材料分析技术4

合集下载

现代材料分析方法——四大分析方法的应用论文

现代材料分析方法——四大分析方法的应用论文

四大分析方法及应用摘要:本文论述材料的X射线粉末衍射分析(XRD)、电子显微分析、能谱分析(XPS,UPS,AES)和热分析(TG,DTA, DSC)等测试原理、制样技术、影响因素、图谱解析以及它们在材料研究中的具体应用。

以一些常见的化合物为基质的各类复合或是掺杂的材料为例,来重点介绍XRD、电镜、热分析等在研究材料物相组成、结构特征、形貌等方面的应用。

关键词:TiO2,XRD,SEM,XPS,TG,DTA前言由于铝等一些金属和无机物的优良的性质,如铝的密度很小,仅为2.7 g/cm3,虽然它比较软,但可制成各种铝合金,如硬铝、超硬铝、防锈铝、铸铝等。

.铝的导电性仅次于银、铜,虽然它的导电率只有铜的2/3,但密度只有铜的1/3,所以输送同量的电,铝线的质量只有铜线的一半铝是热的良导体,它的导热能力比铁大3倍,工业上可用铝制造各种热交换器、散热材料和炊具等。

铝有较好的延展性(它的延展性仅次于金和银),在100 ℃~150 ℃时可制成薄于0.01 mm 的铝箔。

铝的表面因有致密的氧化物保护膜,不易受到腐蚀,常被用来制造化学反应器、医疗器械、冷冻装置、石油精炼装置、石油和天然气管道等。

铝热剂常用来熔炼难熔金属和焊接钢轨等。

铝还用做炼钢过程中的脱氧剂。

铝粉和石墨、二氧化钛(或其他高熔点金属的氧化物)按一定比率均匀混合后,涂在金属上,经高温煅烧而制成耐高温的金属陶瓷,它在火箭及导弹技术上有重要应用。

所以工业上应用非常广泛。

1 X射线衍射分析(XRD)1.1 X射线衍射仪仪器核心部件:光源---高压发生器与X 光管、精度测角仪、光学系统、探测器、控测,数据采集与数据处理软件、X射线衍射应用软件。

定性相分析(物相鉴定):目的:分析试样属何物质,那种晶体结构,并确定其化学式。

原理:任何结晶物质均具有特定结晶结构(结晶类型,晶胞大小及质点种类,数目分布)和组成元素。

一种物质有自已独特衍射谱与之对应,多相物质的衍射谱为各个物相行对谱的叠加。

材料分析4

材料分析4
*表示卡片数据高度可靠。 表示卡片数据高度可靠。 表示卡片数据高度可靠 O可靠程度较低。 可靠程度较低。 可靠程度较低 无符号则表示可靠程度一般。 无符号则表示可靠程度一般。
⑤为实验条件. 为实验条件 为物质的晶体学数据. ⑥为物质的晶体学数据 ⑦为物质的物理性质数据 ⑧为试样来源、制备方式及化学分析数据 为试样来源、 为晶面间距, ⑨为晶面间距,相对强度及干涉指数
2
物相分析
物相分析是指确定物质(材料)由哪些相组成( 物相分析是指确定物质(材料)由哪些相组成(即物相 定性分析或称物相鉴定)和确定各组成相的含量( 定性分析或称物相鉴定)和确定各组成相的含量(常以 体积分数或质量分数表示,即物相定量分析)。 体积分数或质量分数表示,即物相定量分析)。
3
一、物相定性分析
22
二、物相定量分析
1.基本原理 基本原理 定量分析的任务是确定物质(样品 中各组成相的相对含量 定量分析的任务是确定物质 样品)中各组成相的相对含量。 样品 中各组成相的相对含量。 由于需要准确测定衍射线强度, 由于需要准确测定衍射线强度,因而定量分析一般都采 用衍射仪法。设样品中任意一相为j,其某(HKL)衍射线 用衍射仪法。设样品中任意一相为 ,其某 衍射线 强度为I 其体积分数为f 样品(混合物 线吸收系数为µ 混合物)线吸收系数为 强度为 j,其体积分数为 j,样品 混合物 线吸收系数为µ; 定量分析的基本依据是: 的增加而增高; 定量分析的基本依据是:Ij随fj的增加而增高;但由于样 品对X射线的吸收 射线的吸收, 亦不正比于f 而是依赖于I 品对 射线的吸收,Ij亦不正比于 j,而是依赖于 j与fj及µ 之间的关系。 之间的关系。
(4)检查这几列数据中第三个 值是否与实验值相对应。 检查这几列数据中第三个d值是否与实验值相对应 检查这几列数据中第三个 值是否与实验值相对应。 再检查后面其余的八强线, 再检查后面其余的八强线,并从中找出最可能的物相及 卡片号。 卡片号。 (5)将实验所得d及 I / I1 与卡片上的数据详细对照,如 )将实验所得 及 与卡片上的数据详细对照, 果对应很好,则物相鉴定结束。 果对应很好,则物相鉴定结束。

