异质结半导体激光器

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异质结和半导体

异质结和半导体

异质结是指由两个不同材料组成的半导体结构,其中每个材料的能带结构不同。

异质结是一种重要的半导体结构,具有许多独特的性质和应用,例如在光电器件、太阳能电池、激光器、晶体管等领域中都有广泛的应用。

半导体是指一种物质,其电子能级介于价带和导带之间,形成禁带,使得半导体在导电方面表现出特殊的性质。

半导体材料的导电性质可以通过掺杂等手段进行调节,从而实现各种电子器件的制造。

常见的半导体材料包括硅、锗、氮化镓等。

异质结和半导体之间有着密切的联系。

在半导体器件中,异质结通常用于构建晶体管、太阳能电池等器件的结构。

例如,在PN结中,P型半导体和N型半导体之间形成一个异质结,可以实现电子和空穴的分离,实现电流的控制。

另外,在太阳能电池中,异质结也是关键的组成部分,可以实现光的吸收和电子空穴对的分离。

双异质结半导体激光器的结构特点

双异质结半导体激光器的结构特点

双异质结半导体激光器的结构特点
双异质结半导体激光器(DSB-LD)是一种利用两个不同材料组成的异质结的半导体激光器。

其结构特点可以概括为以下几点:
1. 双异质结结构:DSB-LD中包括两个不同材料的异质结。

其中一侧的异质结是p型半导体和n型半导体的结合,另一侧的异质结是n型半导体和p型半导体的结合。

2. 直接注入型激光器:DSB-LD是一种直接注入型激光器,即光子和电子通过同一通道进行注入。

光子在注入点被电子吸收,从而产生激发态电子,接着这些电子进一步受激,产生光子放大。

3. 费米能级对齐:由于异质结中两侧材料不同,导致在异质结处形成了势垒。

这个势垒存在的同时,电子的费米能级也会对齐,使得电子可以在此处发生复合放出光子。

4. 窄增益带宽:由于DSB-LD的结构特点,其增益带宽相对较窄,仅有数十纳米,这限制了其在光通信等领域的应用。

5. 实用性强:DSB-LD结构容易制备,成本相对较低,其波长范围覆盖范围也相对广泛。

加上其直接注入型激光器的特点,DSB-LD得到了广泛的应用。

《激光原理》5-4半导体激光器

《激光原理》5-4半导体激光器

图(5-25) 费米能级的位置与杂质类型及掺杂浓度关系
③在重掺杂P型半导体中,费米能级向下移到价带中,低于费米能级的能带被电子 填满,高于费米能级的能态都是空的,价带中出现空穴——P型简并半导体 (图c);
④在重掺杂N型半导体中,费米能级向上移到导带中,低于费米能级的能带被电子填 满,高于费米能级的能态都是空的,导带中也有自由电子——N型简并半导体 (图e);
满带:若能带中各个能级全部被电子填满,则称为满带。 非满带:若能带中只有一部分能级填入电子,则称为非满带。 空带:若能带中各个能级都没有电子填充,则称为空带。 价带:价电子的能级所分裂而形成的能带称为价带。 导带:空带和未被价电子填满的价带称为导带。
二、绝缘体、导体和半导体
1、绝缘体
导带(空带)
能带的特征:(1)只有满带和空带;(2)满 带和空带之间有较宽的禁带,禁带宽度一般大 于3eV。(约3~6 eV)
Si Si Si Si
Si Si
+ B
Si
N型半导体(电子型):
四价元素Si,Ge,掺五价元 素P,Sb,Td
导带 施主能级
价带
五价原子将在代替四价元素的原子,多出的一个价电子只在杂质离子的电场
范围内运动。杂质原子称为施主原子,相应的杂质能级称为施主能级。量子
力学表明,这种掺杂后多余的电子的能级在禁带中紧靠空带处, 极易形成电子
对于重掺杂的 GaAs P-N 结,在P-N 结的附近,导带中有电子而价带中有空穴, 这一小段区域称为“作用区”。如果电子从导带中向价带中跃迁,则将释放光子,并 在谐振腔的反馈作用下,产生受激辐射。当然,价带中的电子也可能在光子的激发下 跃迁到导带中,即所谓受激吸收,而要产生激光输出自然要求受激发射光子的速率大 于受激吸收光子的速率。

