声表面波器件工艺原理-6划片工艺原理
声表面波滤波器原理和应用
声表面波滤波器原理及应用1.声表面波滤波器(SAWF)的结构和工作原理声表面波滤波器(SAWF)是利用压电材料的压电效应和声特性来工作的。
具有压电效应的材料能起到换能器的作用,它可以将电能转换成机械能,反之亦然。
压电效应包括正压电效应和反压电效应。
所谓正压电效应是指压电材料受力变形产生电荷,因而产生电场的效应,即由机械能转换为电能,反压电效应是指压电材料在外加电场的作用下,产生机械形变的效应,也即由电能转换为机械能。
声表面波滤波器(SAWF)的结构如图2—12所示。
这种滤波器的基片是由压电材料(如铌酸锂或石英晶体)制成,在基片上蒸镀两组“叉指电极”,一般由金属薄膜用光刻工艺刻成。
左侧接信号源的一组称为发送换能器,右侧接负载的一组称为接收换能器,图中a、b分别为电极宽度和极间距离,W为相邻叉指对的重叠长度,称为“叉指孔径”。
当交变的电信号u s 加到发送换能器的两个电极上时,通过反压电效应,基片材料就会产生弹性形变,这个随信号变化的弹性波,即“声表面波”,它将沿着垂直于电极轴向(图中x方向)向两个方向传播,一个方向的声表面波被左侧的吸声材料吸收,另一方向的声表面波则传送到接收换能器,由正压电效应产生了电信号,再送到负载R L。
但叉指换能器的形状不同时,滤波器对不同频率信号的传送与衰减能力就会不一样。
图2—12 声表面波滤波器结构示意图为了简便起见,仅分析“均匀”型叉指换能器的频率特性。
所谓“均匀”型就是指图2—12中各叉指对的参数a、b、W 都相同,设换能器有n+1个电极,并把换能器分为n节或N个周期(N=n/2),各电极将激发出相同数量的声表面波,声表面波的波长由指装点基的宽度a和间隔b决定,声表面波的频率与传播速度有关,其自然谐振频率(或机械谐振频率)为v是声表面波的传播速度,约为3×103m/s,比光速小很多,比声速高9倍多。
在f0一定,速度v低时(a+b)就可以小,所以声表面波器件的尺寸可以做得很小,但f0很低,则(a+b)就增大,SAWF的尺寸就增大,因此它适合工作在高频或超高频段。
声表面波器件
32
8.5 声表面波传感器的应用
Vibration and Acceleration SAW Sensor Torque SAW Sensor Flow SAW Sensor SAW Gyroscope Liquid SAW Sensor Gas SAW Sensor Applications of SAW Device in Automobile
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11
4. SAW技术应用与器件
目前SAW技术的应用已涉及地震学、天文学、 雷达通讯及广播电视中的信号处理、航空航天、 石油勘探、无损检测、识别定位和传感器等许多 学科领域。随着电子学、声学、微平面工艺的飞 速发展,SAW技术的发展也越来越迅速,目前已 成为电子、超声领域最为活跃的学科分支之一。
限幅输出
对数
放
放大
大
RSSI
A/D 转换
数据处理 中心
带通
功放
滤波
开关
带通 滤波
70MHz 晶振
混频器
图7-11 发射接收系统框图
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28
SAW传感器信号检测
arctan
A cos(0t)
90°功分器
A1 cos(0t) I 低通滤波
Q 低通滤波
A1 sin(0t)
B1 cos(0t i )
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5. SAW器件材料
SAW器件的特性在很大程度上是由压电基片材 料决定的,一般描述SAW器件材料的性能指标有: 机电耦合系数,延时温度系数,相速度、各向异性 因子、插入与传播损耗、密度、弹性模量与杨氏模 量等。
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目前使用的SAW基片材料主要有: 压电单晶:石英(SiO2)、铌酸锂(LiNbO3)、钽酸锂 (LiTaO3)、铌酸钾(KNbO3)等,重复性好、可靠性高、 传播损耗小 ,一般它们是各向异性材料 ,难以同时满足机电 耦合系数高,而温度系数又要小的要求; 压电陶瓷:机电耦合系数最大 ,一致性差 ,工作频率受到多 晶晶粒大小和晶粒间界状况、内部气孔大小的限制,一般只适 宜作低频器件。 压电薄膜:如ZnO ,表面波传播特性由压电薄膜和衬底的特 性共同决定,它可以很方便的与半导体电子器件集成为单片器 件,使声表面波信号处理器件或传感器与外围电路集成化
声表面波基础知识
• 可以将一个δ脉冲展宽 ,或者将展宽的信号压缩,解决信号探 测的距离与分辨率的矛盾
– 卷积器
• 声表面波非线形效应的很好应用。
• 声表面波的新的应用领域
– 标签
• 与IC 的RFID相比,具有无源,没有功耗,探测距离 远等特点
– 声表马达
• 完全不同于传统的电磁驱动,在极微小的领域运用。
SHOULDER
SAW
多媒体用的中频滤波器 2. 1 伴音滤波器典型特性曲线
以AF389A14Dc为例
一般在晶片的两端还涂有吸声材料,以吸收端面反射的声表面波。
如果改变IDT指条的长度,那么连 接不同汇流条的相邻指条的重叠 长度也发生改变,称为对叉指换 能器的加权。 采用不同的加权方式就能得到不 同的声表面波滤波器的特性。 电视中频滤波器是声表面波滤波 器中最经典,最具特色的滤波器 之一,一般是由一个等指长的宽 带换能器和一个加权换能器组成。 这种滤波器设计的关键是设计加 权换能器,也就是说关键是指条 的重叠区域(包络线以内的部分)