材料分析方法总结

材料分析方法总结

材料分析方法总结材料分析是指对各种材料的成分、结构、性能等进行分析研究的方法。

在工程、科学研究和生产中,材料分析方法的选择和应用对于材料的质量控制、性能评价和新材料的开发具有重要意义。

本文将对常见的材料分析方法进行总结,以便读者对材料分析有一个全面的了解。

一、光学显微镜。

光学显微镜是一种常用的材料分析仪器,通过对材料进行放大观察,可以得到材料的表面形貌、组织结构等信息。

适用于金属、陶瓷、塑料等材料的观察和分析。

二、扫描电子显微镜(SEM)。

扫描电子显微镜是一种使用电子束来扫描样品表面并获取图像的仪器。

相比光学显微镜,SEM具有更高的放大倍数和更高的分辨率,适用于对材料表面微观形貌的分析。

三、X射线衍射(XRD)。

X射线衍射是一种通过照射材料表面并测量衍射图样来分析材料晶体结构的方法。

通过X射线衍射,可以确定材料的晶体结构、晶格常数等信息。

四、透射电子显微镜(TEM)。

透射电子显微镜是一种使用电子束穿透样品并形成透射电子图像的仪器。

TEM 可以观察材料的晶体结构、位错、界面等微观结构特征。

五、质谱分析。

质谱分析是一种通过对材料中的离子进行质量分析来确定材料成分的方法。

质谱分析可以对材料的元素组成、分子结构等进行准确的分析。

六、热分析。

热分析是一种通过对材料在控制温度条件下的热性能进行分析的方法,包括热重分析(TGA)、差示扫描量热法(DSC)等。

热分析可以得到材料的热分解特性、热稳定性等信息。

七、核磁共振(NMR)。

核磁共振是一种通过测量材料中核自旋的共振信号来分析材料成分和结构的方法。

NMR可以对材料的分子结构、化学环境等进行分析。

以上是常见的材料分析方法的简要总结,每种方法都有其适用的范围和特点。

在实际应用中,需要根据具体的分析目的和样品特点选择合适的分析方法,并结合多种方法进行综合分析,以确保获得准确、全面的分析结果。

希望本文对材料分析方法的选择和应用提供一定的参考和帮助。

材料分析方法-第四章

材料分析方法-第四章

式中,K 值对于某一底片 是恒定的。
四、立方系物质德拜相的计算
➢通过德拜相的计算,可以获得物相、点阵类型和点阵参数等 初步资料。 ➢德拜法衍射花样测量:测量衍射线条相对位置和相对强度。 然后,再计算出衍射θ角和晶面间距d。 ➢每个德拜像:包括一系列衍射弧对,每衍射弧对是相应衍射 圆锥与底片相交痕迹,代表一族{hkl}干涉面的反射。
Z靶=Z样+1
K靶 K样 K靶
按样品的化学成分选靶
c. 对含多种元素样品,按含量较多元素中Z 最小元素选靶。 此外:选靶还应考虑: 入射线波长λ对衍射线条数的影响。 因sinθ≤1,衍射条件:d≥λ/2 , 则波长λ越长,可产生的衍射线条越少。
Z靶 Z试样+1
2)滤波片选择( X射线单色化): 滤波片材料:根据阳极靶材来选择。同样用吸收限原理。 使滤波片材料吸收限λK滤 处于入射线Kα与Kβ波长之间,
在测量之前,要判断底片的安装方法,区分高角区和低角区。
•低角线条较窄且清晰,附近背底较浅。 •高角线条则相反。
步骤
1) 弧对标号 如图4-7所示,过底片中心画一条基准线,从低角
区起按递增顺序标1-1、2-2ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ3-3等。
2) 测量C0 在高低角区分别选一个 弧对,测量A和B,用式(4-2) 算C0 (精确到0.1mm)
就可确定物相组成、点阵类型、晶胞尺寸等重要的问题。
4)实验方法
1.试样的制备 ➢ 圆柱试样:粉末集合体或多晶体细捧。Φ0.5mm×10mm。
➢ 块状金属或合金:用锉刀挫成粉末,但内应力大,会导致衍射 线变宽,不利于分析,故须在真空退火。
➢ 脆性样:先打碎-研磨-过筛,约250~325目(微米级)。
高角弧线 中心孔
低角弧线

材料分析方法-1-4

材料分析方法-1-4

一、 粉末照相法
7、衍射花样的测量和计算
原则:主要通过测量底片上衍射线条的相对位置计算θ 角,
确定各衍射线条的相对强度。
一、 粉末照相法
一、 粉末照相法
一、 粉末照相法
一般可将底片置于内有照明光源的底片测量 箱毛玻璃上,通过游标卡尺测量获得线对之 间的距离2L,且精度要达0.02-0.1mm。若需 精确测量时,则使用精密比长仪。
二、 X射线衍射仪
测角仪要求与X射线管的线焦斑连接使用,线焦斑的长边与 测角仪中心轴平行。 梭拉光阑由一组互相平行、间隔很密的重金属(Ta或Mo)薄片 组成,代表性尺寸为:长32mm,薄片厚0.05mm,薄片间距0.43mm。 安装时,要使薄片与测角仪平面平形。
二、 X射线衍射仪
(二)X射线探测器的工作原理 探测器是基于X射线能使原子电离的特性而制造的,原子可 以为气体(如正比计数器、盖革计数器),也可以为固体(如闪烁计
一、 粉末照相法
(二)德拜法及德拜相机 德拜法:用单色X射线照射试样,圆环状底片与样品同轴安装 于圆筒相机內,试样位于圆筒中心样架上,获得衍射花样弧对。
一、 粉末照相法
一、 粉末照相法
(三)实验方法 1、底片的安装
一、 粉末照相法
2、试样的制备 试样的要求:试样必须具有代表性;其次试样粉末尺寸大小要适中,第三 是试样粉末不能存在应力。 1)脆性试样 ——打碎—研磨—过250-320目筛(10-3-10-5cm) — 制成 φ0.5×10 mm的圆柱试样。 2)韧性试样——锉削或碾磨—真空退火—制样 3)试样中微量相的分析——电解萃取—清洗—真空干燥—制样 4)试样制备的方法 a、在很细的 玻璃丝涂一层粘结剂,然后在粉末中滚动制成圆柱试样。 b、将粉末填充到硼酸锂玻璃、醋酸纤维、石英制成的毛细管中制成试样。 c、将用酒精调好的粉末填充到金属毛细管中、用铁丝推出一段作试样。 d、 金属丝、棒可直接作试样。

材料分析总结

材料分析总结

材料分析总结材料分析是指通过对材料的性质、组成、结构和特征的观察和分析,对材料进行研究和评价的科学技术。

材料分析广泛应用于工业、生产、科研等领域,其重要性不言而喻。

在这篇文章中,我们将对材料分析的基本原理、方法和应用进行总结和探讨。

一、材料分析的基本原理材料分析的基本原理是通过测量材料的特性,了解材料的成分和结构,从而对材料的性能进行评价。

具体来说,材料分析主要基于以下的原理:1. 物理原理:包括光学、声学、电学、磁学等方面的原理。

比如,用X射线衍射和电子显微镜等技术,可以观察材料的晶体结构和微观组织;用电子和光的特性,可以测量材料的电性和光学性能;用声波的传播特性,可以研究材料的声学性能等。

2. 化学原理:主要包括化学分析和化学反应原理。

比如,用色谱和质谱等技术,可以检测出材料中的化学成分;用化学反应,可以测量材料的化学性质。

3. 统计原理:包括材料力学和热学等方面的原理。

通过测量材料的力学性能和热学性能等特性,可以计算出材料的强度、热膨胀系数等参数。

4. 其他原理:包括计算机模拟和数值分析等方面的原理。

通过使用计算机,可以模拟和分析材料的计算结果和数值实验等。

二、材料分析的方法材料分析涉及多个方面的知识和技术,因此也有多种分析方法。

下面是几种常见的材料分析方法:1. 光学显微镜:通过光学放大技术,观察样品中的微观结构和组织。

2. 扫描电子显微镜(SEM):通过扫描电子束,观察材料表面的形态和微观组织。

3. 透射电子显微镜(TEM):通过透射电子束,观察材料的晶体结构和微观组织。

4. X射线衍射:通过测量材料对X射线的反射和散射,确定材料的晶体结构。

5. 热膨胀测量:通过测量材料在不同温度下的热膨胀系数,确定材料的热学性能。

6. 质谱分析:通过将材料分解为它的化学成分,然后将其分离和测量,确定材料的化学成分。

7. 磁性测量:通过测量材料的磁性特性,了解材料的磁学性能。

8. 核磁共振:通过测量材料的核磁共振谱,确定材料的分子结构和化学成分。

材料分析理论与方法4-XPS

材料分析理论与方法4-XPS

第四章 X射线光电子谱X-ray Photo-electronic Spectroscopy (XPS)一、XPS概述 二、 XPS基本原理本章内容三、XPS谱图结构 四、化学位移 五、 XPS定量分析 六、 XPS分析应用一、概述在X射线作用下, 电子从物质原子中被激发出来成为光电 子 。