异质结原理及对应的半导体发光机制

异质结原理及对应的半导体发光机制

异质结原理及对应的半导体发光机制异质结原理是指由两种或多种材料组成的不同半导体构成的结构。

它可以利用两种半导体之间能带结构的差异,实现电子和空穴的注入、传输和复合,从而实现发光。

异质结发光是一种重要的光电子器件,具有广泛的应用前景,如发光二极管(LED)、半导体激光器(LD)等。

异质结发光机制主要包括共价键发光、能带发光和电子-空穴复合发光。

共价键发光是最早被发现和研究的半导体发光机制。

在共价键发光中,异质结的两侧半导体材料的禁带宽度不同,电子从宽禁带一侧通过隧穿效应传输到窄禁带一侧,与窄禁带一侧的空穴复合,从而释放能量并发射光子。

共价键发光的发射光谱范围较窄,通常在近红外到红外区域。

能带发光是将发光材料能带结构的差异转化为发光的机制。

在能带发光中,异质结的两侧半导体材料的导带和价带的位置不同,能带之间存在能隙。

当电子从宽能隙一侧的导带跃迁到窄能隙一侧的价带时,释放的能量将以光子的形式辐射出去。

能带发光的发射光谱范围通常较宽,可以覆盖可见光和近红外区域。

电子-空穴复合发光是异质结最常见的发光机制。

在这种机制下,电子从宽禁带一侧注入到窄禁带一侧的导带,与窄禁带一侧的空穴发生复合,并释放能量。

复合可以通过辐射发光、非辐射发光或热失活等方式进行。

其中,辐射发光是最常见的发光方式,同样也是半导体激光器工作的基本原理。

电子-空穴复合发光具有发射光谱宽、效率高等特点,可用于制备高效的发光器件。

总之,异质结原理和相应的半导体发光机制在材料和器件的设计中具有重要作用。

研究和应用这些原理和机制,可以开发出更高效、更稳定的发光材料和器件,推动光电子技术的发展。

半导体光电子学 §4.3 同质结及异质结激光器11

半导体光电子学 §4.3 同质结及异质结激光器11

n
n
p
g
同质结LD在垂直于pn结方向上的折射率分布, 增益分布,光强分布
二.同质结激光器 Jth 与温度T的关系 Jth 高且随T发生剧烈变化
1. T↑ ↑e p区电子扩散区lh↑
中和↑ 反转↓ 维持 ↑Jth 2. T↑ 光波导效应↓ 光场限制↓
J ↑th
3. T↑ 激射长波长↑(λ红移)↑ 光子在p区吸收增加 光子损耗↑ J ↑th q
⑤阈值电流密度下 降
N
p
P
n
I
§4.3.3 双异质结LD
❖ 单异质结中的一个np同
质结用一个异质结代替
+
❖ 优点:
①高效率向有源区注入 载流子
②有源区两边异质结分 别对e和h进行限制
-
p GaAlAs
p GaAs N GaAlAs
n GaAs
③还能利用异质结 产生光波导效应, 而且对称性好
④有源层无需重掺 杂就可以使非平 衡电子浓度比注 入源区(N)高 (超注入)
§4.3 同质结及异质结激光器

§4.3.1 同质结
一.同质结LD的有源区构成
有源区构成:
P
高浓度受主
杂质扩散
进n型GaAs
P
半导体中
扩散 n
- - ++ - - ++ n - - ++
有源区:
①空间电荷区 → 外加电场可忽略 ②p型材料中e的扩散区 → 外加电场时同质结 的有源区
③ n型材料中h的扩散区 → 外加电场时可忽 略
p
n
T1
T2
0
§4.3.2 单异质结LD
一.构成
+ p GaAlAs

