。

(a)仪器接线(b)点电流源(c)四探针排列图1 四探针法测试原理示意图若一块电阻率为ρ的均匀半导体样品,其几何尺寸相对于探针间距来说可以看作半无限大。

如图1(b)所示, 当探针引入的点电流源的电流为I ,由于均匀导体内恒定电场的等位面为球面,则在半径为r 处等位面的面积为2πr 2,电流密度为J=I/2πr 2根据电导率与电流密度的关系可得E =2222JI I r r ρσπσπ==由电场强度和电位梯度以及球面对称关系, 则d E dr ϕ=- 22I d Edr dr r ρϕπ=-=-取r为无穷远处的电位为零, 则()202r r r dr d Edr r ϕρϕπ∞∞-I =-=⎰⎰⎰ 则距点电荷r 处的电势为 ()2I r r ρϕπ=上式就是半无穷大均匀样品上离开点电流源距离为r的点的电位与探针流过的电流和样品电阻率的关系式,它代表了一个点电流源对距离r处的点的电势的贡献.1. 非直线型四探针对于图1(c)的情形, 四根探针位于样品中央,电流从探针1流入 从探针4流出, 则可将1和4探针认为是点电流源,2和3探针的电位为:2122411()2I r r ρϕπ=- 3133411()2I r r ρϕπ=-2、3探针的电位差为:2323122413341111()2I V r r r r ρϕϕπ=-=--+ 所以可推导得四探针法测量电阻率的公式为:I V C r r r r I V 2313413241223)1111(2=+--∙=-πρ 式中,134132412)1111(2-+--=r r r r C π为探针系数,单位为cm ;r 12、r 24、r 13、r 34分别为相应探针间的距离。

四探针法测电阻率共14页

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实验四探针法测电阻率1.实验目的:学习用四探针法测量半导体材料的体电阻率和扩散薄层的电阻率及方块电阻。

2.实验内容①硅单晶片电阻率的测量:选不同电阻率及不同厚度的大单晶圆片,改变条件(光照与否),对测量结果进行比较。

②薄层电阻率的测量:对不同尺寸的单面扩散片和双面扩散片的薄层电阻率进行测量。

改变条件进行测量(与①相同),对结果进行比较。

3.实验原理:在半导体器件的研制和生产过程中常常要对半导体单晶材料的原始电阻率和经过扩散、外延等工艺处理后的薄层电阻进行测量。

测量电阻率的方法很多,有两探针法,四探针法,单探针扩展电阻法,范德堡法等,我们这里介绍的是四探针法。

因为这种方法简便可行,适于批量生产,所以目前得到了广泛应用。

所谓四探针法,就是用针间距约1毫米的四根金属探针同时压在被测样品的平整表面上如图1a所示。

利用恒流源给1、4两个探针通以小电流,然后在2、3两个探针上用高输入阻抗的静电计、电位差计、电子毫伏计或数字电压表测量电压,最后根据理论公式计算出样品的电阻率[1]式中,C为四探针的修正系数,单位为厘米,C的大小取决于四探针的排列方法和针距,探针的位置和间距确定以后,探针系数C 就是一个常数;V 23为2、3两探针之间的电压,单位为伏特;I 为通过样品的电流,单位为安培。

半导体材料的体电阻率和薄层电阻率的测量结果往往与式样的形状和尺寸密切相关,下面我们分两种情况来进行讨论。

⑴ 半无限大样品情形图1给出了四探针法测半无穷大样品电阻率的原理图,图中(a)为四探针测量电阻率的装置;(b)为半无穷大样品上探针电流的分布及等势面图形;(c)和(d)分别为正方形排列及直线排列的四探针图形。

因为四探针对半导体表面的接触均为点接触,所以,对图1(b )所示的半无穷大样品,电流I 是以探针尖为圆心呈径向放射状流入体内的。

因而电流在体内所形成的等位面为图中虚线所示的半球面。

于是,样品电阻率为ρ,半径为r ,间距为dr 的两个半球等位面间的电阻为 它们之间的电位差为 dr r IIdR dV 22πρ==。

四探针法测量电阻率

四探针法测量电阻率

四探针法测量电阻率
实验数据及处理
1.硅片
每次调整电流至6.28mA,测得的即为电阻率(抵消了公式中的修系数2),选取5个点,改变电流方向得到的数据为
10.54 10.58 10.70 10.61 10.56
-10.45 -10.44 -10.48 -10.53 -10.55
平均电阻率为ρ=10.54Ω·cm
误差为Δρ=0.23Ω·cm
2.ITO透明玻璃
每次调整电流至4.53mA,测得读数即为电阻率(抵消了公式中修正系数/ln2),选取5个点,每次改变电流方向测得的数据为
2.265 2.4915 1.7667 2.0385 1.5885
-2.355 -2.5821 -1.8573 -2.0838 -1.6761
平均电阻率为ρ=2.07Ω·cm
误差为Δρ=0.35Ω·cm
注意事项
1、Si片和ITO玻璃很脆,请同学们小心轻放;当探针快与Si片接触时,用力要很小,以免损坏探针及硅片。