由于各种原子轨道中电子的结合能是一定的,为各种元 素的特征,因此可以根据光电子的能量用来鉴别化学元素。

测量光电子能量和强度分布的,从而获得样品的组成一种谱 学方法即为X射线光电子谱(XPS)。

光电子在逸出的路径上自由程很短,实际能探测的信息深 度只有表面几个至十几个原子层,因而XPS是典型的表面分析 的方法。

由于其用于测定固体表面的化学成分, 因而XPS又称 为化学分析光电子能谱法 (Electron Spectroscopy for Chemical Analysis,ESCA )。

1 XPS的特点各元素的灵敏度差异小(≤10倍),便于比较。

相邻元素光电子峰能量差别大,干扰少。

例如: C 1s=285eV N 1s =400eV 表面灵敏度高: X-射线不能聚焦取样面积大;光电子 能量小,平均自由程短,信息深度≤10层原子。

破坏性最小 : 软X射线, 未聚焦, 单位面积X光子数少。

对真空度的要求中等:X-射线比较柔和的特性使我们有 可能在中等真空程度下对表面观察若干小时而不会影响 测试结果,这是其它方法都做不到的。

当用电子束激发 时,如用AES法,必须使用超高真空,以防止样品上形成碳 的沉积物而掩盖被测表面。

便于进行化学状态分析: 化学效应也是XPS法不同于其它 方法的另一特点,即采用直观的化学认识即可解释XPS中的 化学位移,相比之下,在AES中解释起来就困难的多。

XPS的局限性:由于X-射线不能聚焦,分析斑的面积大, 使得XPS空间分辨率低。

2 X-射线光电子 能谱仪XPS分析仪 外观图A Shimadzu Group CompanyAXIS Ultra 型XPS仪XPS仪内部机构电子能量分析器电子能量分析器部分已 经在介绍过,下面介绍 激发光路部分激 发 光 路photoelectrons浸没式磁透镜作用The magnetic immersion lens is positioned below the sample and focuses photoelectrons onto the spot size aperture.apertureMagnetic flux linesIris光阑sampleAXIS 磁透镜收集光电子的立体角A solid cone of photoelectrons are collected from the surface. The solid angle of collection indicated by θ in the diagrams below, is defined by the lens mode used and the continuously variable iris setting. θ1θ1 = ± 15° θ2 = ± 7° θ2 θ1 = ± 6° θ2 = ± 1.5° iris θ1θ2SampleMagnetic ModeSampleElectrostatic ModeK①②E bX射线光电子产生示意图(比较:入射源为电子时)N MLK①②h ν>EbE’kEKLM E b'ks b EE hv ++=φks b E V e E hv +Δ++=φ仅考虑逸出功考虑逸出功+接触电位差此外,光电子能量还受样品表明逸出功、样品sp k b s kb E E V e E E hv φφ++=+Δ+′+=φsp 为防止电荷积累,样品与谱仪须保持良好电接触,两者费米能级一致。

材料分析方法有哪些

材料分析方法有哪些

材料分析方法有哪些材料分析是通过对材料进行实验和测试,以获取其物理、化学、力学等性质信息的过程。

在材料科学和工程领域,常用的材料分析方法有以下几种:1. 光学显微镜:利用光学原理观察材料的形貌和组织结构。

可以通过改变倍数和焦距来调整观察尺度,从宏观到微观尺度获得不同的信息。

2. 扫描电子显微镜(SEM):通过对材料表面扫描电子束的反射和散射得到显微图像。

SEM不仅可以获得高分辨率的表面形貌信息,还可以进行能谱分析,获取元素的分布和化学组成。

3. 透射电子显微镜(TEM):基于电子束穿透材料并与材料相互作用的原理,可以获得高分辨率的材料内部结构和纳米尺度特征。

通过对电子的散射和衍射进行分析,可以提供关于晶体结构、化学成分和晶体缺陷的信息。

4. X射线衍射(XRD):通过测量材料对入射X射线的衍射角度和强度,可以确定材料的晶体结构、晶格常数和晶体缺陷。

XRD还可以用于确定晶体的相对含量、定量分析和表面膜的晶体结构等。

5. 质谱法:将材料分子或原子中的成分分离、离子化和检测,然后通过质谱仪对离子进行分析和测量,以确定材料的化学成分和分子结构。

6. 热分析法:包括差示扫描量热法(DSC)、热重分析法(TGA)和热膨胀分析法(TMA)等。

通过对材料在不同温度和时间条件下的重量、热量和尺寸变化进行测量和分析,可以确定材料的热性能、热分解行为和热膨胀系数。

7. 磁性测试:通过对材料在外加磁场下的磁化行为进行测量和分析,可以确定材料的磁化强度、磁滞回线和磁相图等。

8. 电化学测试:通过对材料在电化学条件下的电流、电压和电荷等性质进行测量和分析,可以确定材料的电导率、电极反应和电化学性能等。

除了上述常用的分析方法,还有一些特殊的分析方法,如红外光谱法(IR)、核磁共振谱法(NMR)、电子自旋共振谱法(ESR)等,可以根据不同的实验需求进行选择和应用。