IDT of SHOULDER BF36A8Dc
The outline sketch of two input IDT’s
Compare BF36A8Dc with E X6874D
Frequency response
Group delay
4-2. VF389A1Dc VS K3953D Input IDT of E K3953D
切指加全换能器的特点是加权灵活,精度高,缺点是由于指条长度的不等的, 为了使发射换能器的信号能够都被接收换能器有效接收,接收换能器的指条 长度一般情况下都要大于或等于发射换能器的声孔径,所以,通常情况下, 一个换能器采用切指加权,而另一个换能器采用等指长的宽带换能器(非加 权)。 为了提高滤波器的矩形系数和阻带抑制,需要将两个换能器都进行加权。 多条耦合器能很好地解决这个问题。 多条耦合器是有很多周期排列的金属条组成的,它能将声表面波从一个传输 路径耦合到另一个路径,而其他模式的波不能耦合,所以对体波具有很好的 抑制作用。
声表面波简介
声表面波简介声表面波技术是六十年代末期才发展起来的一门新兴科学技术,它是声学和电子学相结合的一门边缘学科。
由于声表面波的传播速度比电磁波慢十万倍,而且在它的传播路径上容易取样和进行处理,因此,用声表面波去模拟电子学的各种功能,能使电子器件实现超小型化和多功能化。
同时,由于声表面波器件在甚高频和超高频波段内以十分简单的方式提供了其它方法不易得到的信号处理功能,因此,声表面波技术在雷达、通信和电子对抗中得到了广泛的应用。
声表面波是沿物体表面传播的一种弹性波。
早在九十多年前,人们就对这种波进行了研究。
1885 年,瑞利根据对地震波的研究,从理论上阐明了在各向同性固体表面上弹性波的特性。
但由于当时的科学技术水平所限,这种弹性表面波一直没有得到实际上的应用。
直到六十年代,由于半导体平面工艺以及激光技术的发展,出现了大量人造压电材料为声表面波技术的发展提供了必要的物质和技术基础。
1949 年,美国贝尔电话实验室发现了LiNbO3单晶。
1964 年产发表了激发弹性表面波平面结构换邹器的专利。
特别应该指出的是,1965 年,怀特(R . M.white)和沃尔特默(F.W.voltmer )在应用物理杂志上发表了题为“一种新型表面波声-电换能器― 叉指换能器”的论文,从而取得了声表面波技术的关键性突破。
声表面波器件的基本结构和工作原理声表面波器件是在压电基片上制作两个声一电换能器―叉指换能器。
所谓叉指换能器,就是在压电基片表面上形成形状像两只手的手指交叉状的金属图案,它的作用是实现声一电换能。
声表面波器件的工作原理是,基片左端的换能器(输入换能器)通过逆压电效应将愉入的电信号转变成声信号,此声信号沿基片表面传播,最终由基片右边的换能器(输出换能器)将声信号转变成电信号输出。
整个声表面波器件的功能是通过对在压电基片上传播的声信号进行各种处理,并利用声一电换能器的待性来完成的。
声表面波技术有如下的特点:第一,声表面波具有极低的传播速度和极短的波长,它们各自比相应的电磁波的传播速度的波长小十万倍。
(完整版)减薄、划片工艺介绍
扩张
• 步骤:
• 扩张前准备
开机,打开电源,查看引伸盘控温器上的温 度显示值是否为40℃± 5℃,异常红灯会亮。
划片 贴片 切割 裂片 倒膜 扩张
放扩张环 ,打开压盖,将扩张环的内环 放入底盘中,注意光滑面朝上,将扩张环的 外环放入压环盘中,注意光滑面朝下。
划片 贴片 切割 裂片 倒膜 扩张
430μm
80μm
上蜡
减薄
• 定义:
将芯片固定在陶瓷盘上便于减薄的过程 。
上蜡 研磨 抛光
卸片
清洗
上蜡
减薄
• 步骤:
• 清洁陶瓷盘
上蜡贴片前,首先需要保证陶瓷盘的 洁净程度,LED芯片减薄是属于微米量 级的操作,任何细微的杂质都可能导 致意想不到的异常状况。
上蜡 研磨 抛光 卸片
清洗
上蜡
• 步骤:
上蜡 研磨 抛光 卸片
清洗
研磨
• 步骤:
• 镶盘 将锡盘上均匀布满钻石液的过程。
减薄 上蜡 研磨 抛光 卸片 清洗
抛光
减薄
• 步骤:
• 抛光
通过抛光液中的钻石颗粒,缓慢减薄 芯片。
上蜡 研磨 抛光
卸片
清洗
卸片
减薄
• 定义:
将减薄后的芯片从陶瓷盘上卸下来的过 程。
上蜡 研磨 抛光
卸片
清洗
卸片
减薄
• 步骤:
• 浸泡
将抛光后的陶瓷盘放入去蜡锅中,加 热浸泡5min左右,使芯片从陶瓷上剥 离。
上蜡 研磨 抛光 卸片
清洗
卸片
减薄
• 步骤:
• 夹取
用平口镊小心将减薄后的芯片夹只提 篮中以便于清洗。由于芯片很薄夹取 过程中需非常小心。
SAW技术
4.5 声表面波传感器
声表面波传感器是利用声表面波器件为转换元件, 将感受到的被测量参数转换成可用于输出信号的传感 器。例如,当外界因数(如压力、温度、加速度、气 体、化学和生物环境变化等)对声表面波传播特性产 生影响时,在声表面波器件的各项参数上就可以反映 出来,因此可以利用这种现象制备各种压力、温度、 加速度、流量、化学、生物传感器,用于测量和监控 各种化学和物理参数。
声表面波谐振器结构
随着通信技术的发展,对信号源的高频 化、高准确度和高稳定度提出了越来越高的要 求,信号源的设计一般是采用石英晶体谐振器 在低频下产生振荡(一般为几兆赫或几十兆 赫),然后采用倍频的办法形成高频信号,这 样作的优点是石英晶体谐振器的频率稳定度高, 缺点是线路复杂,体积大,成本高,同时经过 几次倍频之后,相位噪声变大; 采用声表面波谐振器可以直接在GHZ频带 产生振荡而形成高频信号,无需倍频,这样简 化了线路,缩小了体积,降低了成本,减小了 相位噪声,同时提高了可靠性