2、要选择合适的电流量程开关,否则窗口无读数。

3、计算机按键要轻,以免损坏。

4、在测量过程中,由于附近其它仪器电源的开头可能会把计算机锁住而无法工作,此时应重新开机,即恢复正常。

5、每次测量应等所有数值稳定后方可按“测量”进行下一次测量。

附原始实验数据。

四探针法测电阻率原理

四探针法测电阻率原理

四探针法测电阻率原理
四探针法测电阻率是一种常用的电学测量方法,它可以准确测量材料的电阻率。

该方法利用四个电极分别组成的探针来接触被测物质表面,通过施加电流和测量电压来计算电阻率。

该方法的原理基于欧姆定律,即电流通过导体时,电流与电压成正比,比例常数为电阻。

测量时,我们使用两个电流探针在被测物质上施加电流,而另外两个电压探针则用于测量电压。

根据欧姆定律,电流与电压之间的比值即可得到电阻。

为了提高测量的准确性和稳定性,四个电极的排列方式很重要。

通常,两个电流探针之间应隔有一定距离,以避免电流从一个探针跳过直接到另一个探针而影响测量结果。

同样,两个电压探针之间也应保持一定距离,以避免电压的变化受到相邻电极的影响。

在测量过程中,我们需要保持恒定的电流,并测量对应的电压。

通过改变施加的电流大小,我们可以获得多组电流-电压的测
量数据。

然后,根据这些数据,可以绘制出电流-电压的关系
曲线。

该曲线的斜率即为被测物质的电阻率。

通过四探针法测电阻率,我们可以得到材料的电阻率值,这对于研究材料的电性质、导电性等具有重要意义。

四探针方法测电阻率(原理公式推导)课件

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<三> 仪器结构特征
• 数字式四探针测试仪主体部分由高灵敏度直流 数字电压表、恒流源、电源、DC-DC电源变换 器组成。为了扩大仪器功能及方便使用,还设 立了单位、小数点自动显示电路、电流调节、 自校电路和调零电路。
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11
• 仪器电源经过DC-DC变换器,由恒流源电路产生一 个高稳定恒定直流电流,其量程为10μA、100μA、 1mA、10mA、100mA,数值连续可调,输送到1、 4探针上,在样品上产生一个电位差,此直流电压 信号由2、3探针输送到电气箱内。具有高灵敏度、 高输入阻抗的直流放大器中将直流信号放大(放大 量程有0.2mV、2mV、20mV 、200mV、2V),再经 过双积分A/D变换将模拟量变换为数字量,经由计数 器、单位、小数点自动转换电路显示出测量结果。
1mA
200mΩ 2Ω 20Ω 200Ω 2kΩ
100μA
2Ω 20Ω 200Ω 2kΩ 20kΩ
10μA
20Ω 200Ω 2kΩ 20kΩ 200kΩ
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6、工作状态选择开关置于“测量”,按下电流开关输 出恒定电流,即可由数字显示板和单位显示灯直接读 出测量值。再将极性开关拨至下方(负极性),按下 电流开,读出测量值,将两次测量值取平均,即为样 品在该处的电阻率值。关如果“±”极性发出闪烁信 号,则测量数值已超过此电压量程,应将电压量程开 关拨到更高档,读数后退出电流开关,数字显示恢复 到零位。每次更换电压、电流量程均要重复35步骤。
• R=p*l/s(p—电阻率查表求;l—电阻长度;s—与 电流垂直的电阻截面面
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6
(a)块状和棒状样品体电阻率测量:

实验一:四探针法测电阻的电阻率

实验一:四探针法测电阻的电阻率

物理专业实验报告
专业班级 1 姓名学号
实验名称四探针法测电阻的电阻率实验地点实验日期
【实验目的】
(1)熟悉四探针法测量半导体或金属材料电阻率的原理
(2)掌握四探针法测量半导体或金属材料电阻率的方法
【实验仪器】
SX1944型数字式四探针测试仪;硅单晶;TiO2陶瓷样品;SB118精密直流恒流源;直流数字电压表
【实验原理】
半导体材料是现代高新技术中的重要材料之一,已在微电子器件和光电子器件中得到了广泛应用。

