真空镀膜机基本技术要求
镀膜机安全技术操作规程（三篇）
镀膜机安全技术操作规程镀膜机是一种常用的表面涂覆设备，用于给物体表面增加一层薄膜，提高其耐磨、防腐蚀等性能。
由于涉及到化学物品和高温等危险因素，因此在操作镀膜机时必须严格遵守安全技术操作规程，以确保操作人员和设备的安全。
以下是镀膜机的安全技术操作规程，共计2000字。
一、使用前的准备工作1.操作人员必须接受相关的安全培训和操作指导，熟悉设备的结构和工作原理。
2.检查设备的各个部位，如输送带、喷涂系统、加热系统等，确保其正常运行，并进行必要的维护和保养。
3.确认所有的安全设施完好，如安全门、安全防护网、紧急停机按钮等。
二、穿戴个人防护装备1.操作人员必须穿戴适当的个人防护装备，如安全帽、安全鞋、护目镜、防护手套等。
2.针对具体镀膜材料和工艺，选择合适的防护服和口罩。
三、操作过程中的安全控制1.在操作镀膜机前，必须确保操作区域的绝对干燥，以避免与湿气产生反应或发生事故。
2.严禁在操作过程中穿插其他人员或随意接近设备。
3.确保机器运行稳定后再进行下一步操作，以免因异常造成安全事故。
4.操作人员必须时刻关注设备运行状态，发现异常情况及时采取应急措施，如关闭设备、紧急停机等。
5.禁止在操作过程中使用手机等与操作无关的电子设备。
6.严禁将任何非操作材料放入喷涂系统，以避免发生化学反应或堵塞设备。
四、应急措施和事故处理1.设备操作过程中，如发现异常燃烧、爆炸或其他突发事故，应第一时间切断电源，并立即报警和呼叫专业人员进行应急处理。
2.若发生泄漏、溢出等事故，应密切关注涉及范围的浓度是否达到爆炸或有毒的程度，确保工作区域的人员安全，及时进行清理和处理。
3.在事故处理中，操作人员必须穿戴好个人防护装备，并按照应急预案进行处置，有条件的情况下可启动应急喷淋系统或其他应急设备。
五、日常维护和保养1.设备日常维护和保养必须由专业人员进行，如定期检查设备运行情况、清理设备内部、更换易损件等。
2.定期组织设备的安全检查和保养记录，及时处理设备的故障和隐患，确保设备的正常运行和使用安全。
真空镀膜技术
电子枪对光谱的影响主要是焦斑的形状、位臵、大小在成膜的影响。 特别是高精度的膜系，和大规模生产的成品率要求电子枪的焦斑要稳定。
薄膜厚度的测量
金膜新蒸发时，薄层较软，大约一周后，金膜硬度趋于稳定，膜层 牢固度也趋于稳定。
（4）铬 Cr Cr膜在可见区具有很好的中性，膜层非常牢固透明度、折射率、机械牢固度和化学稳 定性以及抗高能辐射。
（1）透明度
短波吸收或本征吸收I：主 要是由光子作用使电子由 价带跃迁到导带引起的；
真空度的单位：
真空度以压强为单位来度量，压强高表示真空度低。压强 低标识真空度高。
真空度的国际单位是帕斯卡简称帕（Pa）。 毫米汞柱（mmHg）：1mmHg＝133.3Pa 托（Torr）：1Torr＝1/760atm=133.3Pa 巴（Bar）：1Bar＝105Pa
平均自由程
气体分子之间相邻两次碰撞的距离，其统计平均值为平均自 由程。 l=1/(√2πς2n)=kT /(√2πς2P）
电阻蒸发系统采用单相调功器对电阻蒸发源的功率进行调 节控制，蒸发源在两组以上时，通过选择开关选择。
工作原理：
电子束蒸发是利用 在一定真空条件下，加 高压产生电子束，通过 特定磁场的作用，按照 一定的路线，轰击蒸发 物质，产生蒸发。
在电子束蒸发装置 中，被蒸发的物质放置 于水冷的干坩埚中，电 子束只轰击到其中很少 的一部分，而其余大部 分物质在坩埚的冷却作 用下一直处于低温状态， 因此，可以避免坩埚材 料蒸发引起的污染。
(2) 硫化物
典型的硫化物材料是硫化锌（ZnS）。
真空镀膜技术简介
5.现状 5.现状
由于真空镀膜起步较晚，又受真空技术的限制，前期发展较慢， 属于新的技术。目前，国外一些发达的国家应用较为广泛。国内起步 更晚，受技术的限制，应用范围较少，潜力较大，待进一部开发。
（二）
1.常用的镀膜设备（外形） 1.常用的镀膜设备（外形） 常用的镀膜设备 1.1. 电镀法、化学镀法一般是以槽体流水线的形式进行的，设 备较为大型，昂贵。 1.2. 箱式真空镀膜机（立式）：单门、双门。 1.3. 卷绕式真空镀膜机（卧式）。 1.4. 间歇式镀膜机（立式）：两箱、三箱。 1.5. 大型镀膜流水线：根据客户要求进行设计。 这里没有涉及CVD镀膜设备 这里没有涉及CVD镀膜设备