半导体激光器

半导体激光器

导带组成,如图(5-24)。
图(5-24) 本征半导体的能带
图(5-23) 固体的能带
同质结和异质结半导体激光器
• 同质结砷化镓(GaAs)激光器的特性
伏安特性: 与二极管相同,也具有单向导电性,如图(5-29)所示。 阈值电流密度: 影响阈值的因素很多 方向性: 图(5-30)给出了半导体激光束的空间分布示意图。
半导体的能带和产生受激辐射的条件
在一个具有N个粒子相互作用的晶体中, 纯净(本征)半导体材料,如单晶硅、 每一个能级会分裂成为N个能级, 锗等,在绝对温度为零的理想 因此这彼此十分接近的N个能级好 状态下,能带由一个充满电子 象形成一个连续的带,称之为能带, 的价带和一个完全没有电子的 见图(5-23)。
p( E ) 1 exp(
1 E Ef kT
式中,k为波兹
)
曼常数,T为热
力 学 温 度 。 Ef 称为费米能级, 用来描述半导体
中各能级被电子
占据的状态。
PN结的特性
当P型半导体和N型半导体结合后,在它们之间就出 现了电子和空穴的浓度差别,电子和空穴都要从 浓度高的地方向浓度底的地方扩散,扩散的结果 破坏了原来P区和N区的电中性,P区失去空穴留下 带负电的杂质离子,N区失去电子留下带正电的杂 质离子,由于物质结构的原因,它们不能任意移 动,形成一个很薄的空间电荷区,称为PN结。其 电场的方向由N指向P,称为内电场。该电场的方 向与多数载流子(P区的空穴和N区的电子)扩散 的方向相反,因而它对多数载流子的扩散有阻挡 作用,称为势垒。
在光纤通讯与光纤传感技术中,激光器方向 性的好坏影响到它与光纤耦合的效率。单模 光纤芯径小,数值孔于半导体的导带,价带都有一定的宽 度,所以复合发光的光子有较宽的能 量范围,因而产导体激光器的发射光 谱比固体激光器和气体激光器要宽。 半导体激光器的光谱随激励电流 而变化,当激励电流低于域值电流时, 发出的光是荧光。这时的光谱很宽, 其宽度常达百分之几微米。如图 (a) 所示。当电流增大到阈值时,发出的 光谱突然变窄,谱线中心强度急剧增 加。这表明出现了 激光。其光谱

(完整版)同质结和异质结半导体激光器

(完整版)同质结和异质结半导体激光器

3.热平衡时,电子在能带中的分布不再服从玻尔兹曼分布,而服从费米分布,能
级E被电子占据的几率为
1 fn (E) EEF
e kT 1
半导体的能带和产生受激辐射的条件
1.杂质半导体中费米能级的位置与杂质类型及掺杂浓度有密切关系。为了说明问 题,图(5-25)给出了温度极低时的情况。
费米能级的位置与杂质类型及掺杂浓度关系

n c2 A21
8 2ν2
f ν
n c2
8 2ν2t复合
f ν
半导体激光器的工作原理和阈值条件
3.半导体激光器的阈值电流
➢在一定的时间间隔内,注入激光器的电子总数与同样时间内发生的电子与空穴 复合数相等而达到平衡
nLwd I
t复合
e

n c2 A21 8 2ν2
f
ν
n c2 8 2ν2t复合
2.在半导体中产生光放大的条件是在半导体中存在双简并能带,并且入射光的频
率满足
EF EF hν Eg
PN结和粒子数反转
1. P-N结的双简并能带结构 ➢把P型和N型半导体制作在一起,是否可能在结区产生两个费米能级呢? ➢未加电场时,P区和N区的费米能级必然达到同一水平,如图(5-26)。
PN能带
GaAs激光器的伏安特性
激光束的空间分布示意图
同质结和异质结半导体激光器
1. 同质结砷化镓(GaAs)激光器的特性 ➢光谱特性:图(5-31)是GaAs激光器的发射光谱。其中图(a)是低于阈值时的荧光 光谱,谱宽一般为几百埃,图(b)是注入电流达到或大于阈值时的激光光谱,谱 宽达几十埃。
GaAs激光器的发射光谱
➢双异质结半导体激光器:双异质结半导体激光器结构如图(5-32)(c)所示。

激光原理-第四章 半导体激光器

激光原理-第四章  半导体激光器

第二节 激发与复合辐射

若掺杂原子比材料原子少一个电子,则附加能级接近 价带,其上的空穴很容易进入价带,使价带中出现大量 过剩空穴,这种材料称为p型材料,而杂质称为受主。
掺杂的净效果是在导带和价带中形成过剩的自由载流 子。 P掺杂三价元素(杂质),载流子主要是空穴,而杂 质称为受主 N掺杂5价元素(杂质),载流子主要是电子,而杂质 称为施主 p型材料和n型材料接触时形成pn结,

