阻抑-褪色光度法测定痕量硅

阻抑-褪色光度法测定痕量硅
刘佳铭
【期刊名称】《分析化学》
【年(卷),期】2001(029)003
【摘要】基于NH3-NH4Cl缓冲溶液介质中，Si(Ⅳ)对H2O2氧化十六烷基三甲
基溴化铵-姜黄素离子缔合物的褪色反应的抑制作用，提出了测定痕量硅新的高灵
敏的褪色光度法。

该方法的表观摩尔吸光系数ε500=5.70×105L*mol－1*cm－1；线性范围为0.4～3．6 μg/L；线性回归方程ΔA=2.23×10－
4+0.02017CSi(Ⅳ)(μg/L)；相关系数r=0.9999；测定下限为2.0×10－8 g/L。

本法用于人发样和水样中痕量硅的测定，结果满意%A new spectrophotometric method for the determination of trace amount of silicon was developed. It is based on the fact that Si(Ⅳ) inhibits discoloration of t he ion-association complex of cetyltrimethylammonium-curcumin by H2O2 in the NH3-
NH4Cl buffer medium. The apparent molar absorption coefficient
ε500=5.70×105 L*mol－1*cm－1. The Beer′s law is obeyed in the range of 0.4～3.6 μg/L with a linear regression equat ion ΔA=2.23×10－4＋
0.02017CSi(μg/L),r=0.9999. The determination limit is 2.0×10－8 g/L. The method has been used for the determination of silicon in water and hair samples with satisfactory results.
【总页数】3页(P293-295)
【作者】刘佳铭
【作者单位】漳州师范学院化学系,
【正文语种】中文
【中图分类】O65
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