材料分析技术

材料分析技术

材料分析技术扫描电子显微镜一、基本原理 理论基础:V225.1=λ,电子波长由加速电压V 决定。

电子与物质的相互作用①二次电子:从距样品表面100埃左右深度范围内激发出来的低能电子,能量较低。

因此二次电子的反射区域与入射电子束轰击的区域重合度很好,故成像分辨率很高。

表面形貌信息的主要来源,也可以观测磁性材料和半导体材料。

②背散射电子:除了可以显示表面形貌外,还可以显示元素分布状态和相轮廓。

③吸收电子:这部分电子在试样和地之间形成的电流等于入射电子流和反射电子流的差额,可以用来显示样品元素表面分布状态和试样表面形貌。

④X 射线:进行微区元素的定性和定量分析。

扫描电子显微镜就是通过电子枪发射高能量的电子束,与样品之间发生相互作用,产生各种电子和射线,并将其收集转换成信号。

分辨本领:几十到一百埃。

二、所得图像二次电子像产生的二次电子被旁边的正电位收集极经转换后变成图像信号。

二次电子的反射量主要取决于样品表面的起伏状况,如果电子束垂直于表面入射,则二次电子反射量很小。

且二次电子像是一种无影像。

表面电位会影响二次电子量的变化,因此可以利用电压发差效应研究半导体器件的工作状态。

背散射电子像收集极电位为零,不经加速,因此背散射电子像是一种有影像。

背散射电子发射量还与样品的原子序数有关,原子序数越大,散射量越大,因此还可以反映样品表面平均原子序数分布。

但背散射电子像分辨本领较差。

吸收电流像研究晶体管或集成电路的PN 结性能与晶体缺陷和杂质的关系。

X 射线及X 射线显微分析当具有一定能量的入射电子束激发杨平时,样品中的不同元素将受激发射特征X 射线。

各种元素特征X 射线波长与其原子序数Z 之间存在着一定的关系,可以用莫赛莱定律表示:()σν-=Z K 。

能量色散法(EDX )三、对样品的要求1. 观测的样品必须为固体(块状或粉末),在真空条件下能保持长时间的稳定。

有水分的样品应进行预先的干燥;有氧化层的样品需剥离氧化层;有油污的样品应先清洗干净。

材料分析方法(第4版)-第十二章

材料分析方法(第4版)-第十二章

信 号 二次电子 背散射电子 吸收电子 特征X射线 俄歇电子
深度范围 5~10
50~200 100~1000 100~1000 0.5~2
由表12-1 可见,产生俄歇电子的样品深度最小,其次为二次电子,吸 收电子和特征X射线产生的样品深度范围最大。 如图12-7,电子束在样品中一般扩展成一个滴状区域,其扩展区域深度和 形状受加速电压和样品原子序数的影响,扩展区域随加速电压升高而增大, 随样品原子序数增大而减小
5
材料分析方法-第四版
——高等学校优秀教材
第一节扫描电子显微镜的系统结构和工作原理
一、电子光学系统 3. 扫描线圈
扫描线圈的作用是使电子束偏转
,并在样品表面作有规则的扫描,
两 种 方 式 见 图 12-2 表 面 形 貌 分 析 时
,采用光栅扫描方式,电子束在样
品表面扫描出方形区域电子通道花
样分析时,采用角光栅(摇摆)扫描方
三、环境扫描模式与GSED电子探头
GSED探头工作原理:如图12-6所示,入射电子束与样品相互作用产 生的二次电子逸出样品表面,在环境二次电子探测器所加的几百伏正电压 的作用下加速向上运动;这些加速运动的二次电子与气体分子碰撞,使其
电离,产生正离子和电子(称为环境二次电子); 这个电子加速和气体电
离过程反复进行,导致原始
图12-4 低真空模式示意图
电子枪和镜筒的高真空依靠机械 泵和分子涡轮泵控制,而样品室的 压力则依靠调节外接水蒸气的浓度 ,在10~130Pa间自由切换。低真空 模 式 下 所 用 的 电 子 探 头 是 LFD ( large field detector)探头。
材料分析方法-第四版
——高等学校优秀教材
图12-8 二次电子像分辨率的测定

材料测试技术测资料4

材料测试技术测资料4

1.电子束入射固体样品表面会激发那些信号?它们有那些特点和用途?1背射电子:被固体原子核反弹回来的部分入射电子,弹性背散射:散射角大于90°,能量无变化;非弹背散射:入射电子和核外电子撞击产生,能量方向都变化,表层几百纳米深度,原子序数衬度,形貌衬度,定性成分分析,2二次电子:被入射电子轰出来的核外电子,表层5-10nm深度,表面形貌敏感衬度,分辨率高(扫描电镜分辨率),有效显示样品表面形貌3吸收电子:入射电子进入样品后经过多次非弹性散射能量消失殆尽最后被样品吸收(无透射),与背散射电子衬度互补,反映原子序数定性微区成分分析4透射电子:入射电子穿过薄试样部分,由微区厚度成分晶体结构决定,有些特征能量损失的非弹配合电子能量分析器进行微区成分分析5特征X射线:原子内层电子受激发后,能级跃迁中直接释放的具有特征能量和波长的电磁波辐射,原子序数与特征能量对应关系,微区元素分析6俄歇电子:原子内层电子跃迁过程中释放出的能量将核外空位层电子打出成为二次电子,平均自由程小,俄歇电子特征值,试样表面有限原子层发出,表层化学成分分析2.扫描电镜的分辨率影响因素不同的信号分辨率扫描电镜的分辨率(1)影响因素:入射电子束束斑直径入射束在样品中中扩展效应,信噪比杂散电磁场和机械震动等(检测信号类型,检测部位原子序数)(2)二次电子扫描象分辨本领最高,约等于入射电子束直径,一般为6-10nm,背射电子50-200,吸收电子和X射线100-1000(3)二次电子3.扫描电镜的成像原理与透射电镜有何不同,电子光学系统的排列顺序如何?扫描电镜:逐点成像,把样品表面不同特征,按顺序成比例转化成视频信号完成一帧图像,电子枪发出电子束经栅级聚焦后在加速电压作用下,经过两三个电磁透镜组成的电子光学系统汇聚成细的电子束聚焦样品表面。

透射电镜:透射电镜使用电磁透镜放大成像。

由电子枪和两个聚光镜组成照明系统,产生一束聚焦很细,亮度高,发散度小的电子束,由物镜、中间镜和投影镜三个透镜组成三级放大成像系统,最后在屏幕上得到电子衍射谱4.二次电子像和背散射电子像在显示表面形貌衬度时有何相同与不同之处?相同:都是利用电子信号的强弱来形成形貌衬度不同:1背散射电子是在一个较大的作用体积呗入射电子激发出的,成像单元大,分辨率较二次低2背散射电子能量高,以直线逸出,因而样品背部电子无法检测到,成一片阴影,衬度较大无法分辨细节,二次电子可以利用在检测器收集光栅上加正电压来吸收较低能量的二次电子,使背部及凹坑处逸出电子能以弧状运动轨迹被吸收,使图像层次增加,细节清晰5.二次电子像景深很大,样品凹坑底部都能清楚地显示出来,其原因何在?二次电子对样品表面形貌敏感度强,空间分辨率高,信号收集率高,形成立体在检测器收集光栅上加正电压来吸收较低能量的二次电子,使背部及凹坑处逸出电子能以弧状运动轨迹进入闪烁体被吸收,使图像层次增加,细节清晰6.电子探针仪与扫描电镜有何异同?相同:1镜筒和样品室无本质区别2都是利用电子束轰击固体样本产生信号分析不同:1电子探针检测特征X射线,扫描电镜检测多种信号一般利用二次电子2电子探针得到是元素分布图,用于成分分析扫描电镜得到是表面形貌图电子探针成分透射电镜组织形貌衍射操作晶体结构扫描电镜表面形貌7.波谱仪和能谱仪它们的定义以及各有什么优缺点?能谱:优点:1探测X射线效率高2分析速度快2-3分完成元素定性全分析3探测器尺寸小靠近样品区4不必聚焦使用粗糙表面5工作束流小样品污染小缺点:1分辨率低谱线重叠2能谱中检测器Si(Li)的铍窗口限制超轻元素X射线的测量,只能分析原子序数大于11的元素3能谱探头必须保持低温,使用用液氮冷却4 峰背低低含量分析准确差波谱:1波普通过分光体衍射,探测X射线效率低-灵敏度低2波谱只能逐个测量每种元素特征波长3结构复杂4对样品表面要求高8.波谱仪有哪两种形式。