4.2 声表面波延迟线
延迟线:信号在传输过程中,由于多种因素的影响,
总会发生不同程度的延迟,要求统一处理的信号出现了 时间差。为了把这种时间差纠正过来,就需要将早到达 的 信号延迟一段时间。延迟线就是能将电信号延迟一 段时间的器件。 左端的IDT将输入电信号转变 成声信号,通过声媒质表面 传播后,由右端的IDT将声信 号还原成电信号输出。延迟 时间τ 的大小取决于基片媒 质的声表面波速度v和两换能 器之间的距离L,即τ = L/v。 SAW延迟线原理
声表面波传感器分类
物理传感器
温度传感器 压力传感器 湿度传感器 加速度传感器 陀螺仪(角速率)传感器 酶以及免疫传感 器
声表面波压力传感器
SAW压力传感器是较早研究的一种SAW传 感器。其工作原理是基于声表面波器件在基底 压电材料受到外界作用力作用后,材料内部各 点的应力发生变化,通过压电材料的非线性弹 性行为,使材料的弹性常数、密度等随外界作 用力的变化而变化,从而导致声表面波得到传 播速度的变化。同时,压电材料受到作用力后, 使声表面波谐振器的结构尺寸发生变化,从而 导致声表面波的波长改变。声表面波谐振器的 谐振频率f=v/λ ,于是谐振频率变化。测量材 料频率大小就可以知道外界作用力的大小。
表面声波器件的原理与制作
表面声波器件的原理与制作表面声波器件(Surface Acoustic Wave Device,SAW)是一种利用固体表面传播的声波来实现信号处理和传感的器件。
它具有体积小、功耗低、频率响应快等优点,在通信、传感、滤波等领域有着广泛的应用。
本文将介绍表面声波器件的原理和制作过程。
## 原理表面声波器件的工作原理基于固体表面的声波传播特性。
当在固体表面施加电压时,会在表面产生声波。
这些声波沿着表面传播,可以被用来传输信号、进行滤波等操作。
表面声波器件通常由压电材料制成,压电材料在受到电场激励时会发生形变,从而产生声波。
表面声波器件主要包括输入输出电极、压电衬底和衬底上的声波传播结构。
当输入电极施加电压时,压电材料会产生声波,声波沿着表面传播到输出电极处,输出电极将声波转换为电信号。
通过设计压电材料的性质和声波传播结构,可以实现不同的功能,如滤波、延迟线等。
## 制作过程表面声波器件的制作过程主要包括材料选择、器件设计、工艺制备等步骤。
### 材料选择制作表面声波器件的关键材料是压电材料。
常用的压电材料包括石英、LiNbO3等。
这些材料具有良好的压电性能和声波传播特性,适合用于制作表面声波器件。
除了压电材料,制作表面声波器件还需要选择适合的衬底材料和金属电极材料。
衬底材料通常选择石英或硅片,金属电极材料选择铝、铂等。
### 器件设计器件设计是制作表面声波器件的关键步骤。
在器件设计中,需要确定器件的工作频率、传播方向、输入输出电极位置等参数。
根据设计要求,选择合适的声波传播结构,如IDT(Interdigital Transducer)结构、反射器等。
### 工艺制备工艺制备是制作表面声波器件的最后一步。
工艺制备包括光刻、蒸发、沉积、刻蚀等工艺步骤。
首先,在衬底上进行光刻,定义出器件的结构。
然后通过蒸发或溅射等方法在衬底上沉积金属电极。
最后,利用刻蚀工艺去除多余的金属,形成最终的器件结构。
通过以上制备步骤,就可以制作出表面声波器件。
SAW技术解析
4.5 声表面波传感器
声表面波传感器是利用声表面波器件为转换元件, 将感受到的被测量参数转换成可用于输出信号的传感 器。例如,当外界因数(如压力、温度、加速度、气 体、化学和生物环境变化等)对声表面波传播特性产 生影响时,在声表面波器件的各项参数上就可以反映 出来,因此可以利用这种现象制备各种压力、温度、 加速度、流量、化学、生物传感器,用于测量和监控 各种化学和物理参数。
SAW振荡器的优点:
SAW振荡器能够弥补LC振荡器、晶体振荡器各方面之不足,它具有优 良的频率温度性、高纯净频谱和低相位噪声,可靠性高,体积小, 质量轻,电磁兼容性好,工作温度范围宽等特点。
由于其独特的优越性,声表面波振荡器在现代电子 系统和军事装备应用中已成为一种重要的微波频率源。 目前应用于SAW传感器的振荡器大致有两种,一种是延迟 线型振荡器 另外一种是谐振器型振荡器。 延迟线型振荡器由于本身能够提供足够长的延时,设计相 对简单 。一般SAW气体传感器所采用的是延迟线型振荡 器 谐振器型振荡器的频率噪声特性优越于延迟线型的振荡 器,它具有高质量因子、低损耗、高频率稳定度的特点, 被用于液体传感器
4.3声表面波振荡器
振荡器是用来产生重复电子讯号(通常是正弦波或方
波)的电子元件
传统振荡器的不足:
随着现代电子技术和军事装备的发展,电子设备中信号处理的工作 频率不断提高,虽然对LC振荡器、晶体振荡器进行多次的频率变换 能得到微波频段的信源,但是: 1、在微波频段的LC型信源存在着严重的温度稳定性问题 2、晶体型振荡器在多次的频率变换导致频谱性能恶化,同时在多次 的频率变换中使用大量的元器件,使信源器件体积大、成本高、可 靠性变差等 3、晶体振荡器难以实现宽的可控频率变化范围和调制频率偏移。
{技术管理套表}声表面波技术
Electronic ID
8.2 声表面波技术的基础知识
1. 什么是声表面波
SAW泛指沿表面或界面传播的各种模式的波
机械波
在表面传播,能量 集中在厚度不超过 1个波长的表层
SAW
SAW的激发
1. 基于压电材料的压电效应与逆压电效应
电能
机械能
电能
2. 波在不连续介质处的反射
Concept: IDT
外加电压 吸声材料