式中,kpn 为声子波矢,k pn 一般比k小1个量级左右。
初态与末态相应于k空间不同点的电子跃迁称为非 竖直跃迁或间接跃迁。在这种跃迁中,发射或吸收一 个光子的同时,必须伴随发射或吸收一个适当波数的 声子,以满足动量守恒,因而属于二级过程。其几率比 属于一级过程的纯光跃迁小得多,故不适合用于激光 发射。
E
导带 Eg
满带
半导体的能带
第一节半导体的能带结构和电子状态
二、半导体中的电子状态 用量子力学确定孤立原子的电子能量和运动状态是通过求解薛定 鄂方程实现的。然而,由于固体中所含原子数量极大,对每个电 子求解薛定鄂方程是根本不可能, 只能采取某种近似的方法:
其相应的能量本征值为
h2k 2 E V 2me
1.满带(排满电子)(价带) 2.价带(价电子能级分离后形成的能带,能带中一部分能级排 满电子) 3. 导带 (未排满电子的价带) 3.空带(未排电子) 空带也是导带 4.禁带(不能排电子)
第一节半导体的能带结构和电子状态




半导体材料Si和Ge为例,每个原子有4个价电子,在原子状态中s态 和p态各2个。 由轨道杂化重新组合的两个能带中各含2N 各状态,较低的一 个正好容纳4N 个价电子, 所有的电子排满了s轨道,只有当能带被电子部分填充时,外电场 才能使电子的运动状态发生改变而产生导电性。 这些材料低温下不导电,在温度较高时,部分电子从价带激发到导 带,表现出导电性。

半导体异质结激光器结构

半导体异质结激光器结构

半导体异质结激光器结构
半导体异质结激光器是一种在光电子器件中广泛应用的重要组件。

其结
构是由不同材料的半导体层按特定顺序堆叠而成。

在这种结构中,半导体材
料的能带类型和能带宽度发生变化,从而形成了异质结。

半导体异质结激光器的结构通常由多个层次组成。

其中包括发射区、波
导区和反射区。

发射区是光源的产生和放大的区域,通常由一个p-n结构组成。

波导区起到激光光束传输的作用,常采用较宽的禁带宽度材料以降低光
损耗。

而反射区则用于增强激光的反射与输出。

半导体异质结激光器的工作原理基于霍尔效应、吸收共振、载流子注入
和光放大等现象。

通过注入电流并在发射区产生激发态的载流子,这些载流
子在波导区中不断受到刺激发射并释放出光子。

通过在反射区添加反射镜,
可以增强光子的反射并形成激光输出。

在应用上,半导体异质结激光器具有许多优势。

首先,其结构简单紧凑,易于集成和制造。

其次,激光器的输出功率高、效率高、频率稳定,并且可
以实现大范围的波长调谐。

因此,半导体异质结激光器在通信、显示、传感
和医学等领域具有广泛的应用前景。

半导体异质结激光器是一种重要的光电子器件,其结构由多个层次组成,包括发射区、波导区和反射区。

通过载流子注入和光放大等原理,激光器可
以产生高功率、高效率的激光输出,并在各个领域具有广泛的应用。

半导体激光器的发展历程精

半导体激光器的发展历程精

广西师范学院2017年本科毕业论文论文题目半导体激光器的发展历程毕业生:吴伊琴指导老师:王革学科专业:物理学(师范)目录摘要前言一.理论基础及同质结半导体激光器(1917-1962)1.1激光理念及激光技术的面世1.2早期半导体激光器理念提出及探索(1953-1962)二.异质结半导体激光器(1963-1977)2.1 单异质(SH)激光器2.2 双异质(DH)激光器三.半导体激光器实用领域的探索(1980-2005)3.1 光纤通信及半导体激光器的相辅相成3.2 量子阱能带工程技术的引入4.1半导体激光器应用的多样化4.2 半导体激光器的未来发展结语参考文献摘要双异质半导体激光器,量子阱技术,应变量子阱激光器,DFB激光器,面发射激光器,大功率激光器等等突破性研究成果的面世,使得半导体激光器已经占据了激光领域市场的大壁江山,以及成为了军事,医疗,材料加工,印刷业,光通信等等领域不可或缺的存在。

