材料研究方法 第六章 低能电子衍射
低能电子衍射1
电 子 束
镍单晶
低能电子衍射
将能量为5~500eV范围的单色电子入 射于样品表面,通过电子与晶体相互作用,一 部分电子以相干散射 相干散射的形式反射 反射到真空中, 相干散射 反射 所形成的衍射束进入可移动的接收器进行 强度测量,或者再被加速至荧光屏,给出 可观察的衍射图像。
低能电子衍射-基本假设
入射电子在样品内只可能受到不多于一次 的散射; 入射电子波在样品内传播的过程中,强度 的衰减可以忽略,即衍射波强度始终远小 于入射波强度,否则衍射波会发生较为显 著的再次衍射。
低能电子衍射-模拟
观测屏
电子束( ~ 电子束(5~500eV) ) 倾斜度大约 1゜~2゜ ゜ ゜
低能电子衍射-适用举例
电子束通过铝箔时的衍射图样
பைடு நூலகம்
TiS2会聚束电子衍射带轴图样 会聚束电子衍射带轴图样
低能电子衍射-适用举例
NiAl多层模的组织形貌(a),大范围衍射花样 , 多层模的组织形貌( ),大范围衍射花样(b), ),大范围衍射花样 多层模的组织形貌 单个晶粒的选区衍射(c) 单个晶粒的选区衍射
低能电子衍射
——LEED(low energy electron diffraction)
电子衍射-历史
1927年,C.J.戴维孙和L.H.革末在观察镍 单晶表面对能量为100电子伏的电子束进行 散射时,发现了散射束强度随空间分布的不连 续性,即晶体对电子的衍射现象。
电子衍射-理论
当电子波(具有一定能量的电子)落到晶 体上时,被晶体中原子散射,各散射电子 波之间产生互相干涉现象。晶体中每个原 子均对电子进行散射,使电子改变其方向 和波长。
低能电子衍射Microsoft PowerPoint 演示文稿
低能电子衍射(LEED) 低能电子衍射
Low Energy Electron Diffraction
表面物理
LEED的动力学理论简介
为精确计算LEED谱的细节, 为精确计算LEED谱的细节,除需要从理论上计算晶体原子对 LEED谱的细节 低能电子的散射外,还要考虑多次散射, 低能电子的散射外,还要考虑多次散射,非弹性碰撞及温度 效应等问题.考虑多重散射的理论称为动力学理论. 效应等问题.考虑多重散射的理论称为动力学理论. 这些问题是很复杂的,必须做一些假定才能简化计算, 这些问题是很复杂的,必须做一些假定才能简化计算,并得 到和实际相近的结果.由于动力学的复杂性, 1980年前后 年前后, 到和实际相近的结果.由于动力学的复杂性,到1980年前后, 只有大约一百多种表面结构被确定. 只有大约一百多种表面结构被确定.
LEED的动力学理论简介
低能电子衍射图形提供的只是有关表面周期性的信息, 低能电子衍射图形提供的只是有关表面周期性的信息,即元 格的大小和形状,他不能给出有关原子的位置. 格的大小和形状,他不能给出有关原子的位置.表面层与衬 底之间的距离和有关元格中原子分布的信息. 底之间的距离和有关元格中原子分布的信息 . 例如在立方 001)面上形成C( C(2 结构时, (001) 面上形成 C(2×2) 结构时 , 表层原子相对衬底可以有四 种不同的位置, 种不同的位置,而表层与衬底顶层的间距则取决于表层原子 取何种位置. 取何种位置.