4.真空蒸镀镀膜机的相关参数和结构1 4.真空蒸镀镀膜机的相关参数和结构 真空蒸镀镀膜机的相关参数和结构1
4.1. 真空蒸镀镀膜机的相关参数 4.1.1. 真空室尺寸 4.1.2. 最高加热温度 4.1.3. 高、低真空泵抽速 4.1.4. 膜厚控制精度 4.1.5. 蒸发器的参数 4.1.6. 离子源的参数 4.1.7. 连续镀层和时间 4.1.8. 充气系统的参数 4.1.9. 深冷的参数 4.1.10. 操作系统、软件 另外：冷却水、压缩空气、电 量
内容概要
（二）.镀膜的设备
1.常见的镀膜设备 1.常见的镀膜设备 2.常见的真空镀膜机 2.常见的真空镀膜机 3.各国的真空镀膜机的现状 3.各国的真空镀膜机的现状 4.真空蒸镀镀膜机的相关参数和结构 4.真空蒸镀镀膜机的相关参数和结构
（三）.真空镀膜的工艺
1.工艺参数 1.工艺参数 2.塑料件真空镀膜工艺流程 2.塑料件真空镀膜工艺流程 3.镀膜制品的品质参数 3.镀膜制品的品质参数
3.定义2 定义2
电子束加热蒸镀是将膜料放入水冷铜坩埚中，利用高能量密度的 电子束加热，使膜料熔融气化并凝结在基体表面成膜。 为了改善附着力，增加膜的致密性，镀膜前，镀膜过程中辅助离 子束进行轰击的镀膜方法称为离子束辅助蒸镀。
真空镀膜技术工艺流程
真空镀膜技术工艺流程真空镀膜技术是一种在真空条件下将金属薄膜或其他材料沉积到基材表面的工艺。
它广泛应用于光学、电子、汽车、建筑等领域，用于提高材料的光学性能、耐腐蚀性能和装饰性能。
下面将介绍真空镀膜技术的工艺流程。
1. 基材准备首先，需要准备待镀膜的基材。
基材可以是玻璃、塑料、金属等材料，不同的基材需要采用不同的预处理工艺。
通常情况下，基材需要进行清洗、去油、去尘等处理，以确保镀膜的附着力和质量。
2. 蒸发材料准备在真空镀膜工艺中，需要使用一种或多种蒸发材料作为镀膜材料。
这些蒸发材料可以是金属、氧化物、氮化物等。
在镀膜前，需要将这些材料加工成均匀的块状或颗粒状，以便于在真空条件下进行蒸发。
3. 真空系统抽真空在进行镀膜之前，需要将反应室内的气体抽空，建立起一定的真空度。
通常情况下，真空系统会采用机械泵、分子泵等设备进行抽真空，直到达到所需的真空度为止。
4. 加热基材在真空镀膜过程中，基材通常需要加热到一定温度。
加热可以提高蒸发材料的蒸发速率，同时也有助于提高镀膜的致密性和附着力。
加热温度的选择需要根据具体的镀膜材料和基材来确定。
5. 蒸发镀膜当真空度和基材温度达到要求后，开始蒸发镀膜。
蒸发材料被加热后，会蒸发成气体或蒸汽，并沉积到基材表面上。
在镀膜过程中，可以通过控制蒸发材料的温度、蒸发速率和镀膜时间来控制镀膜的厚度和性能。
6. 辅助工艺在镀膜过程中，可能需要进行一些辅助工艺来改善镀膜的性能。
例如，可以通过离子轰击、辅助加热、喷洒惰性气体等手段来提高镀膜的致密性和光学性能。
7. 检测和包装镀膜完成后，需要对镀膜膜层进行检测，以确保其质量和性能符合要求。
常用的检测手段包括光学测量、显微镜观察、机械性能测试等。
最后，对镀膜产品进行包装，以防止镀膜层受到污染或损坏。
总结真空镀膜技术是一种高精度、高效率的表面处理技术，可以为材料赋予特定的光学、电子、机械等性能。
通过控制镀膜工艺流程中的各个环节，可以实现对镀膜膜层厚度、组分、结构和性能的精确控制。
真空镀膜(PVD)工艺介绍
编撰：张学章真空镀膜(PVD)工艺介绍真空镀膜(PVD)工艺知识介绍2010年01月20日拟订:张玉立讲解:刘红彪目录1. 真空镀膜技术及设备发展;2. 真空镀膜的工艺基本流程;3.真空镀膜的工艺特性;4.真空镀膜工艺对素材的适镀性及要求;5.真空镀膜工艺关键技术与先进性;6.真空镀膜新工艺展示;7.东莞劲胜精密组件股份有限公司PVD专利介绍；前言真空镀膜行业兴起背景；随着欧盟RoHS指令的实施及各国针对环保问题纷纷立法。
传统高污染之电镀行业已不符合环保要求，必将被新兴环保工艺取代。
而真空镀膜没有废水、废气等污染，在环保上拥有绝对优势，必将兴起并普及。
1：真空镀膜技术及设备发展1. 制膜(或镀膜)方法可以分为气相生成法、氧化法、离子注入法、扩散法、电镀法、涂布法、液相生成法等。
气相生成法又可分为物理气相沉积法（简称PVD法）化学气相沉积法和放电聚合法等。