本文梳理了1917年—2008年半导体激光器的发展历程,文中包括了半导体激光器大多研究成果,按照时间线对其进行整理。

总的说来,半导体激光器的发展历程可以分为4个阶段第一.理论准备及起步阶段(1917-1962)。

1962年同质结半导体激光器研制成功。

尽管同质结半导体激光器没有实用价值,但是它面世是半导体激光器发展历程中重要的标志,其基本理论是后来半导体激光器前进的基础。

第二.大发展期(1962--1979 长寿命,长波长双异质半导体激光器的面世使得半导体激光器能够满足光纤通信的需求。

1978-1979年,国际上关于通过改进器件结构提高器件稳定性,降低损耗的研究成果非常多。

由于对AlGaAs—GaAs激光器特性的不断进步的追求,使得这个时期出现了许多新的制造工艺,新的结构理念,为之后发展长波长半导体激光器留下了充足的技术支持。

第三.实用性的初步探索(1980--1990)在这期间半导体激光器的实用领域主要集中于光纤通信领域,由于光纤通信技术的不断发展,使得半导体激光器的发展也极其迅猛。

异质结发展现状及原理

异质结发展现状及原理

异质结发展现状及原理pn结是组成集成电路的主要细胞。

50年代pn结晶体管的发明和其后的发展奠定了这一划时代的技术革命的基础。

pn结是在一块半导体单晶中用掺杂的办法做成两个导电类型不同的部分。

一般pn结的两边是用同一种材料做成的(例如锗、硅及砷化镓等),所以称之为“同质结”。

如果把两种不同的半导体材料做成一块单晶,就称之为“异质结“。

结两边的导电类型由掺杂来控制,掺杂类型相同的为“同型异质结”。

掺杂类型不同的称为“异型异质结”。

另外,异质结又可分为突变型异质结和缓变型异质结,当前人们研究较多的是突变型异质结。

1 异质结器件的发展过程pn结是组成集成电路的主要细胞,50年代pn结晶体管的发明及其后的发展奠定了现代电子技术和信息革命的基础。

1947年12月,肖克莱、巴丁和布拉顿三人发明点接触晶体管。

1956年三人因为发明晶体管对科学所做的杰出贡献,共同获得了科学技术界的最高荣誉——诺贝尔物理学奖。

1949年肖克莱提出pn结理论,以此研究pn结的物理性质和晶体管的放大作用,这就是著名的晶体管放大效应。

由于技术条件的限制,当时未能制成pn结型晶体管,直到1950年才试制出第一个pn结型晶体管。

这种晶体管成功地克服了点接触型晶体管不稳定、噪声大、信号放大倍数小的缺点。

1957年,克罗默指出有导电类型相反的两种半导体材料制成异质结,比同质结具有更高的注入效率。

1962年,Anderson提出了异质结的理论模型,他理想的假定两种半导体材料具有相同的晶体结构,晶格常数和热膨胀系数,基本说明了电流输运过程。

1968年美国的贝尔实验室和苏联的约飞研究所都宣布做成了双异质结激光器。

1968年美国的贝尔实验室和RCA公司以及苏联的约飞研究所都宣布做成了GaAs—AlxGal—。

As双异质结激光器l;人5).他们选择了晶格失配很小的多元合金区溶体做异质结对.在70年代里,异质结的生长工艺技术取得了十分巨大的进展.液相夕随(LPE)、气相外延(VPE)、金属有机化学气相沉积(MO—CVD)和分子束外延(MBE)等先进的材料生长方法相继出现,因而使异质结的生长日趋完善。

异质结理论与半导体激光器的发展现状与趋势

异质结理论与半导体激光器的发展现状与趋势

摘要:本文介绍了有关异质结和半导体激光器的技术及其研究进展,首先简要介绍了异质结器件的历史发展过程,第二部分介绍了半导体激光器发展过程与应用,最终以半导体激光器为例,展望激光器和异质结技术发展方向。