低能电子衍射
低能电子衍射(LEED),利用能量较低的电子束(20-500eV) ,利用能量较低的电子束 低能电子衍射 进行电子衍射的技术.是将能量为5~ 进行电子衍射的技术.是将能量为 ~500eV范围的单色电 范围的单色电 子入射于样品表面,通过电子与晶体相互作用 通过电子与晶体相互作用,一部分电子以 子入射于样品表面 通过电子与晶体相互作用 一部分电子以 相干散射的形式反射到真空中, 相干散射的形式反射到真空中,所形成的衍射束进入可移动 的接收器进行测量,或者被加速至荧光屏, 的接收器进行测量,或者被加速至荧光屏,给出可观察的衍 射图像. 射图像. LEED已成为表面原子结构实验研究的标准手段. 已成为表面原子结构实验研究的标准手段. 已成为表面原子结构实验研究的标准手段 LEED在表面研究中的功用:5个 在表面研究中的功用: 个 在表面研究中的功用 研究表面结构的LEED实验分两类:一类实验所的信息是电 实验分两类: 研究表面结构的 实验分两类 子弹性相干散射形成的衍射图样, 图样. 子弹性相干散射形成的衍射图样, LEED图样.另一类实验 图样 得到I-V曲线 称为低能电子衍射谱. 曲线, 得到 曲线,称为低能电子衍射谱.
《低能电子衍射LEE》课件
低能电子衍射实验仪器
介绍
介绍低能电子衍射实验所使用的 仪器和设备。
组成பைடு நூலகம்
了解低能电子衍射实验仪器的组 成和各部分的功能。
操作步骤
详细描述低能电子衍射实验的操 作步骤和常见注意事项。
低能电子衍射在材料研究中的应用
1
材料表征
探讨低能电子衍射在材料表征方面的应用,
制备过程控制
2
如结构分析和表面形貌研究。
《低能电子衍射LEE》PPT 课件
这是一份关于低能电子衍射(LEE)的PPT课件。通过介绍低能电子衍射的概念、 实验仪器、应用和未来发展,展示了这一技术在材料研究中的重要性。
什么是低能电子衍射
1 简介
介绍低能电子衍射的基本概念和原理。
2 相关概念
解释与低能电子衍射相关的术语和概念。
3 实验原理
详述低能电子衍射的实验原理和操作步骤。
分析低能电子衍射面临的挑战以及 带来的机遇,如仪器改进和数据处 理。
结束语
1 总结
总结低能电子衍射技术的重要性和应用领域。
2 展望
展望低能电子衍射技术在未来的发展和应用前景。
3 参考资料
列出用于准备此PPT的参考资料和推荐阅读。
阐述低能电子衍射在材料制备过程控制中的
作用,如晶体生长监测和薄膜制备优化。
3
应用例
提供一些低能电子衍射在材料研究中的典型 应用案例,如纳米材料研究和界面分析。
低能电子衍射的未来发展
简述
展望低能电子衍射技术的未来发展 和潜力。
发展趋势
挑战与机遇
探讨低能电子衍射领域的发展趋势, 如新材料研究和高分辨率成像。
材料分析测试技术第 6 章
五、偏离矢量与倒易点阵扩展
衍射晶面位向与精确布拉格条件的允许偏 差和样品晶体的形状和尺寸有关, 差和样品晶体的形状和尺寸有关,这可以 用倒易阵点的扩展来表示。 用倒易阵点的扩展来表示。由于实际的样 品晶体都有确定的形状和有限的尺寸, 品晶体都有确定的形状和有限的尺寸,因 而它们的倒易阵点不是一个几何意义上的 “点”,而是沿着晶体尺寸较小的方向发 生扩展, 生扩展,扩展量为该方向上实际尺寸的倒 数的2倍 数的 倍。
四、结构因子—倒易点阵的权重 结构因子 倒易点阵的权重
• 满足布拉格定理只是产生衍射的必要条件 满足布拉格定理只是产生衍射的必要条件, 但并不充分,只有同时满足 只有同时满足F≠0的(hkl)晶面 但并不充分 只有同时满足 的 晶面 组才能得到衍射束 倒易点阵*权重结构因子 衍射点阵 倒易点阵 权重结构因子=衍射点阵 权重结构因子