接收端
接地电极 压电基体
SAW的描述 ❖ 声波可以用质点离开平衡位置的位
移来表示,对于压电体,声波的传 播还伴随着电场和电势,因此描述 声波的变量还要有电势,一共四个 量。
2. 声表面波的类型
不同的边界条件和传播介质条件可以激发出不同 模式的声表面波。
在半无限基片上存在的声表面波有瑞利波 (Rayleigh waves)、漏波(Leaky SAW)、广义瑞利波 (Generalized Rayleigh waves)、水平剪切波(SHSAW)、电声波(B-G waves)、兰姆波(Lamb waves) 等。
8.4 声表面波传感器技术
工作原理:
利用外界物 理量(如温度、 压力等)的变化 引起声表面波的 传播特性发生变 化的原理来敏感 被测量。
结构型式
SAW传感器一般采用振荡器电路形式,其中SAW振 荡器是传感器的核心。SAW传感器的基本工作原理就是 利用了SAW振荡器这一频控元件受各种物理、化学和生 物量的作用而引起振荡频率的变化,通过精确测量振荡频 率的变化,从而实现检测上述物理量及化学量变化的目的。
在层状结构的基片存在有乐甫波(Love waves)、 西沙瓦波(Sezawa waves)、斯东莱波(Stoneley waves)等。
声表面波简介
声表面波简介声表面波技术是六十年代末期才发展起来的一门新兴科学技术,它是声学和电子学相结合的一门边缘学科。
由于声表面波的传播速度比电磁波慢十万倍,而且在它的传播路径上容易取样和进行处理,因此,用声表面波去模拟电子学的各种功能,能使电子器件实现超小型化和多功能化。
同时,由于声表面波器件在甚高频和超高频波段内以十分简单的方式提供了其它方法不易得到的信号处理功能,因此,声表面波技术在雷达、通信和电子对抗中得到了广泛的应用。
声表面波是沿物体表面传播的一种弹性波。
早在九十多年前,人们就对这种波进行了研究。
1885 年,瑞利根据对地震波的研究,从理论上阐明了在各向同性固体表面上弹性波的特性。
但由于当时的科学技术水平所限,这种弹性表面波一直没有得到实际上的应用。
直到六十年代,由于半导体平面工艺以及激光技术的发展,出现了大量人造压电材料为声表面波技术的发展提供了必要的物质和技术基础。
1949 年,美国贝尔电话实验室发现了LiNbO3单晶。
1964 年产发表了激发弹性表面波平面结构换邹器的专利。
特别应该指出的是,1965 年,怀特(R . M.white)和沃尔特默(F.W.voltmer )在应用物理杂志上发表了题为“一种新型表面波声-电换能器― 叉指换能器”的论文,从而取得了声表面波技术的关键性突破。
声表面波器件的基本结构和工作原理声表面波器件是在压电基片上制作两个声一电换能器―叉指换能器。
所谓叉指换能器,就是在压电基片表面上形成形状像两只手的手指交叉状的金属图案,它的作用是实现声一电换能。
声表面波器件的工作原理是,基片左端的换能器(输入换能器)通过逆压电效应将愉入的电信号转变成声信号,此声信号沿基片表面传播,最终由基片右边的换能器(输出换能器)将声信号转变成电信号输出。
整个声表面波器件的功能是通过对在压电基片上传播的声信号进行各种处理,并利用声一电换能器的待性来完成的。
声表面波技术有如下的特点:第一,声表面波具有极低的传播速度和极短的波长,它们各自比相应的电磁波的传播速度的波长小十万倍。
声表面波传感技术
了能在压电材料表面激励声表面波的金属叉指换能
器(IDT),大大加速了声表面波技术的发展,相继
出现了许多各具特色的声表面波器件,使这门年轻
的学科逐步发展成为一门新兴的、声学和电子学相 结合的边缘学科。
2
• 压电效应:某些电介质在沿一定方向上受到外力的作用而变形时,其 内部会产生极化现象,同时在它的两个相对表面上出现正负相反的电 荷。当外力去掉后,它又会恢复到不带电的状态,这种现象称为正压 电效应。当作用力的方向改变时,电荷的极性也随之改变。相反,当 在电介质的极化方向上施加电场,这些电介质也会发生变形,电场去 掉后,电介质的变形随之消失,这种现象称为逆压电效应,或称为电 致伸缩现象。依据电介质压电效应研制的一类传感器称为为压电传感 器。 • 压电效应分类 压电效应可分为正压电效应和逆压电效应。 • 正压电效应是指:当晶体受到某固定方向外力的作用时,内部就产生电 极化现象,同时在某两个表面上产生符号相反的电荷;当外力撤去后, 晶体又恢复到不带电的状;当外力作用方向改变时,电荷的极性也随 之改变;晶体受力所产生的电荷量与外力的大小成正比。压电式传感 器大多是利用正压电效应制成的。 • 逆压电效应是指对晶体施加交变电场引起晶体机械变形的现象。用逆 压电效应制造的变送器可用于电声和超声工程。压电敏感元件的受力 变形有厚度变形型、长度变形型、体积变形型、厚度切变型、平面切 变型5种基本形式。压电晶体是各向异性的,并非所有晶体都能在这5 种状态下产生压电效应。例如石英晶体就没有体积变形压电效应,但 具有良好的厚度变形和长度变形压电效应。 3
程。
• (4)由于声表面波器件是在单晶材料上用半导体平面工
艺制作的,所以它具有很好的一致性和重复性,易于大量 生产,而且当使用某些单晶材料或复合材料时,声表面波 器件具有极高的温度稳定性。
干法工艺原理
到清洁目的。在清洗中要适当调整氩离子能量,以免晶面受损。
关于紫外线/氧 干法清洗:实质是等离子体清洗,只是等离子体产生方法不
同。通氧气到低真空反应室,利用紫外线能量激发使氧分子分解成具有强氧化能
力的游离态氧原子及臭氧,将有机物氧化成挥发性化合物,抽气排除。 另外也
可通入 HF 蒸汽,清除晶片表面的自然氧化物或通入 C3H7OH、N2 及 Cl2,去除金属 杂质。