关键词:异质结,激光器Abstract: The paper is a review of technique and recent progress about heterojunction and LD. Above all the history of development progress of heterojunction were introduced .Secondly it’s about the development and application of LD. Finally take LD for example, prospected the development direction of heterojunction and LD.Key words:heterojunction, laser引言半导体的核心是pn结,pn结是在一块半导体中用掺杂的办法做成两个导电类型不同的部分。

一般pn结的两边是用同一种材料做成的,也称为“同质结”。

如果结两边是用不同的材料制成,就称为“异质结”。

异质结相对于同质结来说有许多优良的特性,特别是在半导体激光器方面有的得天独厚的优势。

第一章异质结的发展历程pn结是组成集成电路的主要细胞,50年代pn结晶体管的发明及其后的发展奠定了现代电子技术和信息革命的基础。

然而,随着无线移动通信、GPS、雷达及高速数据处理系统的飞速发展以及全球范围的军事及空间技术走向民用,对器件和电路的性能,如频率特性、噪声特性、封装面积、功耗和成本等提出了更高的要求[1]。

在20 世纪60 年代初期,当pn结晶体管刚刚取得巨大成功的时候,人们就开始了对半导体异质结的研究。

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第三章 异质结半导体激光器
3.1 概述 3.2 光子在谐振腔内的振荡 3.3 在同质结基础上发展的异质结激光器 3.4 条形半导体激光器 3.5 条形半导体激光器中的增益波导 3.6 可见光半导体激光器 3.7 分布反馈半导体激光器
3.1 概述
一台激光器一般由工作物质、激励源和光学谐振 腔三部分组成 工作物质:有源介质,高效率的产生受激发射 激励源:提供能源,对有源介质进行泵浦 光学谐振腔:晶体的天然解理面,提供光学反馈 根据工作物质不同有气体、固体、染料、半导体、 化学等种类的激光器。
温度升高,载流子扩散 长度增加,同时光波导 效应降低。
P区比n区更容易吸收 光子
如何降低阈值电流密度?
J th
Jt
1 A
(
i
1 L
ln
1) R
①将注入载流子有效地限制在比电子扩散长度小得 多的区域内产生受激发射;
②将产生的光子在垂直于结平面方向上限制,使光 子在谐振腔内振荡放大.
重掺杂时,费米能级进入能带深处。
注入p区的电子,会被异质结限制,有利于有 源层载流子的积累,但注入n区的空穴依然不 受限制。
异质结形成的光波导效应,限制了p区光子的 横向逸出, n区光子的光波导效应仍然很弱。
三、双异质结激光器
不需重掺杂,就可能实现粒子数反转。
载流子和光子都会被异质结限制,有效的降低 了阈值电流。
双LD的研究主要集中在: ①寿命增加,稳定性,可靠性,性能退化和失效机 理,这主要是研究各种条形LD,降低Jth,Ith; ② 工 作 波 长 范 围 扩 大 。 最 开 始 AlGaAs-GaAs 的 λ=0.85μm,为适应光纤通信发展,需研制对应光纤 更 低 损 耗 窗 口 的 波 长 , 研 制 了 1.1-1.7μm InGaAsP/InP激光器,为适应光盘等信息存储技术的 发展,发射可见光的半导体激光器被研究; ③压缩半导体激光器的线宽和在高速调制下的单模 工作; ④提高半导体激光器的输出功率和输出光束的相干 性。
t1Eiexp(-ΓL)
L 输出端
图4.2-1光子在平行腔内增益介质中振荡的示意图
(2)推导过程 由阈值条件定义:光子在谐振腔内往返一次,总的效 果是不产生损耗而能维持稳定的振荡或形成稳定的驻 波。这就要求光子在腔内的环路增益为1,即:
r1r2Ei exp(2L) Ei r1r2 exp(2L) 1