半导体材料的电阻率是半导体材料的的一个重要特性,是研究开发与实际生产应用中经常需要测量的物理参数之一,对半导体或金属材料电阻率的测量具有重要的实际意义。

直流四探针法主要用于半导体材料或金属材料等低电阻率的测量。

所用的仪器示意图以及与样品的接线图如图1所示。

由图1(a)可见,测试过程中四根金属探针与样品表面接触,外侧1和4两根为通电流探针,内侧2和3两根是测电压探针。

由恒流源经1和4两根探针输入小电流使样品内部产生压降,同时用高阻抗的静电计、电子毫伏计或数字电压表测出其它两根探针(探针2和探针3)之间的电压V23。

图1 四探针法电阻率测量原理示意图。

四探针方法测电阻率

四探针方法测电阻率

四探针方法测电阻率四探针方法是一种常用的测量材料电阻率的方法,通过使用四个电极来测量样品的电阻,并根据测量结果计算出电阻率。

这种方法相对于传统的两探针方法具有更高的准确性和可重复性。

下面将详细介绍四探针方法的原理、操作步骤和误差分析。

四探针方法使用四个电极,其中两个电极用于施加电流,另外两个电极用于测量电压。

施加电流的两个电极称为“电流探针”,测量电压的两个电极称为“电压探针”。

四个电极的排列方式是,电流探针1和电压探针1之间相距一定距离,电压探针2在电流探针1和电压探针1之间,电流探针2在电压探针2和电压探针1之间。

这种排列方式可以有效地减小传统两探针方法中由于电流通过测量电压引起的误差。

在实际操作中,首先需要将电流探针1和电流探针2连接到电流源,然后将电压探针1和电压探针2连接到电压测量仪。

接下来,将样品放置在电流探针1和电压探针1之间,并施加一定大小的电流。

通过测量电压探针1和电压探针2之间的电压差,可以计算出样品的电阻。

误差分析是测量过程中必不可少的一部分。

在四探针测量中常见的误差包括接触电阻、导线电阻和非均匀性。

接触电阻是由于电极与样品接触不良造成的,可以通过多次测量取平均值来减小。

导线电阻是由于电流和电压传输过程中导线自身的阻抗引起的,可以通过选择低阻抗的导线来减小。

非均匀性是指样品自身存在的电阻变化,这个误差很难消除,但可以通过选择合适的样品形状和尺寸来减小。

在实际应用中,四探针方法广泛用于测量各种材料的电阻率,例如金属、半导体和超导体等。

它具有高精度、高灵敏度和无侵入性的优点,在电子学、材料科学和地质勘探等领域有广泛的应用。

总之,四探针方法是一种常用的测量材料电阻率的方法,通过使用四个电极来测量样品的电阻,并根据测量结果计算出电阻率。

这种方法在实际应用中具有很高的准确性和可重复性,并能够减小传统两探针方法中的误差。

在进行四探针测量时,需要注意对接触电阻、导线电阻和非均匀性等误差进行适当的处理和减小。

四探针法测量电阻率

四探针法测量电阻率

实验二 四探针法测量电阻率一、引言电阻率是反映半导体材料导电性能的重要参数之一.虽然测量电阻率的方法很多,但由于四探针法设备简单、操作方便、精确度高、测量范围广,而且对样品形状无严格要求,不仅能测量大块材料的电阻率,也能测量异形层、扩散层、离子注入层及外延层的电阻率,因此在科学研究及实际生产中得到广泛利用。

本实验是用四探针法测量硅单晶材料的电阻率及pn 结扩散层的方块电阻。

通过实验,掌握四探针法测量电阻率的基本原理和方法以及对具有各种几何形状样品的修正,并了解影响测量结果的各种因素。

二、原理1、 四探针法测量单晶材料的电阻率最常用的四探针法是将四根金属探针的针尖排在同一直线上的直线型四探针法,如图2.1所示。

当四根探针同时压在一块相对于探针间距可视为半无穷大的半导体平坦表面上时,如果探针接触处的材料是均匀的,并可忽略电流在探针处的少子注入,则当电流I 由探针流入样品时,可视为点电流源,在半无穷大的均匀样品中所产生的电力线具有球面对称性,即等势面为一系列以点电流源为中心的半球面。

样品中距离点电源r 处的电流密度j,电场ε和电位V 分别为)3........(..........2)2.........(2)1.......(. (22)2r I V r I j r Ij πρπρσεπ====其中,σ和ρ分别是样品的电导率和电阻率。

若电流由探针流出样品,则有)4........(..........2rI V πρ=因此,当电流由探针1流入样品,自探针4流出样品时,根据电位叠加原理,在探针2处的电位为)5.....(. (12123)212S S I S I V +⋅-⋅=πρπρ 在探针3处的电位为)6.....(. (12123)213S I S S I V ⋅-+⋅=πρπρ 式中的S 1是探针1和2之间的距离,S2是探针2和3之间的距离,S3是探针3和4之间的距离。

所以探针2、3之间的电位为)7......(S 1S S 1S S 1S 1(2I V V V 3213213223++-+-⋅πρ=-= 由此可求出样品的电阻率为)8.....(..........)S 1S S 1S S 1S 1(I V 2132132123-++-+-π=ρ 当S1=S2=S3=S 时,(8)式简化为)9.....(. (223)IV Sπρ= (9)式就是利用直线型四探针测量电阻率的公式。