(3)未知晶体结构,相机常数已知 )未知晶体结构, • 测定低指数斑点的R值。 测定低指数斑点的 值 • 根据 值,计算出各个 值。 根据R值 计算出各个d值 • 查ASTM卡片和各 值都相符的物相即为待 卡片和各d值都相符的物相即为待 卡片和各 测晶体。 测晶体。 (4)标准花样对照法 ) 即将实际观察、 即将实际观察、记录到的衍射花样直接与 标准花样对比, 标准花样对比,写出斑点的指数并确定晶 带轴方向
• 1.倒易点阵中一个点代表正空间中一组晶面 • 2.倒格矢ghkl垂直于正点阵相应的(hkl)晶面 或平行与它的法向。 • 3.倒易矢量长度等于正点阵中相应晶面间距 的倒数ghkl=1/dhkl
标准电子衍射花样是标准零层倒易截面的比例图像, 标准电子衍射花样是标准零层倒易截面的比例图像, 倒易阵点的指数就是衍射斑点的指数。 倒易阵点的指数就是衍射斑点的指数。 相对于某一特定晶带轴的零层倒易截面内各倒易阵 点的指数受两个条件约束: 点的指数受两个条件约束: 1)各倒易阵点和晶带轴指数间必须满足晶带定理。 各倒易阵点和晶带轴指数间必须满足晶带定理。 2)只有不产生消光的晶面才能在零层倒易截面上 ) 出现。 出现。
低能电子衍射
低能电子衍射low energy electron diffraction低能电子衍射(LEED),是将能量为5~500eV范围的单色电子入射于样品表面,通过电子与晶体相互作用,一部分电子以相干散射的形式反射到真空中,所形成的衍射束进入可移动的接收器进行强度测量,或者再被加速至荧光屏,给出可观察的衍射图像,见图1[低能电子衍射仪简图]。
图中,第一栅接地,使衍射电子自由飞过样品和栅之间的空间;第二栅加几十伏负电压,可滤去非弹性散射电子。
荧光屏施加千伏高压,使电子有足够的能量激发荧光物质。
由于物质对电子的散射比对 X射线的散射强很多,使低能电子具有很高的表面灵敏度。
虽然在1927年C.J.戴维孙和L.H.革末发现了LEED,但因多重散射带来了技术上和理论上的复杂性,使低能衍射的实际应用推迟了40年。
直到70年代以后,在超高真空技术发展的基础上,才使此技术获得新生。
低能电子衍射图样给出晶体表面倒易空间的晶网像,或者说直接给出晶体倒易点阵的一个二维截面(见表面结构),它可以在一个二维模型基础上运用衍射的运动学理论加以解释(见衍射动力学理论)。
一个无限大的二维晶体,其倒易点阵是垂直于二维晶面的倒易棒所形成之阵列,如图2[二维周期性结构衍射束的厄瓦耳球结构]所示。
平行于此晶面的入射波矢 k与散射波矢(k)之差等于此晶面的二维倒易点阵矢量G,即有(k)-k=G时,满足衍射加强条件。
故于图2[二维周期性结构衍射束的厄瓦耳球结构]入射波矢 k 为半径作一球(称为厄瓦耳球),球与倒易棒的交点,即给出衍射束的波矢k。
在相应的正空间中,衍射加强条件就是布格公式sin =,sin =,式中、为二维平移矢量的长度。
从衍射图可以确定表面平移矢量a、b,研究各种类型的表面有序结构,给出相应的空间群(见表面结构)。
衍射强度分析是利用LEED确定表面单胞内原子位置的核心问题由于慢电子的动能与晶体中散射势相近,通常处理高能电子衍射的运动学理论或修正的运动学理论不能用于低能电子衍射。
6-4 电子衍射
6.4 电子衍射电子衍射可以用来分析研究各种固体薄膜和表面晶体结构。
在电子技术中,常需获取薄膜材料的晶体结构、晶粒尺寸、晶体取向、薄膜与基体间的相互关系等数据,电子衍射是有效的测定手段之一。
