γ射线环境下的FPGA加固研究

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γ射线辐射降解的研究进展

γ射线辐射降解的研究进展

γ射线辐射降解的研究进展摘要:由于γ射线本身具有的特征,其辐射技术在有机物降解和化学污染物处理领域具有很大的应用潜力。

本文综述了国内外利用γ射线辐射降解技术在天然有机物降解、有机农药辐射处理和化学污染物降解处理的研究进展,并对γ射线辐射降解机理进行了探索和分析。

关键词:γ射线辐射降解有机物环境保护1 引言辐射降解技术是利用高能射线与物质相互作用,物质分子吸收辐射能量,自身电离和激发,产生各种活化粒子(粒子、次级电子,自由基等),活化粒子与物质发生一系列物化作用,使有机聚合物主链断裂、分子量降低,甚至使有机物降解为二氧化碳、水和矿物盐的高效降解技术。

与常规的降解技术相比较,辐射降解具有对外界压强、温度条件要求不高,不需添加其他化学试剂,无二次污染物,处理效率较高的特点,成为有机物降解领域极具前景的应用技术。

由于γ射线具有波长短、频率高、能量大、穿透能力强的特点,在辐射降解领域应用广泛。

常用的γ辐射源有60Co 和137Cs。

60Co核衰变产生能量为1.17Mev和1.33Mev的γ射线,半衰期为5.25年。

137Cs核衰变产生的γ射线能量为0.66Mev,半衰期30.2年,但由于137Cs源存在射线利用率低和易引起放射性污染等问题,在工业应用上不及60Co源广泛。

2天然有机物的γ射线降解研究2.1 植物纤维素的γ射线辐射降解研究Kлнментов[1]及其同事最早利用60Co源辐射松木木屑,发现随着剂量增加,木材中易水解多糖及低聚糖含量增加;B?G?Ershov[2]在300-390k,γ射线辐射剂量在约7.0Gy/g时使纤维素发生降解;G?O?Philips和J?C?Arthur[3]认为纤维素的辐射降解遵循自由基机理,经辐射后纤维素产生自由基,此后自由基继续反应,最终生成各种降解产物;我国哈鸿飞[4]等人研究了溶胀剂和碱性条件下对棉纤维素γ射线辐射降解的影响,得出了在浓度较高的碱性介质中(0.5mol/L)衰变很快和水、异丙醇、苯作用介质对纤维素辐射存不同程度的保护作用的结论;宫宁瑞[5]就辐射对棉纤维相对分子的影响进行研究。

辐照加固SRAM型FPGA总剂量辐射效应研究

辐照加固SRAM型FPGA总剂量辐射效应研究
为F GA的 设 计提 供 了基础 。 P
关键 词 :S AM型F G R P A;总剂量 效应 ;辐射 效应 ;退 火实验
Байду номын сангаас
中图分 类号 :T 0 N3 6
文献标 识码 :A
文章编号 :18 -0 0 (0 2 70 3-3 6 117 2 1 )0 —0 10
R e e r h o h t lDo eR a a i n Efe to a a i n H a d SRA M . s d FPG A s a c n t e To a s di to f c f R di to r ba e
F PGA a tb o fg r d i m e i t l fe a i to x e i e t i c h o fg r to e d a g c n’ e c n u e m i d a ey a rr d a in e p rm n ,sn e t e c n u a i n n e sa lr e t i
究 ,全面 了解 元器件 的辐 射损 伤机理具 有 重要 的现
1 引 言
在 航 天 辐射 环 境 中 ,电 离辐 射 产 生 的辐 射 效 应 会对 电子元 器件 性能 产生影 响 ,甚至 出现功 能 失
实意 义和 必要性 。F G ( P A 现场可编程 门阵 列 )由于
其 自身集 成度 高 、面 积小 、功 耗低 、实现 功能 多等
F PGA i h u u e nt ef tr . Ke r : RAM - s d F ywo ds S ba e PGA :o a o ee e t r d ai n e e t a e le p rm e t tt l s f c ; a ito f c; nn a x e i n d