四探针法测电阻

四探针法测电阻

实验一 四探针法测电阻率引言电阻率是反映半导体材料导电性能的重要参数之一。

测量电阻串的方法很多,四探针法是一种广泛采用的标准方法。

它的优点是设备简屯操作方便,精确度向,对样品的形状无严格要求。

本实验的目的是:掌握四探针测试电阻率的原理、方法和关于样品几何尺寸的修正,并了解影响测试结果的因素。

原理在一块相对于探针间距可视力半无穷大的均匀电阻率的样品上,有两个点电流源1、4。

电流由1流入,从4流出。

2、3是样品上另外两个探针的位置,它们相对于1、4两点的距离分别为、、、,如图1所示。

在半无穷大的均匀样品上点电流源所产生的电力线具有球面对称性,即等势面为一系列以点电流源为中心的半球面,如图2所示。

12r 42r 13r 43r图1 位置任意的是探针 图2 半无穷大样品上点电流源的半球等势面 若样品电阻率为ρ,样品电流为I ,则在离点电流源距离为r 处的电流密度J 为:22r I J π=(1) 又根据ρε=J (2)其中,ε为r 处的电场强度,有(1)、(2)式得22rI πρε= (3) 根据电场强度和电势梯度得关系及球面对称性可得 drdV −=ε 取r 为无穷远处得电势V 为零,则有 ∫∫∞−=r r V dr dV ε)(0r I r V 12)(πρ= (4)式(4)代表一个点电流源对距r 处点的点势的贡献。

在图1的情况,2、3两点的电势应为1、4两个相反极性的电电流源的共同贡献,即:11(242122r r I V −=πρ (5) )11(243133r r I V −=πρ (6)2、3两点的电势差为)1111(2431342122r r r r I V +−−=πρ 由此可以得出样品的电阻率为:1111(24313421223r r r r I V +−−=πρ (7)这就是利用四探针法测量电阻率的普遍公式。

只需测出流过1、4探针的电流;2、3探针间的电势差以及四根探针之间的距离,就可利用(7)式求出样品的电阻率。

四探针方法测电阻率

四探针方法测电阻率

四探针方法测电阻率四探针测量方法是一种常用于测量材料电阻率的方法。

它利用四个探针分别接触材料的边缘,通过测量电流和电压之间的关系来计算电阻率。

本文将详细介绍四探针测量方法的原理、实验步骤以及相关应用。

一、原理四探针法是通过在材料上放置四个电极将电流注入材料,通过测量电压差来计算电阻率。

四个电极的排列为两对电极,分别被称为内电极和外电极。

内电极用来注入电流,外电极用来测量电压差。

电流注入内电极,流经材料,在外电极上造成一定的电压差。

通过测量电压差和流经材料的电流,可以计算出材料的电阻率。

二、实验步骤1.准备工作:准备好所需的材料和设备,包括电极、电流源、电压表、数字多用表等。

将四个电极连接到相应的设备。

2.放置电极:将两个内电极与两个外电极分别放置在材料的两侧,确保它们之间的距离相等且较小,并确保电极与材料充分接触。

3.注入电流:将电流源与两个内电极连接,设置合适的电流大小。

4.测量电压差:将电压表连接到两个外电极,并读取电压值。

5.计算电阻率:根据所测得的电压值和注入电流值,通过特定公式计算出材料的电阻率。

三、应用四探针测量方法广泛应用于电子材料、导电涂层、半导体、薄膜和纳米材料等领域,这些领域的材料往往具有很低的电阻率。

与传统的两探针测量方法相比,四探针法在处理低电阻材料时更加可靠,因为它可以减小接触电阻的影响。

四探针测量方法的优点在于:①减小了接触电阻的影响,因为外电极的电压测量不受内电极的电流注入影响;②测量精度高,可以测量低电阻材料的电阻率,并排除掉接触电阻的误差;③适用范围广,可以用于各种材料的电阻率测量。