2,干法工艺:
1)干法清洗(等离子体清洗): 等离子体是部分电离的气体,由电子、离子、自由基(以氧为例,指游离态 氧原子)及其它中性粒子组成,是物质的第四态。等离子体清洗机理主要是依靠 等离子体中的活性粒子(电子、离子和自由基)的活化作用达到去除表面污渍的 目的。其反应过程包括:无机气体被激发为等离子态;气相物质被吸附在固体表
腐蚀作用各向异性;缺点是,使表面在分子级范围内变的粗糙,对被清洗表面的
各种不同物质选择性差,热效应大,腐蚀速度低。化学反应机制是,各种活性的
粒子和污染物反应生成易挥发性物质,然后由真空泵吸走;其优点是,清洗速度
高,选择性好,对清除有机污染比较有效,缺点是会在表面产生氧化物。物理化
学反应机制是,两种反应都起重要作用,并互相促进;离子轰击使被清洗表面产
声表面波的应用
声表面波传感器的应用一.声表面波简介声表面波(SAW)技术是声学和电子学相结合而形成的一门新兴边缘学科。
在该技术的基础上,现已经成功地研制出声表面波带通滤波器、振荡器、表面波卷积器和传感器等声表面波器件。
由于声表面波器件具有体积小、可靠性高、一致性好以及设计灵活等优点,所以在雷达、通信等领域的研究得到了广泛的应用。
把声表面波技术应用于传感器技术领域在近十年来得到了很大的发展。
目前, 采用技术来研制力、加速度、温度、湿度、气体及电压等一系列新型传感器的工作逐渐成为传感器研究的一个热点。
二.声表面波传感器工作原理SAW传感器构成的识别系统由一个SAW传感器标签、一个带主动式天线的阅读器和一个信号后处理单元组成。
SAW 标签由传感器天线、压电模式、指换能器和经传感器体外编码的反射区组成。
传感器天线接收由远处阅读器发送来的访问电磁脉冲信号,通过叉指换能器转化为声表面波,遇到反射条后形成回波,回波通过叉指换能器重新转化为电磁波并再次通过天线发射出去。
这些回波信号形成了由晶体表面的反射条的数目和位置决定的脉冲序列,它类似于条形码图案,每个脉冲的时间延迟取决于SAW 传播速度。
信号后处理单元对脉冲延迟变进行估计,实时解调出识别码。
天线接收到询问信号后,由IDT将电信号转换为声波信号,声波信号撞击反射区。
反射区位置不同,个数不同,会产生不同的振幅和不同的相位变化。
三.声表面波传感器的应用(1) LiNb03的声表面波应用声表面波器件(SAW)的基本原理是在压电基体上通过光刻的方法制出由相互交叉的电极(一般为铝电极)组成的叉指电极(叉指换能器),利用基片的压电效应激发起沿着表面层传播的高频超声波,从而实现滤波、延时、脉冲压缩与扩展、卷积等多种电子学功能。
叉指换能器的基本构造如图,换能器的中心频率f0由声表面波的相速vs和电极的周期λ0确定:fo=vs/λ0,即声表面波器件的中心频率和声波的传播速率成正比,与电极的周期成反比,所以提高器件的中心频率主要在于如何提高声表面波的传播速率和缩短电极周期,又因为光刻技术的限制不可能无限制地缩短电极周期,因此当前制作高频声表面波器件的关键在于选择合适的基体材料和不断提高改进基体的晶体质量和提高压电性能,同时降低传输损耗。
声表面波器件工艺原理-7粘片工艺原理
七,声表器件粘片工艺原理;(一)粘结机理:粘片的实现是粘合剂分子和芯片表面分子及底座(或支架)表面分子、以及粘合剂内部分子间相互作用的结果。
粘片的强度取决于粘合剂本身的内聚力(抗拉断能力)和粘合剂与被粘物之间的粘附力。
粘附力存在于两种材料接触面之间,通过范德华力实现吸引或吸附,同一种(不同)粘合剂与不同(同一种)材料之间的粘附力不同。
当我们把芯片加压放置于涂敷在底座(或支架)的胶面上时,粘合剂会润湿芯片和底座表面,并渗入芯片和底座表面空隙;胶分子和芯片及底座分子通过接触产生分子引力,使芯片和底座粘合在一起。
粘附力一方面取决于表面分子间引力,同时也取决于润湿的渗透度;粘合剂必须渗入表面粗糙处并完全润湿表面,才能得到最完全的分子间交换;在粘合剂的表面张力已经确定的条件下,润湿取决于被粘结物的表面能及粘合剂的黏度;只有当粘合剂的表面能小于被粘物的表面能时,粘合剂才能较好的润湿固体表面;如果存在污染物,湿润程度将降低,会影响粘附力。
当我们进行光(热)固化时,线状结构的粘合剂分子会反应聚合为立体网状大分子,粘合剂的形态也由黏液状变为固态,极大的增强了粘合剂本身的机械强度(即内聚力)。
同时粘合剂与被粘物之间的结合也由线状小分子与被粘物分子间的结合转变为网状大分子与被粘物分子间的结合,使粘附力极大增强。
(二) 粘片质量要求:粘片是把划片后的芯片用粘合剂粘附在管座(金属、陶瓷管座或塑封支架)上,通过热固化(或光固化)使芯片和管座牢牢粘合在一起。
对声表器件不仅要求粘片位置准确、粘结牢固、不裂片、不掉片、不粘污晶片表面和支架压点。
同时还要求粘片胶有良好的高温性能,固化后其形变不影响压焊效果,及粘片胶要有良好的吸声效果。
(三) 对与粘片有关材料的介绍:1,粘合剂(适用于粘片和封装):对电子元器件装配用粘合剂的要求是:在机械性能方面要有较好的抗拉、抗剪、抗压、抗弯强度及适宜的硬度;在物理性能方面,要有良好的耐热、耐湿、耐溶剂、耐高低温冲击等性能,并且要有合适的热膨胀系数,高的绝缘性;此外,还必须在高温和低气压下,没有挥发物出现;对声表器件而言,粘合剂还要有良好的吸声效果等。
声表面波器件的用途、生产制作和工艺介绍
常用表面波切型
简称
主面及传播方向
128 °Y-X 128 ° 旋转Y切X向传播
LN
铌酸锂
64 °Y-X LN
Y-Z LN
64° 旋转Y切X向传播 铌酸锂
Y切Z向传播 铌酸锂
碳化硅 100 120 180 240# W28 W1 1000# 2000 W3.