4、第四章 材料现代分析方法概述

4、第四章  材料现代分析方法概述

§4.5
电子显微分析方法概述
§4.2
衍射分析方法概述
基本目的: 分析材料结构; 技术基础: 电磁辐射或运动电子束、中子束等与材料相互作用 产生相干散射(弹性散射), 相干散射相长干涉的结果——衍射 是材料衍射分析方法的技术基础 分类: X射线衍射分析、 电子衍射分析、 中子衍射分析等。
§4.2
衍射分析方法概述
一、x射线衍射分析 1、x射线照射晶体 晶体中电子产生相干散射 同一原子内各电子散射波 相互干涉形成原子散射波 各原子散射波相互干涉, 在某些方向上一致加强 形成了晶体的衍射波(线)。 2、衍射方向和衍射强度 材料结构分析的两个基本特征. 3、多晶体x射线衍射分析基本方法 衍射仪法与(粉末)照相法。 4、单晶体x射线衍射分析基本方法 劳埃法与周转晶体法。 5、四圆衍射仪
§4.2
衍射分析方法概述
§4.2
衍射分析方法概述
Hale Waihona Puke §4.5电子显微分析方法概述
1、定义: 基于电子束(波)与材料的相互作用 而建立的各种材料现代分析方法。 2、种类: 光谱分析中的电子探针、 能谱分析中的电子激发俄歇能谱、 衍射分析中的电子衍射; 透射电子显微(镜)分析; 扫描电子显微(镜)等 。 3、基本目的: 微观形貌、结构与成分分析.
3依据检测信号与材料的特征关系分析处理读出信号即可实现材料分析的目的基本目的分析材料结构技术基础电磁辐射或运动电子束中子束等与材料相互作用产生相干散射弹性散射相干散射相长干涉的结果衍射是材料衍射分析方法的技术基础分类x射线衍射分析电子衍射分析中子衍射分析等
材料现代分析方法
材料化工学院
第四章
材料现代分析方法概述
般 原 理
§4.1 一 §4.3 §4.4 §4.6 §4.5

材料分析方法4 X射线衍射实验方法

材料分析方法4 X射线衍射实验方法
材料学院 教师:孙继兵 6
德拜相机直径



德拜相机直径为57.3mm或114.6mm。 目的是: 当相机直径为57.3mm时,其上周长为180mm, 因为圆心角为360º,所以底片上每一毫米长 度对应2º圆心角; 当相机直径是114.6mm时,底片上每一毫米 对应1º圆心角,这样做完全是为了简化衍射 花样计算公式。
材料学院
教师:孙继兵
24
七、相机的分辨本领




照相机的分辨本领: 1)当一定波长的X射线照射到两个间距相近的晶面上时, 用衍射花样中两条相邻线条的分离程度来定量表征; 2)它表示晶面间距变化时引起衍射线条位置相对改变的灵 敏程度。 按照 面间距d发生微小改变值d,而在衍射花样中引起线条位置 的相对变化为L,则相机的分辨本领
材料学院 教师:孙继兵 2
多晶体粉末法
第一节
第二节
粉末照相法 X射线衍射仪
材料学院
教师:孙继兵
3
第一节 粉末照相法
一、德拜法及德拜相机 二、试样的要求 三、德拜照相法试样制备 四、底片的安装 五、摄照规程的选择 六、衍射花样的测量和计算 七、相机的分辨本领

材料学院 教师:孙继兵 4
德拜相的计算
材料学院
教师:孙继兵
19
衍射花样的指标化
对立方晶系,衍射方向 对同一试样中同一物相,由于对任何线条所反映的点阵参数 a和摄照条件l均相同,所以可以考虑消掉 a与 l
2 把 sin 2 q 都用 sin q1 来除,得到
其中N为整数

h2 k 2 l 2
由小到大的顺序排列,并考虑到系统消光可以得到
材料学院 教师:孙继兵 35

材料分析方法第三、四章(本科)

材料分析方法第三、四章(本科)

第二节 粉末衍射卡片的组成 图5—1所示为氯化钠晶体PDF卡片的内容构成示意图。
参照图5—1,分析卡片时,要把握以下的关键性信息: (1)d值序列⑨。列出的是按衍射位臵的先后顺序排列的晶面间 距d值序列,相对强度I/I1及干涉指数。 (2)三强线②。两种或两种以上的物质的衍射线条中有一些位 臵相近或相同,但是最强线和次强线通常是不相同的。据此 Hanawalt将d值数列中强度最高的三根线条(三强线)的面间距和相 对强度提到卡片的首位。三强线能准确反映物质特征,受试验条件 影响较小。第四个数字是可能测到的最大面间距③。 (3)物相的化学式及英文名称④。在化学式之后常有数字及大 写字母,其中数字表示单胞中的原子数,英文字母表示布拉菲点阵 类型。 各个字母所代表的点阵类型是:C—简单立方,B—体心立方;F— 面心立方,T—简单四方;U—体心四方,R—简单菱形,H—简单六 方,O—简单斜方,P—体心斜方,Q—底心斜方,S—面心斜方; M—简单单斜,N—底心单斜,Z—简单三斜。例如(Er6F23)116F表示 该化合物属面心立方点阵,单胞中有116个原子。
第一种结晶物质都有自己特定的晶体结构参数: 点阵类型、晶胞大小、原子数目和原子在晶胞中的位臵等。 x射线在某种晶体上的衍射必然反映出带有晶体特征的特定的衍 射花样:衍射位臵θ、衍射强度I。 • 含有n种物质的混合物或含有n相的多相物质的分析: • X光具有一个特性:即两个光源发出的光互不干扰,可得到n种 衍射花样,各个相的各自的衍射花样互不干扰而是机械地叠加,所 以,只要分析时想办法将其区分开即可。
而变化的特征:衍射位臵θ ,而其本质又是晶面间距d,衍射强度I, 它集中反映的是物相含量的多少). 卡片上可以反映物质特有的特征: 物相名称 该物相经x射线衍射后计算得到的d值数列 相对应的衍射强度I。 即ASTM卡片:J.D.Hanawalt于1936年创立,1941年由美国材料试 验协会(American Society for Testing Materials)接管。 又叫PDF卡片:即Powder Diffraction File 又叫JCPDS卡片:“粉末衍射标准联合会“(Joint committee on powder Diffraction Standards).