1924年法国理论物理学家德布罗意(Louis Victorprince de Broglie )把光的二象性推广到实物粒子,特别是电子,用λ= h /mv 表示物质波的波长,并指出可以用晶体对电子的衍射实验证明。
1927年美国物理学家戴维逊(C. T. Daivison )和革末(L. H. Gemer)以及英国物理学家汤姆逊(G. P. Thomson)分别在实验上发现电子衍射,证明了物质波的存在。
后来德国物理学家斯特恩发现原子、分子也具有波动性,进一步证明了德布罗意物质波假设的正确性。
1929年德布罗意因发现实物粒子的波动性而获得诺贝尔物理奖。
一、实验目的(1) 掌握电子衍射仪结构原理及产生电子衍射现象的机制。
(2) 观察真空状态下高速电子穿过晶体薄膜时的衍射现象,获取微观粒子二象性感性认识。
(3) 验证德布罗依公式,证明电子波的存在。
二、实验原理1、电子波按照德布罗依的假设,以速度v 匀速运动的微观粒子应具有波长λ和频率ν。
其波动性和粒子性的关系为E = h ν,p = mv = h /λ其中m 为粒子质量,根据狭义相对论,其与静止质量m 0的关系为()220/1cv m m -=,c 为真空中的光速。
于是2201cv v m h -=λ 。
(6.4.1)在实验中,电子是因电压V 而获得加速,按照相对论能量表达式,电子从电场获得的能量⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛--=1/112220c v c m eV 即2202001212⎪⎪⎭⎫⎝⎛++⋅=c m eV c m eVm eV v ,代入6.4.1式得22202c Ve eV m h +=λ。
(6.4.2)将e = 1.602×10-19 C ,h = 6.626×10-34 J •s ,m 0=9.107×10-31kg ,c =2.998×108 m/s ,代入(6.4.2),并取V 为加速电压的单位,则图6.4.1 电子衍射示意图()V V 610978.01226.1-⨯+=λ (nm)。
低能电子衍射谱
LEED 基本理论及应用
❖对于复杂的情况,吸 附面的原子排列可能 有多种形式,因为吸 附面衍射图只说明吸 附原子的单元网格的 形状和大小,并不能 给出具体的原子位置。
Cu(210)面吸氧前后的LEED图及 可能的原子排列
LEED 基本理论及应用
W(100)面吸氢前后的LEED图及可能的原子排列。由 此可以推出其表面结构为W(100)( 2 2 )-45o-H。
=-2(s s0)·d/λ
=-K·d K为散射矢量。
LEED 基本理论及应用
若第j个原子的散射波为:
j = Acos[t++j] = Re[Aexpi(t++j)]
则合成的散射波为:
M 1j A sis n in M /2 /2co s[ t (M 1 )/2 ] j 0 A 0 c o s [t ( M 1 )/2 ]
T = n1a+n2b
式中的a, b是二维网格的“基矢”
LEED 晶体表面结构和倒易结构
由于两维周期结构只 存在有限的点群(十个), 它们将限制可能出现 的原始平移的种类。 可以证明这种相互限 制的结果,使得只可 能有五种二维布喇菲 网格存在。
LEED 晶体表面结构和倒易结构
元格形状
五种二维格子
❖ 正是由于晶体原子对低能电子散射的截面很大,使得电子在 离开晶体前经受多次散射的几率很大,这种现象称为多重散 射。
❖ 由于多重散射的存在,使低能电子衍射结果的分析变得极为 复杂。至今,还不能唯一地根据低能电子衍射数据决定晶体 表面原子的排列,这方面的研究仍在继续进行之中。