[GBK] 国外抗辐射加固FPGA研制情况概述(1)

[GBK] 国外抗辐射加固FPGA研制情况概述(1)

L B NL 1.65V R es et L B NL 1.77 V Multiplier
L B NL 1.77V R es et L B NL 1.65V Multiplier
L B NL 1.65V Inverter + R egis ter L B NL 1.65V A ND
L B NL 1.95 R egis ter 125°C UC L 1.65V Multiplier
ATMEL抗辐射加固设计、CMOS工艺 FPGA产品
C onfiguration S E U
1.00E -02 1.00E -03
c m2
1.00E -04
X -S ec tion / devic e
1.00E -05
1.00E -06
1.00E -07 0 10 20 30 LE T 40 MeV /(mg/c m2) 50 60 70 80
HONEYWELL 抗辐射加固FPGA研制情 况
图3. HONEYWELL SOI FPGA 芯片照相
JAXA 抗辐射加固FPGA研制情况
• JAXA (Japan Aerospace Exploration Agency) 已 经着手研制抗辐射加固FPGA,据资料显示 其已于2009年7月完成等效450K系统门SOI FPGA的研制; • 其采用0.15um,PD-SOI工艺,并进行了抗辐 射加固设计; • 1.5V的内核供电,3.3V的IO供电; • SEU/SET free up to LET 64MeV/(mg/cm2) • TID 100 krad(Si)
Now
July 2010 July 2010 Nov 2010 Jan 2011
Nov 2010 Jan 2012

基于FPGA的伽玛射线探测系统数据采集与实现的开题报告

基于FPGA的伽玛射线探测系统数据采集与实现的开题报告

基于FPGA的伽玛射线探测系统数据采集与实现的开题报告一、研究背景与意义伽玛射线探测技术是无损检测和核物探领域的重要手段。

伽玛射线辐射具有穿透力强、不受物质状态和形态限制等特点,被广泛应用于煤矿、核电站、石油开采等领域的探测。

伽玛射线探测系统由探测器、放大器、高压电源、数据处理器等组成,其核心是数据处理器,关键是实时高速的数据采集和处理。

目前,伽玛射线探测系统通常采用基于PC机和高速数据采集卡的方案,采集卡通过PCI或PCIe总线连接到PC机,实现探测数据的采集和处理。

这种方案虽然成熟可靠,但存在一些问题,如采集和处理速度较慢、数据传输和存储受限于PC机的性能和外部接口速度、系统成本较高、可靠性不高等。

FPGA作为一种高速、可编程、可重配置的集成电路,具有实现高性能数字信号处理和复杂算法的优势。

在伽玛射线探测系统中,采用FPGA 作为数据处理器,可以实现高速数据采集和处理,提高系统的实时性和可靠性。

本课题旨在探索基于FPGA的伽玛射线探测系统数据采集和处理方法,研发高性能、低成本的伽玛射线探测系统,提高其实时性和可靠性,为相关行业的无损检测和核物探应用提供技术支持和解决方案。

二、研究内容本课题的研究内容主要包括:1. 设计基于FPGA的伽玛射线探测系统数据采集和处理方案,包括数据采集、预处理、滤波、能量判别、峰位计算等模块的设计和实现。