我们今天主要介绍的是物理气相沉积法。
由于这种方法基本都是处于真空环境下进行的，因此称它们为真空镀膜技术。
惰性气体等离子状态Ar+2：真空镀膜的工艺基本流程素材检检组装治具擦拭产品底涂上下料喷底涂、IR镀膜上下料镀膜（PVD)喷面漆、IR（颜色）下治具检验包装IR 烘烤不导电真空上料PVD 技术操作简易流程图片技术操作简易流程图片：塑胶件采用专用的UV 涂料，用自动涂装线喷涂，对素材进行封闭、增加基材平整性。
高纯度锡金属作为蒸发材料进行物理气相沉积镀膜，镀层金属膜层厚度为纳米级（30-50NM ）金属原子微观上不连接，从而保证不导电性能，同时具备较强的金属质感。
塑胶件采用专用的UV 涂料，用自动涂装线喷涂，对素材进行封闭、增加基材平整性。
UV 涂层膜厚，表面硬度（IR 烤箱温度、UV 紫外光固化能量、波峰值）精确控制，严格测试。
通过制程各项工程参数（如真空度、电流、电压、时间、膜材用量）的精确控制及严格的品质监测流程、设备（镀层阻抗测量、网络分析仪RF 射频测试）确保制程品质稳定。
VM(真空镀膜)技术应用与介绍
工作中学习，学习后工作 做比说重要，习比学有效
21
Thank you！
22
VM膜层结构图 面漆厚度10um 金属漆厚度0.5~10um 底漆厚度10um
基材
粗糙度需在0.5um以下
9
七、VM与其它镀膜比较的优缺点
项次 工艺
VM
底漆+镀膜+面漆 喷涂UV漆
水电镀
1.镀铜+镀镍 2.镀铜+镀镍+镀铬 不需要
传统烤漆
底漆+中漆+面漆 喷涂UV漆
工
艺
镀层保护 镀层材料 镀层光泽 镀层颜色 镀层硬度 镀层厚度 镀层附着性
8-1 发 雾
不良描述：表面发白起雾现象，失去镜面光泽的金属效果 产生原因： 1.底漆固化不彻底 2.镀膜层太薄，呈现基材底色 3.环境湿度过高 改善对策： 1.增加底漆固化时间 2.增厚金属膜层 3.除湿干燥处理
NG
OK
12
八、30065卡托----VM常见不良现象、原因及改善对策
8-2 颗 粒
高温高湿 光泽（对样品）
震动
UV底漆 Ti SUS Cr AI SiO SiO2 UV中漆 色浆 UV面漆
面漆固化 镀金属膜 喷底漆
终检 喷面漆 底漆固化
工
艺
制
程
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十一、总结
1.多看，多听: 接触新的事物时, 多看一看周围的人是如何处理,对新环境的未知, 多听一听前辈们的指导提点. 2.多问: 在不熟悉这个行业时，会发现自己很多东西都不懂，这个时候就 要多问一问前辈，每解决一个问题，对于我们自己，都是又成长 了一步 3.多学，多做,多思考： 活到老，学到老，多学才能让自己更加智慧，多做才能让我们适应 生存，多思考才能让自己解决每一道坎
真空镀膜机详细镀膜方法
真空镀膜机详细镀膜方法真空镀膜技术是一种应用广泛的表面加工技术，可以为各种材料表面提供不同颜色、不同功能的涂层。
如何进行真空镀膜，是一个需要掌握的基本技术。
本文将详细介绍真空镀膜的方法及其优缺点。
一、真空镀膜的基本原理真空镀膜技术是一种在真空环境下对材料表面进行涂层加工的技术。
通过真空系统将膜材料蒸发，沉积在基材表面，形成涂层。
在镀膜过程中需要注意的是：不同材料的膜材料，在蒸发、沉积的过程中有不同的温度和气压要求；基材表面也需要钝化处理，以保证表面涂层的附着性。
二、真空镀膜的优缺点优点：（1）沉积速度快，可制备厚度、均匀度好的涂层。
（2）具有高质量、高透明度、高硬度、高耐磨性及耐高温等特点。
（3）涂层成分稳定，能耐受环境变化，具有长时间稳定性。
缺点：（1）设备及材料投入成本高，要求专业技术人员操作。
（2）镀膜工艺步骤复杂，环境控制要求高。
（3）镀膜过程中会有一定的污染，对真空系统要求高。
三、真空镀膜的具体过程真空镀膜的过程通常包括五个步骤：1. 清洗和钝化处理在进行真空镀膜之前，需要对基材表面进行钝化处理，以提高涂层附着性。
清洗方法需要根据基材的情况和涂层的要求来确定。
通常会采取化学清洗、氧化清洗和机械打磨等方法，以使表面清洁、光滑。
2. 蒸发材料的制备膜材料的蒸发过程需要保证蒸发速度、蒸发量及蒸发均匀度。
膜材料通常选用纯度高、化学稳定的材料，如金属或半导体材料。
制备膜材料的方法也因材料而异，如金属材料可采用电功率热源加热蒸发、电子束蒸发、离子束蒸发等方法，而半导体材料可采用溅射等方法。