总结:四探针测量方法通过在材料上放置四个电极,并分别注入电流和测量电压差,计算得到电阻率。

它在测量低电阻材料时具有优势,并广泛用于电子材料、导电涂层、半导体、薄膜和纳米材料等领域。

四探针测量方法的应用可以提高测量精度,并排除掉接触电阻的误差。

四探针方法测电阻率

四探针方法测电阻率

的测量,如电导率、迁移率等,为材料科学和电子学等领域的研究提供
更多有价值的数据。
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导线
用于连接测试设备和样品,需选用低 阻抗导线。
实验环境与条件
01
02
03
实验室环境
保持实验室温度、湿度和 清洁度等环境因素稳定, 以保证测量结果的准确性。
电源条件
确保电源电压稳定,避免 电压波动对测量结果的影 响。
安全措施
实验操作过程中需注意安 全,遵守实验室安全规定, 确保实验人员和设备的安 全。
07
结论与展望
研究结论
1 2
电阻率测量精ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ高
四探针方法通过四个探针同时接触样品,能够有 效地减小接触电阻和测量误差,从而获得更高的 电阻率测量精度。
适用范围广
四探针方法适用于各种不同类型和规格的样品, 如金属、半导体、陶瓷等,具有较广的适用范围。
3
操作简便
四探针方法不需要对样品进行特殊处理或制备, 只需将探针放置在样品上即可进行测量,操作简 便易行。
随着科技的发展,四探针方法的应用领域不断拓展,不仅局限于半导体和金属材料检测。
在新能源领域,如太阳能电池和燃料电池的生产过程中,四探针方法可用于检测材料的电阻 率,提高电池性能和稳定性。
在环境监测领域,四探针方法可应用于土壤电阻率的测量,为土壤污染治理和土地资源管理 提供依据。此外,在地质勘探、生物医学和食品检测等领域,四探针方法也展现出广阔的应 用前景。
的测量。
四探针的优点与局限性
优点
四探针法具有较高的测量精度和稳定 性,适用于各种形状和尺寸的样品, 且操作简便、快速。
局限性
四探针法需要与被测材料直接接触, 可能会对材料表面造成损伤或污染; 同时对于导电性较差或不均匀的材料 ,测量结果可能存在误差。

四探针法测电阻率

四探针法测电阻率

实验一 四探针法测电阻率引言电阻率是反映半导体材料导电性能的重要参数之一。

测量电阻串的方法很多,四探针法是一种广泛采用的标准方法。

它的优点是设备简屯操作方便,精确度向,对样品的形状无严格要求。

本实验的目的是:掌握四探针测试电阻率的原理、方法和关于样品几何尺寸的修正,并了解影响测试结果的因素。

原理在一块相对于探针间距可视力半无穷大的均匀电阻率的样品上,有两个点电流源1、4。

电流由1流入,从4流出。

2、3是样品上另外两个探针的位置,它们相对于1、4两点的距离分别为、、、,如图1所示。

在半无穷大的均匀样品上点电流源所产生的电力线具有球面对称性,即等势面为一系列以点电流源为中心的半球面,如图2所示。

12r 42r 13r 43r图1 位置任意的是探针 图2 半无穷大样品上点电流源的半球等势面 若样品电阻率为ρ,样品电流为I ,则在离点电流源距离为r 处的电流密度J 为:22r I J π=(1) 又根据ρε=J (2)其中,ε为r 处的电场强度,有(1)、(2)式得22rI πρε= (3) 根据电场强度和电势梯度得关系及球面对称性可得 drdV −=ε 取r 为无穷远处得电势V 为零,则有 ∫∫∞−=r r V dr dV ε)(0r I r V 12)(πρ= (4)式(4)代表一个点电流源对距r 处点的点势的贡献。

在图1的情况,2、3两点的电势应为1、4两个相反极性的电电流源的共同贡献,即:11(242122r r I V −=πρ (5) )11(243133r r I V −=πρ (6)2、3两点的电势差为)1111(2431342122r r r r I V +−−=πρ 由此可以得出样品的电阻率为:1111(24313421223r r r r I V +−−=πρ (7)这就是利用四探针法测量电阻率的普遍公式。

只需测出流过1、4探针的电流;2、3探针间的电势差以及四根探针之间的距离,就可利用(7)式求出样品的电阻率。

四探针方法测电阻率(原理公式推导)

四探针方法测电阻率(原理公式推导)
探针方法测量半导体的电阻率
〈一〉实验目的
〈二〉实验原理
〈三〉仪器结构特征
〈四〉操作步骤
〈五〉注意事项
〈六〉技术参数
<一> 实验目的
1、理解四探针方法测量半导体电阻率的原理; 2、学会用四探针方法测量半导体电阻率。
<二> 实验原理
1、体电阻率测量:
当1、2、3、4四根 金属探针排成一直线时, 并以一定压力压在半导体 材料上,在1、4两处探 针间通过电流I,则2、3
• 为克服测试时探针与样品接触时产生的接触
电势和整流效应的影响。本仪器设立有“粗 调”、“细调”调零电路能产生一个恒定的 电势来补偿附加电势的影响。 • 仪器自较电路中备有精度为0.02%、阻值为 19.96的标准电阻,作为自校电路的基础,通 过自校电路可以方便地对数字电压表精度和 恒流源进行校准。
在半导体材料断面测量时:直径范围
Φ15~100mm,其高度为400mm,如果要对大
于400mm长单晶的断面测量,可以将座体的
V型槽有机玻璃板取下,座体设有一个腰形
孔,用户可以根据需要增设支衬垫块使晶体
长度向台下延伸,以满足测量长单晶需求,
测试架有专门的屏蔽导线插头与电气箱联结。
<四> 实验步骤
1、测试准备:电源开关置于断开位置,工作 选择置于“短路”,电流开关处于弹出切断 位置。将测试样品放在样品架上,调节高度 手轮,使探针能与其表面保持良好接触。
• 温度影响电阻率,从面影响电阻 • p=p1(1+aT),p1为该材料0摄氏度时的电阻 率, a叫电阻的温度系数,不同材料的电阻 温度系数不同 • 由R=p*l/s p=p1(1+aT),得 • R=R1(1+aT) 同理,R1为0摄氏度时的电阻 • R=p*l/s(p—电阻率查表求;l—电阻长度 ;s—与电流垂直的电阻截面面