规格号 # # #
4
#
5
粒度尺 160 125 80 63
28- 14- 15.5
8.5
3.5-
寸范围
20 10
2.5
晶片粗 >7 ≥5 ≥3 1-3 糙度
0.5 0.5-0.7 0.150.3
金胜
3--
1.5— 0.8- 0.5 水晶:
5
2.2 1.5 - 0.5-1.0
1.0 其他
0.8-1.5
DQ备 晶片背面粗糙度数值为LN晶片实测典型值。晶片材料不同其
注
加工粗糙度值略有差别。
四.声表面波器件制作工艺流程
1.前工序
镀金属膜
涂胶
曝光
显影
腐蚀
基
片
探针测试
清
洗
涂胶
曝光
显影
镀金属膜
剥离
镀保护膜
后工序
Hale Waihona Puke 湿法工艺①.镀膜铝 晶片
②.涂光刻胶
光刻胶 铝
晶片
③.曝光
光刻胶 铝
UV 光
晶片
④.显影
光刻 胶
铝
晶片
⑤.刻蚀
声表面波器件工艺原理-3光刻工艺原理
三,声表器件光刻工艺原理:目录:(一)光刻胶:1,正性光刻胶2,负性光刻胶3,光刻胶的性质(二)光刻工艺原理(湿法):1,匀胶:1)匀胶方法2)粘附性3)光刻胶的厚度4)膜厚均匀性5)对胶面要求6)注意事项2,前烘:1)前烘目的2)对前烘温度和时间的选择3)前烘方法3,暴光:1)暴光目的2)暴光技术简介3)暴光条件选择4)暴光不良原因4,显影:1)显影目的2)显影方法3)影响显影质量的因素4)常见问题5)其它5,坚膜:1)坚膜目的2)坚膜方法3)问题讨论6,腐蚀:1)腐蚀目的2)腐蚀因子3)腐蚀方法4)影响因素5)注意事项7,去胶:1)去胶目的2)去胶方法3)注意事项8,问题分析:1)光刻分辨率2)控制光刻线宽的方法3)浮胶4)毛刺及钻蚀5)小岛6)针孔9,小结(光刻各工序需控制的工艺参数)(三)光刻工艺原理(干法)简介:1,干法腐蚀原理:1)等离子体腐蚀2)离子腐蚀3)反应离子腐蚀2,干法工艺:1)干法显影2)铝的干法刻蚀3)干法去胶(四)金属剥离工艺简介:1)剥离工艺特点2)剥离技术3)有关问题(五)微细光刻技术简介:1)抗蚀剂2)暴光技术3)刻蚀技术4)问题及原因序:光刻是SAW器件制造的关键工艺,是一种复印图象同化学腐蚀相结合的综合技术。
它先采用照相复印的方法,将光刻版上的图形精确的复印在涂有感光胶的金属膜层上,然后利用光刻胶的保护作用,对金属层进行选择性化学腐蚀,从而在金属层上得到与光刻版相应的图形,并要求图形线条陡直、无钻蚀、无断条和连指等。
影响光刻质量的因素很多,除暴光技术外,还有掩膜版、金属膜、光刻胶等的质量以及操作技术和环境条件等。
实践表明,光刻质量对器件性能有很大影响,是生产中影响成品率的关键因素。
(一) 光刻胶:按光化学反应的不同,光刻胶大体可分为正性光刻胶和负性光刻胶两类。
1,正性光刻胶:它的特点是原来的胶膜不能被某些溶剂溶解,当受适当波长光照射后发生光分解反应,切断树脂聚合体主链和从链之间的联系,使其变为可溶性物质。
声表面波器件工艺原理-10封装工艺原理
1)热平衡分析: 焊接时点焊产生的热量应满足如下热平衡方程: 0.24I2 R t = Q1 + Q2 式中:I(A):焊接电流, R(Ω):焊接区总电阻, t(s):焊接电流脉冲时间。
Q1:电极间被焊体加热到焊接温度时所需热量, Q2:焊件与电极中的热量损失。 点焊机的次级电路与焊接工件是串联的,其串联电阻总和影响焊接电流 的大小。为便于说明,我们把焊接时的电阻分为如下部分: a)电极材料电阻 a:该部分材料是铜或其合金,所以 a 消耗热量很小。 b)上下电极与管帽和管座的接触电阻 b1、b2:它取决于接触面表面状 况及压力大小。b1、b2 为高发热区,但由于电极导热良好且有水冷却,因 此焊件不会被熔化。 c)焊件本身的电阻 c1、c2:即管帽、管座两突缘电阻。它正比于它们 的电阻率和厚度,反比于电流通路的横截面积。 d)焊接界面的接触电阻 d:d 是最高的热产生区,由于 b1、b2 也产生 热量,所以 d 处的热量不会迅速向电极传输,温升速度也就会比 b1、b2 大的多,因此在管 帽和管座的无数接触点上首先达到焊接温度,使界面金属熔化并迅 速产生熔核。 2)工艺参数: 决定质量的工艺参数有焊接电流、电流脉冲时间及电极压力、 电极速度等。 a)焊接电流:由热平衡可知,电流值是一个最重要的工艺参 数。它的确定与压力、通电时间及焊接质量有关。在一定条件下存 在一个最低极限电流值,低于该值即使延长通电时间也不能实现焊 接。在一定范围,焊接强度随电流增大而增强,但电流过大会引起 飞溅、空洞、裂纹及使机械强度降低,也会使焊件因过热造成过深 的压痕和使电极磨损严重。 b) 焊接时间:焊接时间和电流相关联,会对热的产生和损耗 产生影响,并与总热量成正比。热量主要损耗于焊点周围的金属和 电极上,热损耗随时间增长而增大,少量由辐射损耗掉。焊接时,