材料分析测试方法-4

材料分析测试方法-4



《材料分析测试方法》
三、吸收因子

X射线穿过试样时,必然有一些被试样所吸收。 试样的形状各异,X射线在试样中穿过的路径不 同,被吸收的程度也各异。
1.圆柱试样的吸收因素,
反射和背反射的吸收不同,吸收与θ有关。
2.平板试样的吸收因素,
在入射角与反射角相等时,吸收与θ无关。
《材料分析测试方法》
圆柱样品的吸收随θ 角降低而增大
线散射到某一方向的效率。
上节课要点
《材料分析测试方法》
一个晶胞对X射线的散射——结构振幅 或 结构因子F
F表示以一个电子散射振幅度量的单胞中所有原子的散射波
在(hkl)反射方向上的合成振幅。 FHKL 方程也无衍射——称为系统消光。
j 1 当 FHKL 0 时,(HKL)面既使与入射X射线满足布拉格
《材料分析测试方法》
2. 相对强度
实际工作时无需测量I0值,一般只需要强度的相对值, 即相对积分强度,它时同一衍射花样的同一物相各衍射线 的相互比较。 去掉常数项,得:
I 相对
1 cos2 2 P F 2 A e 2 M sin cos
2
《材料分析测试方法》
m 0
N1 1
i 2m
N 2 1 n 0
e
i 2n
N3 1 p 0
i 2p e Ae FG

强度与振幅的平方成正比,故
IM Ie F G
2 2
上节课要点
《材料分析测试方法》
消光规律:



简单点阵: 任意 (hkl) 晶面均可产生衍射,无消光 体心点阵: 当 h+k+l = 2n,(hkl) 晶面衍射 当 h+k+l = 2n+1,(hkl) 晶面消光 面心点阵: 当 h、k、l 全奇或全偶, (hkl)晶面衍射 当 h、k、l 奇偶混杂, (hkl) 晶面消光

材料分析学4-衍射强度

材料分析学4-衍射强度

研究的思路是: ①先要得到整个衍射圆环带的衍射强度; ②要得到衍射圆环带的衍射积分强度,又要研究参入衍射的晶粒数;整个 衍射圆环带的衍射强度等于一个小晶粒产生的衍射积分强度 ③算出衍射圆环带的衍射积分强度后,将衍射圆环带的衍射积分强度除以 环带周长即得单位弧长上积分强度。 结果是:
2 I0 e 4 3 2 1 Cos 2 I VF 2 2 4 32R m c V0 Sin 2 Cos
( 4.39)
1 Cos 2 2 式中: 2 称为角因子。 Sin Cos
讨论: ①由上面的结果可以看出,多晶粉末衍射强度是与角度有关的。虽然非消 光的晶面都能产生衍射,它们都满足布拉格衍射条件,但衍射强度是与θ 角有关的。由图可以看出:在θ=150时(2 θ=300 )角因子是θ=450时 (2 θ=900 )的许多倍。这就是为什么我们得到的衍射图谱,高角度的衍 射峰强度低的原因。 ②这里考虑了(HKL)晶面的随机取向及参加衍射的晶粒数对强度的贡献, 但还未考虑等同晶面(即同一族晶面{HKL},见第一章第五节)对强度的 贡献。 (2)多重性因子 同一晶面族{HKL}的各晶面的晶面间距都相同,由布拉格方程可知, 其衍射线构成统一衍射圆锥面。 将同一晶面族中等同晶面的数目P称为衍射强度的多重性因子,即在其 它条件相同情况下,多重性因子越大,意味着对同一衍射线而言,参加衍 射的晶粒数也越多,衍射强度也越大(乘以多重性因子P)
如果令u* 为原子中心对其平衡位置在垂直于反射晶面面方向 位移平方的平均值(即均方偏离),则
2 Sin 2 * M 8 u 2
( 4.43 ) e
-4 2 u* ( n 2 ) d
e -2M e
Sin2 -16 u ( )
2 *

高纯材料制备技术(4材料分析)

高纯材料制备技术(4材料分析)
October 24, 2013, Beijing, China
达到100级的标准主要靠空气过滤。干燥型高效微粒空气过滤器(HEPA)对 0.3μm微粒的过滤效率为99.97%,经HEPA过滤后的空气流动模式有层气流和 湍气流。湍气流设计通常只能达到美国联邦标准10000~100000级水平,且很 难避免交叉污染,因此多数采用层气流设计方案。 为了控制环境化学空白,除空气质量外,必须精心选择建设实验室所用的材 料(应当选用具有抗氧化、抗腐蚀、耐磨损、不剥落、不吸尘和容易清除污物 的材料);地板最好用均匀打孔的夹层地板;地板和墙壁的连接要圆滑;实验 室墙壁应涂抗腐蚀的环氧树脂漆;室内要求无缝隙,所有窗口和墙壁的孔洞 必须用硅酮堵塞;室内空气压力应高于室外气压;用轻质塑料做成天花板; 实验室的管道、电线设施均应安装在回风墙或夹层地板内;室内相对湿度应 保持在50%左右。
– 高纯金属的纯度检测应以实际应用需要作为主要标准。例如目前工业电解钴 的纯度一般接近99.99%,而且检测的杂质元素种类较少。我国电解钴的有色 金属行业标准(YS/T255—2000)仅要求分析C、S、Mn、Fe、Ni、Cu、As、 Pb、Zn、Si、Cd、Mg、P、Al、Sn、Sb、Bi等17个杂质元素,Co 99.98%电解 钴的杂质总量不超过0.02%,但这仍然不能满足功能薄膜材料的要求。
• 高纯金属材料纯度的玷污控制
– 大多数高纯金属材料在制备过程中可能会遇到空气的玷污、试剂的
污染、容器溶出的正误差、吸附或挥发引起的负误差以及采样或储
存引起的假玷污。为使所制得的高纯金属材料的纯度更高,必须研
究玷污控制的问题。本节重点讨论高纯金属材料纯度的主要玷污源
及玷污控制。
October 24, 2013, Beijing, China