3. 准备真空环境真空镀膜需要在高真空环境下进行。
可以使用單純管和机械泵联合的方式轻松地在低真空状态下达到高真空状态。
具体环境控制要求根据不同的蒸发材料有所不同。
4. 蒸发沉积蒸发沉积是最核心的步骤，也是关键的涂层制备过程。
在蒸发材料制备完成后，通过真空系统控制蒸发材料温度和气压，将蒸发材料蒸发并沉积在基材表面。
真空镀膜机对环境要求
⑥设备所需的压缩空气、液氮、冷热水等压 力、温度、消耗量均应在产品使用说明书上写明。
⑦设备周围环境整洁、空气清洁，不应有可
已看到，这几段爱情背后是她一直对千源的念念不忘，耿耿
引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间
导电的尘埃或气体存在。 此外，真空镀膜设备所在实验室或车间应保
持清洁卫生。地面为水磨石或木质涂漆地面、无
否清洗，又直接影响设备的性能。如果空气中含 有大量的水蒸气和灰尘，在真空室没有经过清洗
已看到，这几段爱情背后是她一直对千源的念念不忘，耿耿
的情况下用油封机械泵去抽气，要达到预期的真
空度很难的。众所周，油封式机械泵不宜抽除对
金属有腐蚀性、对真空油其反应的以含有颗粒尘 埃的气体。水蒸气为可凝性气体，当大量抽除可
已看到，这几段爱情背后是她一直对千源的念念不忘，耿耿
真空对环境的要求，一般包括真空设备对所
处实验室（或车间）的温度、空气中的微粒等周
围环境的要求，和对处于真空状态或真空中的零 件或表面要求两个方面。这两个方面是有密切联
系的。周围环境的好坏直接影响真空设备的正常
使用；而真空设备的真空室或装入里面的零件是
凝性气体时，对泵油的污染会更加严重，结果使
泵的体、眼无题、粉
已看到，这几段爱情背后是她一直对千源的念念不忘，耿耿
尘来区分的。粉状体是粉末或固体颗粒的集合或
分散状态的物质。所谓粉末是指微小的固体颗粒
的集合，而颗粒是指能够一个一个计数的微小物 质。烟雾体是以固体或液体的微小颗粒呈浮状态
由于真空镀膜机要在真空条件下，因此该设
备要满足真空对环境的要求。制定的各种真空镀
膜机的行业标准（包括真空镀膜设备通用技术条 件、真空离子镀膜设备、真空溅射镀膜设备、真
真空卷绕镀膜设备通用技术要求
真空卷绕镀膜设备通用技术要求一、设备概述真空卷绕镀膜设备是一种在真空环境中，通过物理或化学方法，将金属、非金属或其他材料均匀地沉积或涂覆在薄膜或基材上的设备。
它广泛应用于电子、光学、装饰、医疗等领域，可以用于制造各种高性能和高精度的薄膜产品。
二、设备通用技术要求1. 设备设计应符合安全、环保和人性化的原则，易于操作和维护，能够实现高效、稳定和连续的镀膜生产。
2. 设备应具备完整的电气控制系统，能够实现自动控制和调节，包括温度、真空度、镀膜厚度等关键参数。
3. 设备应具备有效的清洗和防污染措施，能够保证设备的清洁度和薄膜的质量。
4. 设备应具备可靠的机械传动系统，能够保证设备的稳定运行和长寿命。
5. 设备应具备完整的真空系统，能够保证设备的真空度和清洁度。
6. 设备应具备完善的冷却系统，能够保证设备的正常运行和防止热变形。
7. 设备应具备安全保护装置，能够防止意外事故的发生。
8. 设备应符合相关的环保要求，能够实现废气、废水和固废的合理处理。
9. 设备应具备良好的可维修性和可维护性，方便进行定期的检修和保养。
10. 设备应具备稳定的性能和可靠的质量，能够保证生产的顺利进行和产品的质量稳定。
三、设备的关键技术参数1. 镀膜材料：设备的镀膜材料应具备高纯度、高密度、高附着力和良好的稳定性。
2. 镀膜厚度：设备的镀膜厚度应具备高精度和高均匀性，能够满足产品的性能要求。
3. 真空度：设备的真空度应能够达到一定的水平，以保证薄膜的质量和性能。
4. 温度：设备的温度控制应精确稳定，以保证镀膜材料的熔融和结晶过程。
5. 清洁度：设备的清洁度应能够达到一定的水平，以保证薄膜的质量和性能。
6. 生产效率：设备的生产效率应能够满足生产的需求，以提高生产的效率和降低成本。
7. 自动化程度：设备的自动化程度应高，能够实现自动控制和调节，减少人工操作和提高生产效率。
8. 安全性：设备的安全性应符合相关的标准和规范，能够保证操作人员的安全和设备的稳定运行。
真空镀膜企业标准
真空镀膜企业标准