2. 设计采用高速AD转换器进行数据采集的硬件电路,包括时钟电路、接口电路、信号放大电路等模块的设计和实现。

3. 编写的FPGA底层驱动程序,实现与外部设备的接口和控制。

4. 针对不同实际应用场景,设计硬件电路和软件算法的优化方案,提高系统性能和稳定性。

5. 对系统进行仿真和实验验证,评估系统性能和可靠性。

三、研究方法本课题采用以下研究方法:1. 根据伽玛射线探测的物理特性和实际需求,设计基于FPGA的数据采集和处理方案。

2. 确定采用的AD转换器型号,根据其参数设计硬件电路,包括时钟电路、接口电路、信号放大电路等。

γ射线工业CT数据采集传输系统

γ射线工业CT数据采集传输系统

γ射线工业CT数据采集传输系统高富强;陈春江;兰扬;安康【摘要】针对多通道γ射线工业计算机断层扫描(CT)的高速数据采集和远距离传输需求,应用点对点传输,设计了基于数据报协议(UDP)的现场可编程门阵列(FPGA)数据采集传输系统.系统增加FPGA计数单元,可扩展更多通道进行数据采集.主控以FPGA作为核心,将UDP用Verilog编程的方式在FPGA中实现,控制以太网接口芯片将数据传至上位机,上位机界面与底层传输电路的相互通信利用VC++6.0编程实现.实验结果表明:在100 Mb/s全双工模式下进行网络测试,其网络利用率稳定在93%,传输速度为93 Mb/s(即11.625 MB/s);上位机能正确地接收到底层电路所发送的数据;能够满足γ射线工业CT高速数据采集系统在速度和距离上的传输要求.【期刊名称】《计算机应用》【年(卷),期】2015(035)001【总页数】4页(P276-278,282)【关键词】γ射线工业计算机断层扫描;数据采集;可编程门阵列;数据报协议;上位机【作者】高富强;陈春江;兰扬;安康【作者单位】重庆大学自动化学院,重庆400044;电技术及系统教育部重点实验室(重庆大学),重庆400044;重庆大学自动化学院,重庆400044;重庆大学自动化学院,重庆400044;光电技术及系统教育部重点实验室(重庆大学),重庆400044【正文语种】中文【中图分类】TP274.2;TP391计算机断层扫描(Computed Tomography, CT)技术结合了核电子、控制、光电、图像、计算机等多门学科技术,具有非入侵式成像的特点[1-2],已广泛应用于医学和工业。

γ射线工业CT工作时,首先,通过探测器进行信号采集;然后,数据采集传输系统完成转换、处理;最后,传到上位机完成计算和图像重建。

所以,数据采集传输是CT系统非常重要的部分,当前工业CT探测采集传输系统逐渐向探测数量多、数据量大、传输距离长的方向发展,尤其在速度和距离方面的要求越来越高。

基于FPGA便携式γ能谱仪的研制

基于FPGA便携式γ能谱仪的研制
F G 内部 系统 框 图 如 图 4所 示 。该 电路 PA 模块 为仪器 的核心部 分 , 主要 完成 数据 的采集 、
个 C 0 1单 片机 内核 , 单 片 机 内核 结 构 简 85 此 单 , 能与 D P相 近 , 且其 指 令集 与 5 性 S 而 1系列 单 片机兼 容 , 发 工 作 简 单 。 因此 采 用 C 0 1 开 85 单 片机 内核作 为系统 的数 据运 算和处 理是非 常
3 信 号 调 理 电路
如 图 3所示 , 脉 冲信号 经过 u 和 U组 成 核
的前 置 放 大 电路和 主放 大 电路后 , 路输 人 U 一 和 u 等组 成采样 触发 电路 , 一路输 入 U 、 另
D 、 C 和 C 等组 成 峰值 保 持 电路 。采 样触 Q 、 。
第3 O卷
第 1 2期
核 电子 学与探 测技术
Nuce r Elc r n c l a e to i s& Dee t n T c n l g t ci e h oo y o
Vo . 0 No 1 13 .2 De . c 2 0 01
21 0 0年 l 2月
基 于 F GA 便 携 式 能 谱 仪 的 研 制 P
控制 和人 机交 互 ( 括 和 主 机 的通 信 ) 系统 包 。
采用 周立 功 单 片 机公 司 开发 的 F s nSa— i ui t Kt o r
合适 的 , 占用 C U 资 源很 少 ; 性 能 的指 令 系 P 高
统 以及和 C语 言之 间进 行 交 叉 汇编 , 为设 计各 种控制 算法 提供 了广 阔的空 间 。另外加 载 了一
关键 词 : 能谱仪 ; 信号调理 电路 ;P A FG

反熔丝fpga器件γ剂量率辐射效应规律探讨

反熔丝fpga器件γ剂量率辐射效应规律探讨

反熔丝fpga器件γ剂量率辐射效应规律探讨一、引言反熔丝FPGA器件是一种新型的可编程逻辑器件,具有高度的可编程性和灵活性,在计算机科学、通信、航空航天等领域有着广泛的应用。