四探针方法测电阻率(原理公式推导)

四探针方法测电阻率(原理公式推导)
若电流取I = C 时,则ρ=V,可由数字电压表直 接读出。
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温度影响电阻率,从面影响电阻 p=p1(1+aT),p1为该材料0摄氏度时的电阻率, a叫电阻
的温度系数,不同材料的电阻温度系数不同 由R=p*l/s p=p1(1+aT),得 R=R1(1+aT) 同理,R1为0摄氏度时的电阻 R=p*l/s(p—电阻率查表求;l—电阻长度;s—与电流
4、将工作选择档置于“自校”,使电流显示出“199*”, 各量程数值误差为4字。
5、将工作选择档置于“调节”,电流调节在I=6.28=C,C为 探针几何修正系数。
Page 16
1.显示板 2、单位显示灯 3、电流量程开关 4、工作选择开关 (短路、测量、调节、自校选择)5、电压量程开关6、输入插 座7、调零细调8、调零粗调9、电流调节10、电源开关11、电 流选择开关 12、极性开关
<三> 仪器结构特征
数字式四探针测试仪主体部分由高灵敏度直流数字电 压表、恒流源、电源、DC-DC电源变换器组成。为了 扩大仪器功能及方便使用,还设立了单位、小数点自 动显示电路、电流调节、自校电路和调零电路。
Page 11
仪器电源经过DC-DC变换器,由恒流源电路产生一个高稳定 恒定直流电流,其量程为10μA、100μA、1mA、10mA、 100mA,数值连续可调,输送到1、4探针上,在样品上 产生一个电位差,此直流电压信号由2、3探针输送到电气 箱内。具有高灵敏度、高输入阻抗的直流放大器中将直流信 号放大(放大量程有0.2mV、2mV、20mV 、200mV、 2V),再经过双积分A/D变换将模拟量变换为数字量,经由 计数器、单位、小数点自动转换电路显示出测量结果。
当圆形硅片的厚度满足W/S<0.5时,电阻率为:

四探针方法测电阻率

四探针方法测电阻率

为:
的半球等位面
由此可得出样品的电阻率为:
簿片电阻率测量 簿片样品因为其厚度与探针间距比较, 不能忽略,测量时要提供样品的厚度形 状和测量位置的修正系数。
下面考虑一般情况下的修正:
当圆形硅片的厚度满足W/S<0.5时,电阻率为:
0
W S
1 D(d ) 2 ln 2 S
这就是我们实验时用到的公式
1.显示板 2、单位显示灯 3、电流量程开关 4、工作 选择开关(短路、测量、调节、自校选择)5、电 压量程开关6、输入插座7、调零细调8、调零粗调9、 电流调节10、电源开关11、电流选择开关 12、极性 开关
6、工作状态选择开关置于“测量”,按下电流开关 输出恒定电流,即可由数字显示板和单位显示灯 直接读出测量值。再将极性开关拨至下方(负极 性),按下电流开,读出测量值,将两次测量值 取平均,即为样品在该处的电阻率值。关如果 “±”极性发出闪烁信号,则测量数值已超过此电 压量程,应将电压量程开关拨到更高档,读数后
<六>心得体会
一、通过对四探针法的研究,我们探索到了测 电阻率时需要的修正函数(厚度修正函数以及 形状和测量位置的修正函数)。 二、体会了研究性实验的探索过程,感悟了科 学研究历程的愉悦。 三、推广了四探针法的测量范围,可以对不规 则硅晶片进行测量计算。
退出电流开关,数字显示恢复到零位.
实验数据
通过修正公式修正后,得到:
与实验预期结果相吻合,因 此该验证公式较为理想。
<五> 注意事项
1、电流量程开关与电压量程开关必须放在 下表所列的任一组对应的量程
电压 2V 200m 20mV 2mV 0.2m
量程
V
V
电流 100m 10mA 1mA 100μ 10μA