LEED 低能电子衍射图样
由于表面原子的散射截面很大,起散射作用的主要是表面第 一层原子,作为近似,可按二维散射考虑。 对于一维原子链,则相邻原子间的光程差等于波长的整数倍 时,散射波发生衍射。对于垂直入射的电子,则衍射条件为:
第6章电子衍射原理与花样分析
第6章电⼦衍射原理与花样分析电⼦衍射基本公式(⼏何分析公式)的厄⽡尔德图解⼏何分基本公式由于电⼦衍射2θ很⼩,g 与R 近似平⾏,上近似有gr d 1*1==CgR =gC R v v =电⼦衍射基本公式的⽮量表达式式中:R ——透射斑到衍射斑的连接⽮量,可称衍射斑点⽮量相⽐,只是放⼤了C 倍(C 为相机常数).单晶电⼦衍射花样是所有与反射球相交的倒易点(构成的图形)的放⼤像.注意:放⼤像中去除了权重为零的那些倒易.倒易点的权重即指倒易点相应的(HKL )⾯衍射线之|F|2值.注意:电⼦衍射基本公式的导出运⽤了近似处理,应⽤此公式及其相关结论时具有⼀定的误差或近似性电⼦衍射花样的本质:衍射线形成以⼊射电⼦束为轴、不同,多晶电⼦衍射成像原理衍射圆锥与垂直于⼊射束的感光平⾯相交,其交线为⼀系列同⼼圆(称衍射圆即为多晶电⼦衍射花样.多晶电⼦衍射花样可视为倒易球⾯与反射球交线即参与衍射晶⾯倒易点的集合)的放⼤像.电⼦衍射基本公式及其各种改写形式也适⽤于多晶电⼦衍射分析,式中之R 即为衍射圆环之半径gC R v v =多晶电⼦衍射花样标定指多晶电⼦衍射花样指数化,即确定花样中各衍射圆环对应衍射晶⾯⼲涉指数(命名)各圆环.6.2.2 多晶电⼦衍射花样的标定——仅讨论⽴⽅晶系多晶电⼦衍射花样指数化222L KHa d ++=Rd=Cd=C /RR R 2=N N ——衍射晶⾯⼲涉指数平⽅和N=H 2+K 2+L 2对于同⼀物相、同⼀衍射花样各圆环⽽⾔,(C 2/a 2)为常数nN N :::2L 多晶电⼦衍射花样指数化原理及过程均与多晶多晶电⼦衍射指数化与多晶X 射线衍射指数化⽐较:单晶电⼦衍射成像原理单晶电⼦衍射厄⽡尔单晶电⼦衍射厄⽡尔德图解具有3个特点λ,由于电⼦波长λ很⼩,故反*平⾯上⼀定范围内的倒易阵(uvw)厚度很⼩,其倒易点阵中各阵点已不再是⼏何点,⽽是沿样品厚度⽅向扩展延伸为杆,从⽽增加了与反射球相交的机会.点阵平⾯上,以O*为中⼼的⼀定范围内各倒易与各交点的连接⽮量即为(衍射线与垂直于⼊射束的感光平⾯的交点即构成单晶电⼦衍射花样.单晶电⼦衍射花样就是(uvw)0*零层倒易平⾯(去除权重为零的倒易点后)的放⼤像(⼊射线平⾏于晶带轴[uvw ])结论:gR 1、单晶体衍射标定依据第⼀、应⽤衍射分析基本公式:CRd =第⼆、单晶衍射花样的周期性.的特征.单晶体衍射花样的周期性之斑点指数.本例A 点对应{110}晶组晶⾯指数,因⽽A 点指数有12种选法.任选(110).次短之斑点指数并⽤φ校核.晶⾯族,故B 点指数有6种选法,任(200)后,计算(200)⾯与A 点相应晶=900不符,故B 指数不能标为注:⽴⽅系晶⾯夹⾓公式为:/)21L L +)(21N N ?]220[]011[=×][=ωuv =将其化为互质整数⽐,得单晶表⾯原⼦排列规则可⽤⼆维点阵描述5种布拉菲点阵低能电⼦衍射厄⽡尔德图解如图:,为⼆维倒易点阵原点,反射球半*O成像原理与衍射花样特征若倒易杆与反射球相交,则该倒易杆(点)相应之(HK)晶列满点与交点之连接⽮量即为该晶列之衍射.低能电⼦衍射花样是样品表⾯⼆维倒易点阵的投影像.