材料现代分析技术-4物相分析

材料现代分析技术-4物相分析
1. 数字索引 当被含物质的化学成分完全未知时需要数字索
引,这类索引以衍射线d值作为检索依据,按其排 列方式的不同,又分为哈那瓦特(Hanawalt)索引和 芬克(Fink)索引。
Hanawalt索引
Hanawalt索引将已经测定的所有物质的三条最强线 的面间距d1值从大到小按顺序分组排列。整个手册 将面间距d值,从大于10.00到1.0A分成45组 (1982年版本)。每组的d值连同它的误差标写在 每页的顶部。每个条目由第一处面间距d1值决定它 应属于哪一组。每组内按d2值递减顺序编排条目, 对d2值相同的条目,则按d1值递减顺序编排。不同 的d值对应误差:考虑到影响强度的因素比较复 杂,为了减少因强度测量的差异而带来的查找困 难,索引中将每种物质列出三次。分别以d1d2d3、 d2d3d1、d3d1d2进行排列。
于Ij与fj及μ之间的关系。
定量分析
基本原理
V:试样被照射体积 V0:试样晶胞体积 fj:第j相体积分数
μ:试样线吸收系数
Ij:第j相衍射线强度
Ij = I0
e4 m2c4
λ3 32πR 3
Vj V2
0
F 2 P 1 + cos2 2θ sin 2 cosθ
e −2M

B = I0
e4 m2c4
ω

j' ρs
ωs ρ j
=
Cj Cs

1−ωs ωs ρ
ρs
j
ω
j
= Cω j
C = C j ⋅ (1−ωs )ρs
Cs ωs ρ j
ωs : 试 样 中 标 准
物质质量分数
ω’j:试样中加入
标准物质后第j 相质量分数

现代材料分析方法(4-SEM)

现代材料分析方法(4-SEM)

倒易点阵的扩展
3.单晶体和 多晶体电子衍射花样指数标定 其中各衍射斑点对应的倒易点指数如下图
[001]
[011]
[111]
[012]
2.电子显微镜中的电子衍射
所以 其中
Rd L L f1M iM p
rd f1
r R MiM p
即为电子显微镜的有效相机长度,称
L 为电子显微镜的有效相机常数
指数标定
孪晶的衍射斑点
3.单晶体和 多晶体电子衍射花样指数标定
★复杂电子衍射花样 1.高阶劳埃带
3.单晶体和 多晶体电子衍射花样指数标定
2.菊池线
3.单晶体和 多晶体电子衍射花样指数标定
另外,复杂电子衍射花样还包括二次电子 衍射、孪晶衍射、双晶带衍射等.
3.单晶体和多晶体电子衍射花样指数标定
★多晶体衍射花样 电子束受到多晶体衍射,也可以产生许多衍射圆锥, 但圆锥角比较小。多晶环多用在仪器常数的校正工作。 最常用的是金的衍射花样
3.单晶体和 多晶体电子衍射花样指数标定
★单晶体衍射花样 其特征是衍射斑点规
则排列。在衍射斑点花 样中最基本的是简单电 子衍射花样—单晶带电 子衍射花样,它是通过 倒易点阵原点的一个二 维倒易面的放大像
★薄晶体的电子衍射特征:
⑴厄瓦尔球半径比倒易矢量 大几十倍
⑵衍射角很小,衍射线集中 在前方
⑶倒易点被拉长为倒易杆, 倒易杆方向垂直于薄膜厚度
★以上三个原因决定使得电子 束相对晶体任何取向,在倒 易原点附近都会有许多倒易 杆与球面接触或交截,从而 可以得到许多衍射线。衍射 线的方向为连接球心和倒易 杆与球的交点,如图所示
电子衍射
111 200
Bulk materials Coatings 1 Coatings 2
  1. 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
  2. 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
  3. 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。