然而,随着电子设备的不断发展,器件所面临的辐射环境也越来越恶劣,辐射效应已经成为影响器件可靠性和稳定性的主要因素之一。

因此,对于反熔丝FPGA器件γ剂量率辐射效应规律进行探讨具有重要意义。

二、反熔丝FPGA器件简介反熔丝FPGA(Field Programmable Gate Array)是一种新型的可编程逻辑器件。

与传统固定功能集成电路相比,FPGA具有高度的可编程性和灵活性。

通过对其内部逻辑单元进行重新编程,可以实现不同功能的电路设计。

在计算机科学、通信、航空航天等领域有着广泛的应用。

三、γ剂量率简介γ剂量率是指单位时间内接受到的γ射线能量。

γ射线是一种高能电磁波,具有强穿透力和较强的电离能力。

在电子设备中,γ射线是主要的辐射源之一。

四、反熔丝FPGA器件γ剂量率辐射效应规律1. 辐射损伤机理当反熔丝FPGA器件受到γ射线的辐照时,γ射线会与器件内部的原子核和电子发生相互作用,产生大量次级粒子。

这些次级粒子会对器件内部的晶体管、反熔丝等元件造成损伤,导致器件性能下降或失效。

2. γ剂量率对反熔丝FPGA器件的影响随着γ剂量率的增加,反熔丝FPGA器件所受到的辐射剂量也会不断增加。

当γ剂量率达到一定值时,器件内部元件所受到的辐射损伤将超过其承受能力范围,导致器件性能下降或失效。

3. 反熔丝FPGA器件抗辐射性能评价指标(1)单粒子效应阈值(SEU threshold)单粒子效应阈值是指单个离子撞击反熔丝FPGA芯片时所需产生的电离对数。

SEU threshold越高,说明器件对单粒子效应的抵抗能力越强。

(2)总剂量效应(TID)总剂量效应是指器件在整个辐照过程中所受到的累积辐射剂量。

TID越大,说明器件所受到的辐射损伤越严重。

微电路FPGA的γ电离总剂量效应与加固技术

微电路FPGA的γ电离总剂量效应与加固技术

所 示 。P I E元件 在标准 的 1 层 掩膜 双金 属孪生 槽 C S工艺 中被集 成 。要求 3层 附加 的掩膜 : 反熔 丝 LC 2 MO N
扩 散 、 熔丝 多 晶硅和 4 m 氧化 物掩 膜形 成编程 的高压 晶体 管 , 掩 膜 总数达 到 1 反 0n 使 5层 。一薄 层氧 化 物加 热 生长到 N 的表面 , 接着低 压化 学气相 沉积 氮化 物 , 再重 新氧化 顶层 的 氧化 物 , 用 这个 0N 氧氮 氧 ) 利 O( 结构 紧 缩 电阻 的分布 , 简单氧化 物反熔 丝相 比 , 与 改善 了可靠性 L 。 1 ]
文 章 编 号 : 1 0 — 3 2 2 0 ) 30 8 — 4 0 14 2 ( 0 6 0 — 4 70
微 电路 F GA 的 电离 总剂 量效 应 与 加 固技术 P
袁国火 , 杨怀民 , 徐 曦 , 董秀成
(.西华 大学 电气 信 息 学 院 ,成 都 6 0 3 ; 2 1 1 0 9 .中国 工 程 物 理 研 究 院 电 子 工 程研 究所 ,四 川 绵 阳 6 10 ) 2 90
l F G 芯 片 A1 8 X P A 2 0 L的 结 构
F GA 的结 构 由一个 2维的 逻辑块 阵列 和连 接逻辑块 的互 连资 源两大 部分组 成 。 P Ace 公 司生 产 的 XL系列 A1 8 X 属 于 一 次性 可 编 程 的 , C tl 2 0 L, 其 MO S采 用 0 8 k 工 艺 , 数 达 80 0 . t m 门 0 f 。F GA 采用 通道式 阵列结 构 , - P j 细粒度 的逻 辑模 块 ( M ) L 按行 排 列 , 行 与行 之 间分 布 着 丰 富的 布线 通 道 , 在 芯 片四周 围 绕 着 IO 模 块 。作 为 连 线 开 关 的 逆 熔 丝 是 一 种 多 极 型 反 熔 丝 , 为 可 编 程 低 阻 抗 电 路 元 件 / 称 ( LC ) P I E 。这 是一种 二端垂 直结 构 , 积约 为 9k 。在未编 程 时 , L C 的阻抗 高 达 1 0MQ, 1 编程 面 t m。 P IE 0 当 8V