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六,声表器件划片工艺原理:(一)目的、要求、方式:1,目的:把前工序加工的晶片用划片机切割成单个管芯,再用分片机或手工将芯片分开。
2,要求:芯片边沿整齐,无多角、崩边、裂纹;表面无划伤、无残留晶渣及赃物污染。
3,方式:主要有:机械切割和激光切割。
机械切割又分砂轮切割和金刚刀划片两种。
对三种划片方式各项指标比较:各项指标金刚刀划片砂轮划片激光划片划线深度< 10µm 2-500µm 50-170µm划线宽度10-30µm 20-60µm 2-30µm划线速度20-60mm/s 1-300mm/s 200mm/s划线方向单向双向双向划片定向需定向无要求需定向(二) 简介各种划片方式:1,砂轮划片:砂轮划片效率高、质量好(合格率>97%),便于和自动贴片机配合。
砂轮划片机的精度一般很高,转动轴在160mm行程范围内误差<5µm,刀高控制精度达到0.1µm,90°旋转误差<15″。
目前主要的划片机制造商有日本DISCO,东京精密及英国流星公司。
1)基本原理:它是采用很薄的、刃口敷有金刚石颗粒的砂轮刀片,通过高速旋转(20000-30000r/min),将晶片切削出一道道深槽或切透,再经分片把晶片分离成单个芯片。
2)方法:a)将砂轮刀片由法兰盘紧固在高速电机主轴,主轴采用空气轴承以减小摩擦和噪音,并增加其稳定性。
砂轮在Y方向移动,以调节划片间距;承片台则以划片速度沿X方向运动。
b)修整砂轮刀片:初次安装刀片时,由于其本身存在毛刺和公差、及刀片与法兰盘装配出现的误差等,必须对装机后的刀片进行修整。
修整使用专用的薄油石板,修整前要测量油石板厚度,开机后设定零高度;刀片的切割深度为其厚度的10倍再加10µm。
砂轮刀片的修整直接关系到划片质量,如刀缝宽度、芯片边沿缺口程度及刀片使用寿命等。
c)放晶片于承片台,用真空泵吸紧固定。
设定零高度,根据经验,输入各项数据(承片台X向行程、切割速度、切割深度、划片间距、砂轮转速等),即可划片;并同时通高压纯水冷却、润滑和清除碎屑。
* 先粘膜后划片:当划片后需将晶片送分片机分片时,划片前应先将晶片贴在带有金属环的胶膜上,然后放晶片于承片台。
此时划片应将晶片划透,对粘着的胶膜切割深度应为膜厚的1/4-1/3。
* 不粘膜:当划片后采用手工分片时,则划片前无须贴着胶膜,此时划片深度应为晶片厚度的1/3-1/2,划痕太深,不宜下工序操作;太浅,不易分片或分片时造成芯片边沿不齐。
* 先划片后粘膜:当划片时不方便粘膜时,可先划片后粘膜:划片时不划透圆片,然后贴膜,加热使膜软化并赶出片与膜中间的空气,用胶辊或有机玻璃棒滚压圆片背面,使芯片相互分离,再把它们放在分片机上,将胶膜向四周均匀拉伸,芯片随之分开。
3)其它相关问题:a)切割模式:有单向和双向切割,单向切割芯片边沿整齐;双向切割即砂轮回程也切割,故效率高。
切割深度:与砂轮厚度有关,一般控制在标称刀厚的10倍以内。
切割速度:提高划片速度,要求具有高转速、高刚度、大功率和抗振性好、精度高的工艺系统,同时要求砂轮强度高、紧固好,系统冷却好。
b)对划切道宽度及边沿崩边大小的主要影响因素是:主轴转速、划切速度、划切深度、刀片冷却量及冷却方式。
主轴转速高,划切速度慢,划切道宽度大,崩边小;划切速度快,划切道宽度小,崩边大;划切深度小,冷却水流量适中,则划切宽度小、崩边小。
此外,刀架端面精度直接影响划片质量。
c)砂轮刀片:砂轮特性包括:磨料、粒度、结合剂、硬度、组织和强度等。
砂轮材质为合金,根据特性、直径、厚度、孔径等,有各种不同规格及适应范围,对划片的影响也是多方面的(如加工精度、表面粗糙度、崩片、生产效率等)。
微电子用砂轮刀片,刀刃上镶嵌的金刚石颗粒直径常为0.1-8µm。
标号不同,直径范围不同。
一般情况,金刚石粒径越小,切割质量越好;粒径越大,使用寿命越长。
我们可根据晶片性质及加工要求,选择适用的砂轮。
由于砂轮结合剂的影响,砂轮存放期不能太长,通常陶瓷结合剂的砂轮存放期为两年,树脂结合剂的砂轮存放期为一年。
d)崩片:是划片常见现象,表现在晶片正面是边沿毛刺,表现在晶片反面为背崩现象,若背崩延伸到晶片正面即发生裂片。
主要原因是刀片的自锐性与晶片材料及划片工艺不相适宜,使被磨损的金刚砂颗粒不能及时更新,刃口变钝,切割温度过高所致。