荧光屏上与倒易原点对应的衍射斑点(00)处于⼊射线的镜⾯反)低能电⼦衍射的厄⽡尔德图解、电⼦束正⼊射⼊射线与样品表⾯法线夹⾓,则(00)点平移距离d 0[(00)点与荧光由图可证明,电⼦束斜⼊射0sin θ低能电⼦衍射的厄⽡尔德图解低能电⼦衍射分析与应⽤利⽤低能电⼦衍射花样分析确定晶体表⾯及吸附层⼆维点阵单元⽹格的形状与⼤⼩;利⽤低能电⼦衍射谱及有关衍射强度理论分析确定表⾯原单元⽹格内原⼦位置、吸附原⼦相对于基底[原⼦及沿表⾯深度⽅向(两三个原⼦层)原⼦三维排列情层间距、层间原⼦相对位置、吸附是否导致表⾯重构依据低能电⼦衍射⽅法提供的多种信息,分析与研究晶体、低能电⼦衍射分析与研究晶体表⾯结构的应⽤利⽤衍射斑点的形状特征及相关的运动学理论等分析确定表点缺陷、台阶表⾯、镶嵌结构、应变结构、规则)等.低能电⼦衍射不仅应⽤于半导体、⾦属及合⾦等材料表⾯结偏析和重构相的分析.也应⽤于⽓体吸附、脱附及化学反应、外延⽣长、沉积、催低能电⼦衍射也可应⽤于表⾯动⼒学过程,如⽣长动⼒学和(a)及(b)分别为⼲净W 表⾯[(100)⾯]及吸附O 原⼦后W 表⾯的衍射花样.。
低能电子衍射
低能电子衍射摘要:低能电子衍射技术(LEED)是研究物质表面原子结构的主要手段之一。
本文综合数篇文献,主要介绍了低能电子衍射技术的原理和应用。
关键词:低能电子衍射;表面结构1.前言自从Davisson和Germer发现低能电子衍射(LEED)现象以来[1],LEED已经历了好几个发展阶段。
早在七十年代初期,LEED已发展成为可以确定简单金属表面原子结构的有力工具,而且在当时亦是唯一的手段。
随着表面科学的迅速成长和壮大,目前已有不下十种方法可用以确定表面的原子结构。
但LEED仍然是当今确定表面原子结构的主要手段之一。
事实上,在已确定数百种表面的原子结构中,用LEED方法确定的占绝大部分[2]。
LEED确定的表面原子结构的可信性大、精度高(可达0.01A)。
LEED不仅可准确地确定表面最外一个原子层中的原子位置,而且还可确定其底下的几个原子层中的原子位置。
近十年来,LEED取得了很大的进展,成为更有效的分析表面结构之手段。
近年来,LEED沿着两条平行的路线发展,一些人继续研究清洁和吸附表面的有序结构,它们随温度和覆盖度的变化,报告二维晶胞的信息和形成条件.另一部分工作是仔细地从这些有序表面结构测量衍射束强度与电子能量、角度和温度的关系,决定表面原子的位置、它们的距离和近邻之间的夹角.迄今已报道了1000多种有序表面结构和100多种表面结构的定量分析结果。
LEED在一友面研究中大致起着三方面的功能:①认证表面的有序程序及表面的周期性和对称性;②确定单胞内原子的位置;③测定表面的缺陷及缺陷随温度、时间和吸附量的变化。
第一个功能是人们熟悉的。
第二个功能常被认为是LEED的主要功能而被强调,所以亦相当熟悉。
但由于庞大而耗时的计算程序,繁冗而低效率的尝试一误差探索过程,令人生畏止步。
幸而,近十年来的迅速发展,正在深刻地改变这一状况。
第三个功能则往往被遗忘,但它是近年得到快速发展的一个肥沃领域。
LEED已成为表面实验室最“常规”的装备之一,因此,如何从LEED提取有用信息,一直为广大表面科学家所关注。
低能电子衍射
cosθ
2d sin θ = nλ
倒易晶格 reciprocal lattice
吸附层
真实基矢 倒易基矢
av1 ~ av2
av1* ~ av2*
真实基矢 倒易基矢
vv
b1 ~ b2
bv1*
~
v b2
*
av1* ⋅ av1 = av2* ⋅ av2 = 1 av1* ⋅ av2 = av2* ⋅ av1 = 0
Ewald Sphere 厄华德球
LEED图案的性质
A' B' = r sin θ = r a * = rλa * 1λ