以下是一个真空镀膜企业标准的示例，供你参考。
请注意，这只是一个示例，你可以根据你的具体需求和企业情况进行修改和完善。
1. 范围
本标准规定了真空镀膜产品的技术要求、检验方法、检验规则以及包装、标志、运输和储存等要求。
2. 规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。
凡是注日期的引用文件，仅所注日期的版本适用于本文件。
凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。
3. 术语和定义
下列术语和定义适用于本文件。
4. 技术要求
4.1 外观
4.2 厚度
4.3 附着力
4.4 耐磨性
4.5 耐腐蚀性
5. 检验方法
5.1 外观检验
5.2 厚度测量
5.3 附着力测试
5.4 耐磨性测试
5.5 耐腐蚀性测试
6. 检验规则
6.1 检验分类
6.2 出厂检验
6.3 型式检验
7. 包装、标志、运输和储存7.1 包装
7.2 标志
7.3 运输
7.4 储存
8. 质量保证
应明确企业对产品质量的保证和承诺。
请注意，以上示例仅供参考，你可以根据实际情况进行修改和完善。
另外，真空镀膜涉及到的技术和要求可能较为专业和复杂，建议你在制定企业标准时咨询相关专业人士或参考相关的行业标准。
国泰镀膜机说明书
国泰镀膜机说明书摘要：一、前言二、国泰镀膜机的简介1.产品型号2.镀膜机的用途3.镀膜机的工作原理三、国泰镀膜机的主要性能参数1.镀膜速度2.镀膜厚度3.电源要求4.环境要求四、国泰镀膜机的主要组成部分1.主机2.电源设备3.真空系统4.控制系统五、国泰镀膜机的安全操作规程1.开机前的准备2.操作过程中的注意事项3.关机后的处理六、国泰镀膜机的维护与保养1.日常维护2.定期检查3.故障排除七、附录1.技术参数表2.操作流程图3.常见问题解答正文：【前言】国泰镀膜机是一款高性能的镀膜设备，广泛应用于各种工业领域。
本说明书旨在帮助用户了解国泰镀膜机的基本信息、性能参数、操作方法、维护保养等方面的内容，以确保设备的正常运行和安全性。
【国泰镀膜机的简介】国泰镀膜机是一种采用真空镀膜技术对物体表面进行处理的设备。
产品型号为CM-XX，适用于金属、非金属、陶瓷等材料的表面处理。
设备的主要用途包括提高材料表面的硬度、耐磨性、抗腐蚀性等性能，从而提高产品的使用寿命和品质。
【国泰镀膜机的工作原理】国泰镀膜机的工作原理是通过真空蒸发、溅射等方法，将金属或非金属材料蒸发成原子或分子，并在物体表面沉积形成一层厚度均匀、性能优良的膜层。
设备采用高真空技术，以保证镀膜过程的顺利进行和镀膜质量的稳定。
【国泰镀膜机的主要性能参数】1.镀膜速度：根据不同的材料和镀膜要求，国泰镀膜机的镀膜速度可在一定范围内调整。
2.镀膜厚度：设备可精确控制镀膜厚度，以满足不同应用场景的需求。
3.电源要求：国泰镀膜机需要接通220V/50Hz的交流电源，以确保设备的正常运行。
4.环境要求：设备应安装在通风良好、无腐蚀性气体的环境中，避免阳光直射和潮湿。
【国泰镀膜机的主要组成部分】1.主机：主机是国泰镀膜机的核心部分，包括真空腔体、镀膜室、样品架等组件。
2.电源设备：为设备提供稳定的电源，保证镀膜过程的顺利进行。
3.真空系统：采用高真空技术，确保镀膜过程在真空环境下进行，以提高镀膜质量。
真空镀膜机安全管理规定（5篇）
真空镀膜机安全管理规定真空镀膜设备是电阻加热式蒸发真空镀膜设备。
操作人员必须详细阅读该机说明书，了解设备结构、工作原理、操作程序并由专业人员指导培训，熟练掌握各操作要领。
经有关专业人员确认符合操作规范，方能独立上岗操作。
一、该机开机前应先检查电控柜的接线是否有松脱现象，接上电源，并检查真空室内电极绝缘性，钨丝接触是否可靠，工件架转动是否自如。
联轴器，输入电极接触是否良好，各密封处特别是动密封处是否良好。
还需检查扩散泵、旋片泵、罗茨泵、滑阀泵等的油量是否满足要求。
提供的电源、气源，各种机械泵转向都应正确。
注意：试验罗茨泵转向一定要在真空状态下进行。
经过上述检查，各项性能良好，才能进行抽气试机。
如果镀膜室长期暴露大气，还必须进行“炼气”，就是按照操作规程，不进行镀膜，只让机械泵、扩散泵等连续抽气，察看真空度上升的稳定情况，若真空度保持稳定，才能进行下一步操作。
一般“炼气”时间要达____小时以上。