四探针法测电阻率

四探针法测电阻率

实验 四探针法测电阻率1.实验目的:学习用四探针法测量半导体材料的体电阻率和扩散薄层的电阻率及方块电阻。

2.实验内容① 硅单晶片电阻率的测量:选不同电阻率及不同厚度的大单晶圆片,改变条件(光照与否),对测量结果进行比较。

② 薄层电阻率的测量:对不同尺寸的单面扩散片和双面扩散片的薄层电阻率进行测量。

改变条件进行测量(与①相同),对结果进行比较。

3. 实验原理:在半导体器件的研制和生产过程中常常要对半导体单晶材料的原始电阻率和经过扩散、外延等工艺处理后的薄层电阻进行测量。

测量电阻率的方法很多,有两探针法,四探针法,单探针扩展电阻法,范德堡法等,我们这里介绍的是四探针法。

因为这种方法简便可行,适于批量生产,所以目前得到了广泛应用。

所谓四探针法,就是用针间距约1毫米的四根金属探针同时压在被测样品的平整表面上如图1a 所示。

利用恒流源给1、4两个探针通以小电流,然后在2、3两个探针上用高输入阻抗的静电计、电位差计、电子毫伏计或数字电压表测量电压,最后根据理论公式计算出样品的电阻率[1]式中,C 为四探针的修正系数,单位为厘米,C 的大小取决于四探针的排列方法和针距,探针的位置和间距确定以后,探针系数C 就是一个常数;V 23为2、3两探针之间的电压,单位为伏特;I 为通过样品的电流,单位为安培。

半导体材料的体电阻率和薄层电阻率的测量结果往往与式样的形状和尺寸密切相关,下面我们分两种情况来进行讨论。

⑴ 半无限大样品情形图1给出了四探针法测半无穷大样品电阻率的原理图,图中(a)为四探针测量电阻率的装置;(b)为半无穷大样品上探针电流的分布及等势面图形;(c)和(d)分别为正方形排列及直线排列的四探针图形。

因为四探针对半导体表面的接触均为点接触,所以,对图1(b )所示的半无穷大样品,电流I 是以探针尖为圆心呈径向放射状流入体内的。

因而电流在体内所形成的等位面为图中虚线所示的半球面。

于是,样品电阻率为ρ,半径为r ,间距为dr 的两个半球等位面间的电阻为dr rdR 22πρ=, 它们之间的电位差为 dr r IIdR dV 22πρ==。

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实验 四探针法测电阻率
1.实验目的:
学习用四探针法测量半导体材料的体电阻率和扩散薄层的电阻率及方块电阻。

2.实验内容
① 硅单晶片电阻率的测量:选不同电阻率及不同厚度的大单晶圆片,改变条件(光照
与否),对测量结果进行比较。

② 薄层电阻率的测量:对不同尺寸的单面扩散片和双面扩散片的薄层电阻率进行测
量。

改变条件进行测量(与①相同),对结果进行比较。

3. 实验原理:
在半导体器件的研制和生产过程中常常要对半导体单晶材料的原始电阻率和经过扩散、外延等工艺处理后的薄层电阻进行测量。

测量电阻率的方法很多,有两探针法,四探针法,单探针扩展电阻法,范德堡法等,我们这里介绍的是四探针法。

因为这种方法简便可行,适于批量生产,所以目前得到了广泛应用。

所谓四探针法,就是用针间距约1毫米的四根金属探针同时压在被测样品的平整表面上如图1a 所示。

利用恒流源给1、4两个探针通以小电流,然后在2、3两个探针上用高输入阻抗的静电计、电位差计、电子毫伏计或数字电压表测量电压,最后根据理论
公式计算出样品的电阻率[1]
I
V C
23
=ρ 式中,C 为四探针的修正系数,单位为厘米,C 的大小取决于四探针的排列方法和针距,
探针的位置和间距确定以后,探针系数C 就是一个常数;V 23为2、3两探针之间的电压,单位为伏特;I 为通过样品的电流,单位为安培。

半导体材料的体电阻率和薄层电阻率的测量结果往往与式样的形状和尺寸密切相关,下面我们分两种情况来进行讨论。

⑴ 半无限大样品情形
图1给出了四探针法测半无穷大样品电阻率的原理图,图中(a)为四探针测量电阻率的装置;(b)为半无穷大样品上探针电流的分布及等势面图形;(c)和(d)分别为正方形排列及直线排列的四探针图形。

因为四探针对半导体表面的接触均为点接触,所以,对图1(b )所示的半无穷大样品,电流I 是以探针尖为圆心呈径向放射状流入体内的。

因而电流在体内所形成的等位面为图中虚线所示的半球面。

于是,样品电阻率为ρ,半径为r ,间距为dr 的两个半球等位面间的电阻为
dr r dR 2
2πρ
=
, 它们之间的电位差为 dr r
I
IdR dV 2
2πρ=
=。

考虑样品为半无限大,在r →∞处的电位为0,所以图1(a )中流经探针1的电流I 在r 点形成的电位为 ()r
I dr r I V r
r πρπρ222
1==

∞。

流经探针1的电流在2、3两探针间形成的电位差为 ()⎪⎪⎭

⎝⎛-=
1312123112r r I V πρ; 流经探针4的电流与流经探针1的电流方向相反,所以流经探针4的电流I 在探针2、3之间引起的电位差为
()⎪⎪⎭

⎝⎛--=4342423112r r I V πρ。

于是流经探针1、4之间的电流在探针2、3之间形成的电位差为
⎪⎪⎭
⎫ ⎝⎛+--=
434213122311112r r r r I V πρ。

由此可得样品的电阻率为
()1111121
434213
1223-⎪⎪⎭⎫
⎝⎛+--=r r r r I V πρ
上式就是四探针法测半无限大样品电阻率的普遍公式。