可结合晶片的厚度、硬度及切割要求,选用具有适当强度的结合剂(如陶瓷)、金刚砂密度、较细金刚砂粒度的砂轮,并加强水冷,予以解决。
e)由于切割时高压水冲击、静电及切割晶渣都会对芯片造成损伤,所以人们采用许多措施来减少这种伤害,如:在晶片表面构建临时保护层(之后用化学方法去除);改造水流喷嘴为雾化喷嘴,既减少水流冲击损伤,又提高清洗效果;在纯水中添加二氧化碳,减少静电伤害;增加即时磨刀程序,定期修整刀片等。
2,金刚刀划片:该法简单易行,但划片合格率低(90%左右),自动化程度不高。
1)原理与方法:压电晶体是脆性材料,当用高硬度的金刚石刀将晶片划出一道道刀痕,并在刀痕处施加外力时,晶片将沿刀痕裂开成条;由于晶体在不同方向上因密度不同而强度各异,并易沿弱的方向裂开,当我们再在条状晶片确定部位分别施力时,晶片即可分裂为一个个芯片。
划片前,将晶片放置载片台,用真空泵吸牢,调好金刚刀架刀角度,设定划片范围、划片速度、划片压力、晶片尺寸等参数,确定好划线位置,即可划片。
划片时,载片台沿X向移动,以确定划线间距;金刚刀则以划片速度沿Y向运动。
2)与划片质量有关的因素:a)刀痕:金刚刀不能将晶片切透,只能靠施加一定压力用刀在其表面划出刀痕(刀痕既细又好裂为最佳)。
刀痕深度为5-10µm,与分片质量有关(划线太浅,即使压力够大,也不易分片),截面为三角形,宽度为20-30µm,主要与晶片材质、刀点形状及架刀角度等有关。
我们可根据刀痕的深浅、宽窄及崩边情况及时调整压力、角度和更换刀具。
b)划片刀的安装:刃口与划片方向平行,使用不同类型的金刚刀应使用不同的架刀角度,角度的设定直接影响划线质量及金刚刀寿命;一般情况,四点刀角度为45°-50°,三点刀角度为68°-71°;角度太小,划线浅;角度太大,芯片损伤重。
我们现用的是单刃刀正面为尖刃,侧面为圆弧,刀点磨损后可通过调整刀口与晶片夹角改善划片质量。
c)压力:力负荷一般为10-100g,与晶片材质、厚度及切深量有关;材质越硬、晶片越厚、切深量越大,所需压力越大。
压力太小,划痕浅,不易分片,芯片易产生缺角多角;压力太大,芯片边沿损伤重、易破碎。
另外划片时还要根据刀痕情况逐渐增加压力;但从划痕质量和刀的寿命考虑,易采用轻负荷。
d)划线速度:划线速度也关系到划线质量及金刚刀寿命,速度太快易碎片,太慢,效率低。
一般划线速度范围为10-60mm/s,可根据晶片材质及刀口状况等具体情况设定。
e)晶片质量对划片的影响:* 不同的晶片都有与其相适应的划片压力,对同晶、同厚的晶片施加不同压力,即使相同的划片深度,分片合格率也不同。
* 晶体内部缺陷严重和均匀性差的晶片,其表面的硬度、脆性和应力的分布都不相同,即使在等厚的情况下,划片的深度和压力也很难掌握;一般情况,适当加大压力、深度,可避免分片时偏离划痕裂开。
* 片内厚度不均,会影响分片合格率。
f)划片所产生晶渣对芯片表面的损伤:当划片时,因刀口没对准、刀口磨损、压力不当等,会造成表面划痕崩边,产生晶渣;同时会造成划痕背面惊伤,在分片时产生晶渣。
它们都会对芯片表面产生伤害。
3,激光划片:激光划片是随激光技术的发展而出现的一种新技术。
与砂轮划片、金刚刀划片相比,它效率高、合格率高(99%)、自动化程度高、晶片利用率高,所划出的芯片机械强度高,无崩边、无微裂、断面整洁。
激光划片机理:是用一定能量密度和波长的激光束聚焦在晶片表面,瞬间在近表面区域积累大量热量,使材料近表面物质温度迅速升高至沸点并蒸发,从而实现切割目的。
激光划片机大都采用二极管泵浦固态激光器,目前国外采用的激光器典型功率为5W,波长355nm,脉冲能量典型值1.1mj,频率50KHz。
激光划片机的机械传动机构与金刚刀划片机构相似,不同点是将金刚刀换成激光器。
其工艺过程也与金刚刀划片类似,即先用激光在晶片表面灼烧出划痕,然后将晶片沿划痕裂开。
激光划痕深度一般为15-20µm,它取决于激光功率大小及划线速度;宽度为5µm左右,与激光束聚焦程度有关。
关于激光划片原理还有如下解释:目前虽有许多不同功能的激光切割机,实际上能应用到半导体划片的只有不可见激光切割技术。
它是运用多光子吸收的光学损伤现象——当聚焦在材料内部的激光强度迅速增强,材料即被加工,从而在材料内部形成一个改质层,使材料由结构紧凑、结合紧密的不易分断的整体改变成结构松散、易于分断的脆弱整体。
然后利用贴片膜扩张时的张力使每个芯片分开。
这种激光划片只在片子内部形成改质层,在表面和内部都无熔融材料,用眼睛几乎看不到刀痕(可用红外显微镜观察),既无热损伤,又无表面污染;且可实现很高的划片速度,片子越薄,效率越高。
编者:杜文玺duwenxiabc@。