调试时主要检查：1.真空检漏2.检查极限压强3.抽气时间二、满足以上各项检查后，进入操作和使用：1.在非特殊情况下，请勿以断拉闸(断电)方式停机。
2.本设备通电及运行过程中，请勿触摸电气控制柜内部和外部用电器件，注意安全。
3.确认安全无误时才能操作设备。
4.不要将设备交给非本设备操作人员操作。
5.设备及电源控制柜必须良好接地。
6.非专业人员请不要维修本设备。
三、工作中还必须注意以下几点：1.平时，整个系统要保持真空状态，工作前才充入气体，不要使真空室长期暴露在大气中;2.真空室镀膜____次后，要清洗真空室和工作支撑架;3.经常检查胶封是否良好，特别是动密封圈，定期给动密封圈加上真空脂;4.定期检查电气元件，清除灰尘，更换烧坏的电器元件;5.在真空状态下不得拆卸扩散泵和阀门;6.罗茨泵、粗抽泵、维持泵要定期加油，换油(保持油面在油镜中心为佳);7.充气阀门充气动作失灵时，必须进行检修;8.镀膜完毕时先关闭真空测量计，再关闭精抽、前置阀，待精抽阀、前置阀完全关闭后才能充入大气，否则会烧坏电离规管，氧化扩散泵油及发生不必要的以外;9.镀膜机在工作过程中，不得断水，若在工作过程中突然停电，应马上关闭精抽阀门，减少因系统漏气泵油的氧化;10.关罗茨泵后一定要经过____分钟后才能关粗抽泵，否则会因为罗茨泵在转速较高时充入气体，会损坏罗茨泵。
真空镀膜工艺
真空镀膜工艺真空镀膜工艺是近几十年来新兴的一种重要的材料制备技术，它涉及到涂覆物的表面保护和性能改进的问题，是材料加工和制造技术的重要组成部分。
随着科技的不断发展，真空镀膜技术已经在汽车、航空航天、电子信息、制药等各个领域得到广泛应用。
一、真空镀膜的基本原理真空镀膜是一种利用真空条件下对材料表面进行涂覆的技术，其基本原理是通过热源将原子或分子释放出来，形成热蒸气，在真空环境中，当热蒸气冷却下来并与表面发生化学反应时，会形成一层薄膜。
二、真空镀膜的工艺流程真空镀膜的工艺流程一般可分为三个阶段：加工前准备、真空镀膜和加工后处理。
1、加工前准备：这一步是镀膜过程中最重要的一步，要求表面粗糙度必须符合要求，并进行静电喷涂、磨光处理等表面处理工艺，以保证镀层的质量。
2、真空镀膜：涂覆材料的发泡、烘烤、真空和冷却等步骤，在真空镀膜工艺中起着关键作用，可以确保镀层的质量和性能。
3、加工后处理：它包括金属斑点的消除、打磨抛光、修补抛光等步骤。
三、真空镀膜的特点1、制作精度高：真空镀膜可以制作各种形状的精细镀层，具有良好的外观和抗腐蚀性。
2、抗腐蚀性强：真空镀膜制品可以在各种恶劣的环境条件下长期正常使用，具有良好的抗腐蚀性和耐磨性。
3、工艺流程简单：真空镀膜工艺流程简单，操作简单，操作工人要求不高，制作效率高，为用户节约成本、提高生产效率。
四、真空镀膜的应用真空镀膜工艺在汽车、航空航天、电子信息、制药等领域的应用也是越来越广泛,其应用的产品有汽车镜子、航空和航天件、半导体组件、制药设备等。
1、汽车镀膜：汽车镀膜可以有效地防止汽车表面受到气流冲击、湿气侵蚀、离子雾污染、光、电子辐射等环境污染的影响。
2、航空航天件镀膜：它可以防止紫外线辐射的危害，还能提高产品的耐磨性、耐热性和抗紫外线性能。
3、半导体组件镀膜：它可以提高组件的散热性能，减少静电干扰，延长组件的使用寿命。
4、药剂设备镀膜：它可以防止药液薄膜损坏，保护药物的安全性，以及提高药物的分散性和可溶性。
第十二篇真空镀膜的标准
第十章真空镀膜工艺为使光学零件能满足在光电仪器及元器件中所需的光学，电学，物理性能，而可以在其表面上镀一层，多层乃至上百层的薄膜。
例如增透膜、反射膜、分光膜、滤光膜、电热膜、保护膜、偏振膜等。
光学零件的镀膜主要分物理和化学镀膜两类。
由于真空技术和膜系监控技术的发展，较易获得性能稳定，结构复杂的膜层。
故在生产中多以真空镀膜法为主。
按照薄膜的使用性能分类，常见的膜层有：增透膜，反射膜，分光膜，滤光膜，电热膜，导电膜及保护膜等。
按照薄膜的结构可以分为单层膜，双层膜及多层膜等。
下面我们将就真空镀膜的基本知识作一些介绍。
一、真空的获得1．真空的基本知识“真空”是指压力低于一个大气压的任何气态的空间。
在这种空间中气体是比较稀薄的，至少比大气要稀薄，但是绝对的“真空”，即没有任何气态微粒的空间是找不到的，就是在远离地球一万公里处、每立方厘米也有3～4千个空气的分子。