固体激光器的工作物质,由光学透明的晶体 或玻璃作为基质材料,掺以激活离子或其他激活 物质构成。这种工作物质一般应具有良好的物理 -化学性质、窄的荧光谱线、强而宽的吸收带和 高的荧光量子效率。
固体激光器以光为激励源。常用的脉冲激励 源有充氙闪光灯;连续激励源有氪弧灯、碘钨灯、 钾铷灯等。一些新的固体激光器也有采用激光激 励的。
1962年同质结LD,Jth达到104A/cm2量级,液氮 下脉冲工作,毫无使用价值。1967年LPE生长出 GaAlAs-GaAs异质结并很快研制出单异质结LD,Jth 达到8.6×103A/cm2,下降一个数量级,从而实现了室 温下脉冲工作,1970年,双异质结Jth量级又下降一 个,实现连续室温工作,迅速在光纤通信、光信息处 理领域广泛应用。
固体激光器由于光源的发射光谱中只有一部分 为工作物质所吸收,加上其他损耗,因而能量转 换效率不高,一般在千分之几到百分之几之间。
对于半导体激光器也是由这三部分组成的。工 作物质也叫有源区;谐振腔是晶体的自然解理面, 泵浦源是电源。
与其它激光器不同的是,半导体激光器具有 层状结构,其作用相当于固体激光器的聚光腔,半 导体激光器的谐振腔不是由外加反射镜构成,而 是利用半导体本身的晶体解理面形成内反射腔, 这使得半导体激光器结构很紧凑,避免了外加谐 振腔可能产生的机械不稳定性,半导体激光器的 电源简单,电流电压都很小,工作使用很方便、 安全,优点。
阈值电流密度Jth:
J th
Jt
1 A
(
i
1 L
ln
1) R
光场限制因子(光场扩展出有源区造成的损耗)
exp[( j 4 n)L] 1 0
b. 纵模间隔
2nL m0
0dm md0 2Ldn
d0
0 2 2nL[1 (0
)(
dn
)]
n d0
3.3 在同质结基础上发展的异质结激光器
一、同质结激光器
p+-GaAs
n+-GaAs
同质结激光器的能带图:
同质结激光器的粒子数 反转 Fc Fv Eg 是靠重掺杂来实现的。
同质结激光器的有源区 是由空间电荷区及p区的 电子扩散长度和n区的空 穴扩散长度对应的区域 组成。其中最主要的是p 区的电子扩散长度。
同质结遇到的困难是, 阈值电流密度高,而且 随温度发生剧烈变化。
推导出阈值增益gth:
gth
i
1 2L
ln( 1 R1R2
)
当R1
R 2,gth
i
1 L
ln( 1 ) R
g是增益系数, αi为介质的内部损耗系数
这表明,当激光器达到阈值时,光子获得的增益应 足以抵消吸收、散射等损耗和激光输出。
减少光子在介质内部的损耗、适当增加增益介质的 长度和对非输出界面镀以反射膜都能降低阈值增益。
j(n jk)k0 复传播常数
消光系数: k 0 / 4
α为广义损耗系数
r1r2
exp[(
j
4 n 0
)L]
1
α=αi-g,g是增益系数, αi为介质的内部损耗系数。
r1r2
exp[(g
i
)L]
exp[(
j
4 n)L] 0
1
r1r2 exp[( g i )L] 1
exp[( j 4 n)L] 1 0
3.2 光子在谐振腔内的振荡
➢半导体LD的增益和损耗
(1)增益、损耗的概念 在有源腔中获取粒子数反转与增益介质中出现增益。 获取增益的方法:注入高浓度的载流子,对光子进
行有效的限制。 损耗及其产生的机理:谐振腔内激活物质存在吸收,
反射镜存在透射和散射。 (2)谐振腔:天然解理面(反射率30%—32%) (3)谐振腔长:200—400μm。
加正向电压后,有源层由于粒子数反转,将产 生激射。
室温下,电子的扩散长度可达5μm,这就要求 有较大的注入载流子浓度才能保证有源区内实 现粒子数反转。
为了降低J,可从限制载流子和光子着手。
二、单异质结半导体激光器
仍需重掺杂,让费米能级进入能带深处。加正 向电压后,有源层实现粒子数反转。
➢半导体LD的阈值特点
Laser输出净增益 增益与损耗平衡 粒子数反转达到一定阈值
➢用谐振腔理论推导阈值条件 (1)物理模型:
部分反射端面1
部分反射端面2
t1r1r2Eiexp(-Γ2L) t1r2Eiexp(-Γ2L)
t1r1r2Eiexp(-Γ3L) t1r2Eiexp(-ΓL)
Ei
t1Ei
输入端
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