在一定实验条件下,吸光度A与浓度c的关系服从朗伯-比尔定律。
AAS定量分 析依据 (k’:光被吸收的比例系数,与吸收物质的性质及入射光的波长λ有关。)
4. 应用
测定对象:金属元素及少数非金属元素。
应用领域:冶金、地质勘探、质检监督、环境检测、疾病控制等。
(1)头发中微量元素的测定—微量元素与健康关系;
激光光源
发射光谱分析的基本 关系式: 赛伯-罗马金公式
以 logI 对 logc 作图,得校正曲线。
自吸常数 b 随浓度c增加而减小。当浓度很小,自吸消失时,b=1; 当试样浓度高时,b<1,工作曲线发生弯曲。
二、原子吸收光谱分析
(atomic absorption spectrometry, AAS) 原子吸收光谱分析法是利用特殊光源发射出待测元素的共振
(2) 准确度高:相对误差1%~5%;
(3) 选择性好:一般情况下共存元素不干扰;
(4) 应用广泛:可测定70多种(金属)元素(各种样品中);(也可用间接方
法测定一些非金属和有机化合物);
(5) 仪器较简单,操作方便。 局限性:难熔元素、非金属元素测定困难、不能同时多元素测定; 分析不同元素,必须使用不同元素灯; 对于复杂样品需要进行化学预处理。
定量分析原理
原子发射光谱的谱线强度I与试样中被测组分的浓度c成正比。
光谱定量 分析依据
a
Iij ac Iij c
—与试样的蒸发、激发过程及试样组成有关的参数。)
(Iij —电子在 i, j 能级间跃迁产生的谱线强度,
考虑到发射光谱中存在自吸现象,需要引入自吸常数 b:
I ac
b
log I b log c log a
③ 选择性好:各元素具有不同的特征光谱(铌和钽、锆和铪、稀土元素);
⑥ 试样用量较少:毫克级,适用于微量样品和痕量无机物组分分析; ⑦ ICP-AES性能优越,线性范围宽:4~6个数量级,可测高、中、低
不同含量试样。
不足:非金属元素不能检测或灵敏度低。
2、AES仪器
AES仪器由光源、单色系统、检测系统三部分组成。
发出光
返回基态
激发态
+
1.3 发射光谱分析过程
(1) 由光源提供能量使样品蒸发、原子化(形成气态原子)、并进一步使 气态原子激发而产生光辐射; (2) 将光源发出的复合光经单色器分解成按波长顺序排列的谱线,形成光谱; (3) 用检测器检测光谱中谱线的波长和强度。
由于待测元素原子的能级结构不同,因此发射谱线的特征不同,据 此可以通过波长对样品进行定性分析;而根据待测元素原子的浓度
(2)水中微量元素的测定—环境中重金属污染分布规律;
(3)水果、蔬菜中微量元素的测定;
(4)矿物、合金及各种材料中微量元素的测定;
(5)各种生物试样中微量元素的测定。
第三节 分子光谱分析
(1)红外光谱分析 (2)拉曼光谱分析
一、红外光谱分析
(Infrared Spectra, IR) 红外光谱分析法是利用物质对红外光区电磁辐射的选择性吸收
1.2 拉曼光谱定性分析原理
斯托克斯与反斯托克斯散射光的频率与激发光源频率之差△ν统称为
拉曼位移。
拉曼位移取决于分子振动能级的变化,不同的化学键或基态有不同的振动 方式,决定了其能级间的能量变化,因此对应的拉曼位移是特征的。 ——拉曼光谱进行分子结构定性分析的理论依据
2. 拉曼光谱仪器
拉曼光谱仪器由光源、外光路、色散系统、接收系统和 信息处理与显示系统五部分组成。
1、基本原理
1.1 发射光谱的产生
发射光取决于能级间能量差:
DE = hn = hc/l
正常状态下,原子处于基态,通过激发光源作用,原子获得能量, 外层电子从基态跃迁到较高能态变为激发态,约经10-8s,外层电子 就从高能级向较低能级或基态跃迁,多余的能量以电磁辐射的形式 发射出去,这样就得到原子发射光谱(线状光谱)。
二、电磁辐射的基本性质
电磁辐射(电磁波):以接近光速(真空中为光速)传播能量。
E = hν = h c /λ
E :能量; h:普朗克常数,等于6.626×10-34 J · s; c:光速,等于2.998×108 m/s。 电磁辐射具有波动性和微粒性
第二节 原子光谱分析 第三节 分子光谱分析
原子光谱分析只能用于元素分析,不能确定元素在样品中存在 的状态,不适用于大多数非金属元素的测定!
不同,因此发射强度不同,可通过强度实现元素的定量测定。
1.4 AES特点
① 多元素同时检测:各元素同时发射各自的特征光谱;
② 分析速度快:试样不需处理,同时对几十种元素进行定量分析;
优 ④ 灵敏度高:10-0.1g/g(g/mL); ICP-AES可达ng/mL级; 点 ⑤ 准确度高:相对误差一般5-10%,ICP可达1%以下;
2、AAS仪器
光源(发射特征谱线)→ 原子化器(试样转化为原子蒸气)→
分光系统(分离特征谱线)→ 检测系统(信号转换、放大、显示)
3、AAS定量分析
当光源发射的某一特征波长的光通过待测元素的原子蒸气时,即入射 辐射的频率等于原子中的电子由基态跃迁到较高能态 (一般情况下都是 第一激发态)所需要的能量频率时,原子中的外层电子将选择性地吸收 其同种元素所发射的特征谱线,使入射光减弱。 特征谱线因吸收而减弱的程度称吸光度A。
(2) 液体
①液膜法 ②溶液法
①研糊法(液体石腊法) (3) 固体
②KBr压片法
③薄膜法
把固体样品的细粉,均匀地分散在KBr中并 压成透明薄片。
把固体试样溶解在适当的的溶剂中,把溶液倒在玻璃片上 或KBr窗片上,待溶剂挥发后生成均匀薄膜。
红外光谱的作用
(1) 可以确定化合物(尤其是有机化合物)的类别; (2) 利用基团的特征吸收频率,确定官能团: 例:—CO—,—C=C—,—C≡C—; (3) 推测分子结构(简单化合物); (4) 利用特征峰的强度进行定量分析。
二、拉曼光谱分析
(Raman Spectra)
拉曼散射光谱
拉曼光谱分析法是基于印度科学家C.V. 拉曼所发现的拉曼散射效
应,对与入射光频率不同的散射光谱进行分析,以得到分子振动、 转动方面信息,并应用于分子结构研究的一种分析方法。
傅立叶变换显微红外/拉曼光谱仪(VERTEX 70, Bruker)
的辐射信号与物质组成及结构关系所建立起来的分析方法。 光分析法在研究物质组成、结构表征、表面分析等方面具有 其他方法不可取代的地位。
基本特点:
(1)所有光分析法均包含三个基本过程:
①能源提供能量; ②能量与被测物之间的相互作用; ③产生信号。
(2)选择性测量,不涉及混合物分离(不同于色谱分析);
(3)涉及大量光学元器件。
特性来分析分子中有关基团结构的定性、定量信息的分析方法。
傅立叶红外光谱仪(NEXUS, Thermo Electron)
1. 基本原理
产生红外吸收光谱的条件是:
(1) 辐射光子的能量与发生振动跃迁所需的能量相等; (2) 辐射与物质之间有耦合作用(即△≠0)。
红外光谱图
纵坐标为吸收强度或透过率T、横坐标为波长λ(μm)或波数σ (cm-1)。
产生发射共振线(也简称共振线)
ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ
发射 光谱
光的发射是原子中外层较高能级(激发态)的电子跃迁至较低能级(低激
发态或基态)时所产生的电磁辐射。
光的吸收是当基态原子受到外界一定能量作用时,原子外层电子就会从基
态向较高能级跃迁,这时就要吸收一定频率的辐射。
1.2 AAS的特点
(1) 灵敏度高,检出限低:10-10~10-14 g;
线,并将溶液中离子转变成气态原子后,测定气态原子对共振线
吸收而进行的定量分析方法。
WYX-9003A型原子吸收分光光度计
1、AAS分析基本原理
1.1 原子吸收光谱产生
原子吸收光谱与原子发射光谱的产生是互相联系的两个相反过程。
吸收 光谱
产生共振吸收线(简称共振线)
第一激发态
基态
发射一定频率 的辐射能量
第三篇 其他显微结构分析方法
第十二章 原子光谱及分子光谱分析 第十三章 热分析技术
第十二章 原子光谱及分子光谱分析
第一节 光分析基础 第二节 原子光谱分析 第三节 分子光谱分析
第一节 光分析基础
一、光分析法及其特点
吸收、发射、散射、折射、 反射、干涉、衍射、偏振等。
光分析法:基于电磁辐射能量与待测物质相互作用后所产生
2.2 制样方法
(1) 气体——气体池
用真空泵抽出气体池中的气体,再把样品气体从试样入孔注入, 待注满后关闭抽气口和入口的活塞,固定好进行测定。 对于难挥发液体(bp>80 C)一般都可直接夹在两块 NaCl盐窗片之间形成液膜进行测定。该法不适合于水 或其他对NaCl盐片有溶蚀作用的液体。 将试样溶解在合适的溶剂(常用CCl4 ,CS2)中,然 后用注射器注入固定液体池中进行测试。 把固体粉末分散或悬浮于石蜡油等糊剂 中,然后将糊状物夹于两片KBr等窗片 间测绘其光谱。
3、定性定量分析方法
3.1 AES定性分析原理
由于各元素的原子结构不同,在光源激发下,试样中各元素都发射 各自的特征光谱(谱线有多有少),通过识别元素的一条或数条特 征谱线的波长,可以进行元素定性分析。——定性分析原理
常用的光谱定性分析方法有标样光谱比较法和铁光谱比较法。
3.2 AES定量分析原理
第二节 原子光谱分析
(1)原子发射光谱分析 (2)原子吸收光谱分析
一、原子发射光谱分析
(Atomic Emission Spectrometry, AES) 原子发射光谱分析法是以火焰、电弧、等离子炬等
相关文档
最新文档