荧光屏的LEED图案是二维倒易晶格的透影
E1 > E2 > E3
入射电子能量的影响 (00)点位置不变
LEED Patterns from Cu(110)
(4x2) c(4x2)
a2* is parallel to a2
⇒ The angle, A, between a1 a1* is 0 The angle, A , between a2 a2* is 0
⇒ | a1*| = 1 / | a1 |
| a2*| = 1 / | a2 |
⇒ If | a1 | = 1 unit, | a1*| = 1 unit
⇒ | b1 | = 2| a1 | = 2units; | b1*| = ½ unit | b2 | = 2| a2 | = 2units; | b2*| = ½unit
1. | b1 | = | b2 | = √2 units; | b1*| = | b2*| = 1/ √2 units 2. rotated by 45°
低能电子衍射(LEED) Low Energy Electron Diffraction
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一、 发展历史 二、 方法原理 三、 仪器描述 四、 应用示例
一、发展历史
➢ 早在1921年,C. J. Davisson 和C.H.Kunsman 研究电子束在镍单晶表面的 散射现象时,就发现电子的散射不是各向同性的,但当时他们并未意识到 这是电子的衍射。 ➢ 1924年,德布罗意(de Broglie)提出粒子波动说的假设,预言了电子也 有波动性。
,
K
2 S
K
K0
2 (S
S0 )
第六章 低能电子衍射
Low Energy Electron Diffraction( LEED)
什么是低能电子衍射?
低能电子衍射(LEED)的原理与X-射线衍射相似,不同的是X射线 穿入固体的深度较深,一般在微米量级,因此所求的结构是穿入深度内 的平均值,属于体内结构。电子也具有波动性,低能电子(10-500eV)的 波长和晶格常数接近,当它与晶体相互作用时也发生衍射,但是相互作 用很强,散射自由程只有2-5个原子层,因此从LEED得到的信息是晶体 的表面结构,是研究单晶表面层原子排列的一种有效方法。
h / p h / mv
1 mv2 eV 2
150.4 o A
V
➢ 1925年 C. J. Davisson 和L. H. Germer证实了电子的衍射现象。
Davisson的电子衍射实验装置原理图
Davisson 和Germer
Davisson所用的电子衍射管
➢ 三十年代,Farnsworth等人继续做这方面的研究,并且明确低能电子由 于能量低,穿透深度浅,适合研究表面效应。 ➢ 五十年代,人们认识到获得清洁表面对观察低能电子衍射图象的重要 性,用LEED研究了Ti, Ge, Si, Ni, SiC等的表面原子排列,并开始研究气体 在单晶表面的吸附现象。 ➢ 1962年,Lander等人设计出一个带有球形栅网和荧光屏的显示装置, 这就现在使用的LEED仪的雏形。 ➢ 从七十年代开始,随着超高真空技术的成熟以及计算机的发展,实验 装置也更为完善,商品化的LEED仪器开始出现。
b (c a)
a、b、c为正格子空间基矢
c* 2 a b
c (a b)
Real lattice
y
a2 a1
x
Reciprocal lattice
DKy
b1
b2
DKx
对倒格子空间点阵有:
Ghkl • a 2 h Ghkl • b 2 k Ghkl • c 2 l
