退火温度对铝钕薄膜性能的影响

图 1 不同退火温度 Al-Nd 合金薄膜的 SEM 照片
金薄膜经高真空 230 ℃退火 1 h 退火，发现颗粒半径
变细小，且更致密，无小丘。

当退火温度提高到 300
℃时，Al-Nd 合金薄膜表面颗粒变大，出现小丘。

同
时，溅射功率为 350 W 的小丘数量明显多于150 W。

2.2 不同 Nd 浓度的 Al-Nd 薄膜的表面形貌对比
对比不同 Nd 浓度的 Al-Nd 靶材，采用相同的工
艺条件制备 Al-Nd 薄膜。

两种薄膜均在 300 ℃高真空
中退火 1 h，其退火后的 SEM 形貌如图 2 所示。

图 2 不同 Nd 掺杂比的 Al-Nd 合金薄膜 SEM 照片
2.3 退火前后 AFM 分析
由图 3 可看出，随着退火温度的增加，Al-Nd
膜的晶粒大小在增加，而晶粒半径在减小。

同时，采
用溅射功率高的薄膜的颗粒大小反而小。

对比溅射功
率为 150 W 和 350 W 的 Al-Nd 合金薄膜可发现：退火
图 3 不同退火温度 Al-Nd 合金薄膜的 AFM 照片
集成电路应用 第。