由于真空度大小仍然是气体压力大小的问题，所以计量压强的单位也就是计量真空度的单位。
国际标准单位为帕斯卡（Pa），也可用“托”(Torr)、“巴”(bar)和“毫巴”(mbar)来计量，他们之间的关系如下式：1标准大气压=1.01×105帕斯卡（Pa）=760托(Torr)=1.01×103毫巴2．为什么需在真空中镀膜在常压下蒸镀膜料无法形成理想的薄膜，事实上，如在压力不够低(或者说真空度不够高)的情况下同样得不到好的结果，比如在102 托数量级下蒸镀铝，得到的膜层不但不光亮，甚至发灰、发黑，而且机械强度极差，用松鼠毛刷轻轻一刷即可将铝层破坏。
蒸镀必须在一定的真空条件下进行，这是因为：（1）．较高的真空度可以保证汽化分子的平均自由程大于蒸发源到基底的距离。
由于气体分子的热运动，分子之间的碰撞也是极其频繁的，所以尽管气体分子运动的速度相当的高(可达每秒几百米)，但是由于它在前进的过程中要与其它分子多次碰撞，一个分子在两次连续碰撞之间所走的距离被称为它的自由程，而大量分子自由程的统计平均值就被称为分子的平均自由程。
ZZ1100箱式真空镀膜机说明书
1、概述本设备采用箱式结构，抽气系统后置，便于拆卸和维修。
整机表面平整，便于清洁，适合净化间安装。
蒸发室全部采用不锈钢制造，外有可通冷、热水的护罩，可对壁进行加热(热水器选配)或冷却。
蒸发室底板有足够的面积布置蒸发源和各种接头。
阀门采用气动，操作方便，使用可靠。
液氮冷阱和水冷挡板设计为一整体。
蒸发室抽气口也设置一光学密封机械挡板，因此可使蒸发室的油污染降低到极低的程度。
本设备配备的抽气元件抽速较大，因此具有抽气时间短，工作真空度高，生产周期短等特点。
本设备适用于镀制各种多层光学薄膜和电学膜。
是有关工厂、研究院和大专院校进行生产和科研的理想设备。
2、主要技术数据2.1真空：2.1.1极限真空：2×10-4Pa。
2.1.2恢复真空：从大气→2×10-3Pa≤10min。
2.2 蒸发室：2.2.1直径：内部为φ1100mm。
2.2.2内腔尺寸：φ1100×1300mm。
2.2.3底板上有45个φ33.5通孔和2个斜光路孔。
3.3工件夹具：2.3.1外径φ1000mm。
2.3.2锥形球面夹具：2.3.3夹具转速N=3～31r.p.m。
2.4基片烘烤：可安装上下烘烤装置或其中一种，上烘烤为电阻丝（管状加热器）18KW(350℃全烘烤)；下烘烤为碘钨灯8KW(选配)，最高烘烤温度350℃，有上下烘烤接口。
2.5电阻蒸发电极：由技术协议确定，功率5KW/只。
2.6 2.7离子轰击：轰击电压0—300V2.8抽气系统2.8.1 主泵：K-630高真空油扩散泵，抽速12000L/s2.8.2 前级泵：ZJP-300罗茨泵，抽速300L/s2.8.3 2X-70机械泵：抽速70L/s2.9光路系统：2.9.1透、反射光路。
2.9.2六位(12位)比较片，另留一石英探头位置。
2.10其它2.10.1电源：3相220V/380V 50Hz2.10.2总功率：约40KW2.10.3耗水：约30L/min2.10.4压缩空气：5～6Mpa2.10.5水压:0.2～0.25MPa2.10.6总重量：（包括控电柜）约5吨2.10.7外型尺寸：主机：1390×3500×2300（宽×深×高）控电柜：1400×600×2100（宽×深×高）3、工作原理及结构说明该镀膜机由主机、控电柜二部份组成。
真空镀膜技术尹允斌
真空镀膜技术尹允斌发布时间：2021-09-09T09:12:39.795Z 来源：《中国科技人才》2021年第17期作者：尹允斌[导读] 真空镀膜是在真空环境下，金属或金属氧化物变成气态原子或分子，沉积在金属或非金属表面而形成。
和传统的电镀法相比，真空镀膜具有低能耗、无毒、无废液、污染小、成本低、装饰效果好、金属感强等优点，是一项很有发展前途的技术。
目前使用最广泛的镀膜方法，主要有热蒸发镀膜法和磁控溅射法。
新柯隆真空设备贸易（深圳）有限公司（CS）广东深圳 518040摘要：真空镀膜是在真空环境下，金属或金属氧化物变成气态原子或分子，沉积在金属或非金属表面而形成。
和传统的电镀法相比，真空镀膜具有低能耗、无毒、无废液、污染小、成本低、装饰效果好、金属感强等优点，是一项很有发展前途的技术。
目前使用最广泛的镀膜方法，主要有热蒸发镀膜法和磁控溅射法。