(6-9)
S • a 2 h S • b 2 k S • c 2 l
distribution function),其物理意义为:表达两个原子间距为矢量R的几
率。
可见,散射强度I(S)正比于 P(R) exp[iS • R]dR
即正比于对分布函数的傅立叶变换:
L(S) F[P(R) ] P(R) exp[iS • R]dR
(6-4)
如果晶格中的原胞由一个原子组成,在这个特殊情况下,原子在晶格 中的排列可以用下面的位移矢量来表示:
其出现极大值的条件如下:
S • a 2 h S • b 2 k S • c 2 l
(其中h,k,l为整数)
(6-7)
由晶体学可知,倒格矢空间点阵可用以下矢量表达:
Ghkl ha* kb* lc*
(6-8)
式中a*、b*、c*为倒格子空间基矢,即
a* 2 b c
a (b c)
b* 2 c a波矢)散射波强度I(S)等于振幅的平方,因此有:
I(S ) A(S ) A(S) f (2 , E) 2 (r)(Rr) exp[iS • R]dRdr
f (2 , E) 2 P(R) exp[iS • R]dR
(6-3)
式中: P(R) r (r) (Rr)dr ,称散射体的对分布函数(Pair
d
入射波矢K0
B
A
O
C
散射波矢K
D OC AB OA • S OA • S0 OA • (S S0 )
S为散射波矢的单位矢量,S0为入射波矢的单位矢量
OA la mb nc
光程差 D OC AB OA • S OA • S0 OA • (S S0 ) n
K0
2 S0
二、方法原理
1、LEED衍射条件 2、LEED成象-衍射图谱形成 3、LEED斑点强度分布研究 4、低能电子衍射谱-研究原子位置
1、LEED衍射条件
设入射电子束是一个无限平面波,可用下述方程表达:
A A0 exp[iK0 • r]
(6-1)
式中:A0-入射电子波振幅;K0-入射电子波波矢;r-相对于某一原点的 位矢。
r m1a m2b m3c
(6-5)
其中a, b, c为基矢,假设N1, N2, N3分别为原子沿a, b, c方向的数目,这时式 6-4可以写成:
N1 N2 N3 N1 N2 N3
L(S)
exp{iS[(m1 m1' )a (m2 m2' )b (m3 m3' )c]}
如果入射到晶体表面的电子束和晶体作用很弱时,可以忽略电子波传 播过程中由于多次散射而产生的衰减,即假设只有单散射过程,那么从任 意体积内散射回来的散射波幅度应为
A( S )
A0 f (2 , E)
v
(
r
eiS •r
)
dr
(6-2)
式中: f (2 , E) 代表原子的散射因子,(r)为散射原子的密度分布,S 为散射时的动量转换,即 S K K0 (K0、K分别为入射和散射波
m1 m2 m3 m1' m2' m3'
sin2
1 2
N1S
•
a
sin2
1 2
N2S
•
b
sin2
1 2
N3S
•
c
sin2 1 S • a sin2 1 S • b sin2 1 S • c
2
2
2
(6-6)
L(s)称为干涉函数(Interference function)。当N为无穷大时,式6-6为 函数,
(6-7)
可以看出,只有当 S=G 时,式6-7才成立。这表明LEED衍射条件(即干
涉函数L(S)有极大值)为: S K K0 Ghkl
(6-10)
即只有当散射波矢K和入射波矢K0之差正好与倒格子空间点阵的一个倒格 矢相等时,才能使上述干涉函数L(S)出现极大值。这就意味着LEED的所
有衍射斑点只可能出现在倒格点上。