在采用四探针测量电阻率时通常使用图1(c )的正方形结构(简称方形结构)和图1(d )的等间距直线形结构,假设方形四探针和直线四探针的探针间距均为S , 则对于直线四探针有 S r r S r r 2,
42134312====
()2223
I
V S ⋅
=∴πρ
对于方形四探针有 S r r S r r 2,42134312====
()
322223
I
V S ⋅
-=∴
πρ
⑵ 无限薄层样品情形
当样品的横向尺寸无限大,而其厚度t 又比探针间距S 小得多的时候,我们称这种样品为无限薄层样品。

图2给出了用四探针测量无限薄层样品电阻率的示意图。

图中被测样品为在p 型半导体衬底上扩散有n 型薄层的无限大硅单晶薄片,1、2、3、4为四个探针在硅片表面的接触点,探
针间距为S ,n 型扩散薄层的厚度为t ,并且t<<S ,I +表示电流从探针1流入硅片,I -表示电流从探针4流出硅片。

与半无限大样品不同的是,这里探针电流在n 型薄层内近似为平面放射状,其等位面可近似为圆柱面。

类似前面的分析,对于任意排列的四探针,探针1的电流I 在样品中r 处形成的电位为
()r t
I
dr rt
I
V r
r ln 221πρπρ-
==⎰∞
式中ρ为n 型薄层的平均电阻率。

于是探针1的电流I 在2、3探针间所引起的电位差为 ()12
13
1312123ln 2ln 2r r t I r r t I V πρπρ=-
= 同理,探针4的电流I 在2、3探针间所引起的电位差为
()43
42
423ln
2r r t
I
V πρ= 所以探针1和探针4的电流I 在2、3探针之间所引起的电位差是
12
4313
4223ln
2r r r r t I V ⋅⋅=
πρ 于是得到四探针法测无限薄层样品电阻率的普遍公式为
()4ln 212
4313
4223r r r
r I tV ⋅⋅=
πρ
对于直线四探针,利用S r r S r r 2,42134312====可得
()52ln 2ln 222323I
V t I tV ⋅==
ππρ
对于方形四探针,利用S r r S r r 2,42134312====可得
()62ln 223
I
V t ⋅=
πρ
在对半导体扩散薄层的实际测量中常常采用与扩散层杂质总量有关的方块电阻R S ,它
与扩散薄层电阻率有如下关系:
j
X j
S NX q NdX
q X R j μμρ
1
10
=
=
=

这里X j 为扩散所形成的pn 结的结深。

这样对于无限薄层样品,方块电阻可以表示如下: 直线四探针:
()72ln 23
I
V X R j
S πρ
=
=
方形四探针:
()82ln 223
I
V X R j
S πρ
=
=
在实际测量中,被测试的样品往往不满足上述的无限大条件,样品的形状也不一定相同,因此常常要引入不同的修正系数。

实际测量中的扩散样片可能有两种情况:单面扩散片和双面扩散片,如图3所示。

这两种样品的修正系数分别列于附录中的表。

图4 SZT-2A 四探针测试仪
4.实验装置及注意事项
⑴ 实验装置
实验装置如图4所示。

电路中的恒流源所提供的电流是连续可调的,电压表采用电位差计或数字电压表。

实验所用的探针通常采用耐磨的导电硬质合金材料,如钨、碳化钨等。

探针要求等间距配置,并使其具有很小的游移误差。

在探针上需加上适当的压力,
以减小探针与半导体材料之间的接触电阻。

⑵ 注意事项
① 半无限大样品是指样品厚度及任意一根探针距样品最近边界的距离远大于探针
间距,如果这一条件不能得到满足则必需进行修正。

② 为了避免探针处的少数载流子注入,提高表面复合速度,待测样品的表面需经
粗砂打磨或喷砂处理。

③ 在测量高阻材料及光敏材料时需在暗室或屏蔽盒内进行。

④ 因为电场太大会使载流子的迁移率下降,导致电阻率测量值增大,故须在电场
强度E<1V/cm 的弱场下进行测量。

⑤ 为了避免大电流下的热效应,测试电流应尽可能低,但须保证电压的测试精度。

[2]
⑥ 为了满足探针与半导体的接触为欧姆接触,探针上须加上一定的压力。

对于体
材料,一般取1~2kg ;对于薄层材料或外延材料选取200g 。

⑦ 当室温有较大波动时,最好将电阻率折算到23℃时的电阻率。

因为半导体的电
阻率对温度很敏感。

如果有必要考虑温度对电阻率的影响,可用下面的公式进行计算
()[]
()91参考平均参考T T C T --=ρρ
式中ρ参考为修正到某一参考温度(例如23℃)下的样品电阻率; ρ平均为测试温度下样品的平均电阻率;C T 为温度系数,它随电阻率变化的曲线示于图5;T 为测试温度;T 参考为某一指定的参考温度。

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