本文分别对现有真空镀膜机器的主要原理进行论述。
关键词：真空镀膜技术；镀膜方法；应用一、离子镀膜技术离子镀是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基片上。
离子镀把气体的辉光放电、等离子体技术与真空蒸发镀膜技术结合在一起，不仅明显地提高了镀层的各种性能，而且大大地扩充了镀膜技术的应用范围。
1、离子镀膜原理基片为阴极，蒸发源为阳极，建立一个低压气体放电等离子区镀材被气化后，蒸发粒子进入等离子区被电离，形成离子，被电场加速后沉积到基片上成膜沉积和溅射同时进行实现离子镀膜的必要条件：○造成已给气体放电的空间○将镀料原子（金属或非金属原子）引进放电空间，使其部分离化。
2、离子镀膜的优点及缺点优点：①膜层附着性好，溅射清洗，伪扩散形成②膜层密度高（与块体材料相同）；正离子轰击③绕射性能好④可镀材料范围广泛⑤有利于化合物膜层的形成⑥沉积速率高，成膜速率块，可镀较厚的膜层⑦清洗工序简单、对环境无污染缺点：①薄膜中的缺陷密度较高，薄膜与基片的过度区较宽，应用中收到限制（特别是电子器件和IC）②由于高能粒子轰击，基片温度较高，有时不得不对基片进行冷却③薄膜中含有气体量较高3、离子轰击的作用薄膜沉积前对基片的离子轰击。
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5、供电电源：380V 三相 50Hz 或 220V 单相
50Hz(由所用电器需要而定)；电压波动范围： 342-399V 或 198-231V；
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频率波动范围：49-51Hz. 6、设备所需的压缩空气，液氮，冷水、热
水等的压力、温度，消耗量等，均应在产品使用
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的位置。 6、合理布置加热装置，一般加热器结构布
局应使被镀工件温升均匀一致。 7、工件架应与真空室体绝缘，工件架的设
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计应使工件膜层均匀 8、离子镀膜设备一般应具有工件负偏压和
离子轰击电源，离子轰击电源应具有抑制非正常
说明书中写明。
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7、设备周围环境整洁，空气清洁，不应有
引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间 导电的尘埃或气体存在。
东
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放电装置，维持稳定
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9、真空室接不同电位的各部分间的绝缘电
阻值的大小，均按 GB/T11164-1999 中的 4.4.6
1、环境温度：10-30oC 2、相对湿度：不大于 75%
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3、冷却水进水温度：不高于 25oC 4、冷却水质：城市自来水或相当质量的水
1、真空镀膜机中的真空管道、静态密封零
部件（法兰、密封圈等）的结构形式，应符合 GB/T6070 的规定。
2、在低真空和高真空管道上及真空镀膜室
上应安装真空测量规管，分别测量各部位的真空 度。当发现电场对测量造成干扰时，应在测量口
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处安装电场屏蔽装置。 3、如果设备使用的主泵为扩散泵时，应在
泵的进气口一侧装设有油蒸捕集阱 4、设备的镀膜室应设有观察窗，应设有挡
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板装置。观察窗应能观察到沉积源的情况以及其
他关键部位。
5、离子镀沉积源的设计应尽可能提高镀膜
过程中的离化率，提高镀膜材料的利用率，合理 匹配沉积源的功率，合理布置沉积源在真空室体