反熔丝FPGA延时电路γ瞬时辐射效应

反熔丝FPGA延时电路γ瞬时辐射效应
维普资讯
第 1 8卷 第 2期 2 0 年 2月 06
强 激 光 与 粒 子 束
HI GH P0W ER LASER AND PARTI CLE BEAM S
Vo . 8, . 11 No 2
Fe b.. 0 2 06
文 章 编号 : l0 3 2 2o )20 2—4 O 14 2 (o 6 0—3 1 0
常排列 在芯 片 四周 。可 编程互 连 资源包括 各种 长度 的竖直 和水平 的金 属连 线 线段 和一 些 可 编程 连接 开 关 , 它 们将 各个逻辑 模块 之间 、 逻辑模 块 与 Io模 块之 间互 相连接 起来 , / 构成各 种复 杂 的系统 。
F GA 由其 配 置机 制的不 同分 为可再 配置型 和一 次性 编程型 两类 。可再 配置器 件 主要基 于 S P RAM 结构 ,
F GA通 常 由逻辑模 块 、 o模块 和可 编程 互 连 资 源组 成 。逻辑 模 块 ( 括 时序 模 块 和 组合 模 块 ) F — P I / 包 是 P
G 的主要 组成部 分 , A 是实 现逻辑 功能 的基本 单元 。Io模 块 提供 了器 件 引脚 和 内部 逻辑 阵 列 之间 的连 接 , / 通
图 1 ONO 反 熔丝 结 构
图 2 反熔 丝 的 相 交 部 分
* 收 稿 日期 : 0ห้องสมุดไป่ตู้50 - 6 2 0 -8 1 ;
修 订 日期 :0 5 1 -5 2 0 - 12

次性 编程器 件多 采用 反熔 丝结构 。AC E T L公 司的 F GA 反熔 丝 结构 使用 的互 连 技 术 有两 种 : 种是 由第 P 一
2 3 金属 之间 的非 晶硅 为介 质 , 为 MT ( tl omea) ,层 称 M mea— — t1技术 。另 一种 是 以 N t 扩 散 区和 多 晶硅 之 间 的 氧一 氧 为介 质 , 为 0 氮一 称 NO( xd —i ieo ie 技 术 [ , 图 1所 示 , 型 产 品 有 AC / / , 2 0 L, o ient d—xd ) r 3 如 ] 典 T12 3 1 0 X 3 0 D 等系列 。本文 采用 的 AC L公 司 A 2l系列 的反熔 丝器件 A1 2 B即属 于这 种 结构 。ON 介质是 20 X TE C’ 00 O

γ射线总剂量辐照效应对应变Si PMOSFET阈值电压与跨导的影响研究-110325

γ射线总剂量辐照效应对应变Si PMOSFET阈值电压与跨导的影响研究-110325

γ射线总剂量辐照效应对应变Si PMOSFET阈值电压与跨导的影响研究*胡辉勇刘翔宇†连永昌张鹤鸣宋建军宣荣喜舒斌(西安电子科技大学微电子学院,宽禁带半导体材料与器件重点实验室,西安,710071)1摘要: 论文重点分析了双轴应变Si PMOFET在γ射线辐照下载流子的微观输运过程,揭示了γ射线的作用机制及器件电学特性随辐照总剂量的演化规律,建立了总剂量辐照条件下的双轴应变Si PMOSFET阈值电压与跨导等电学特性模型,并对其进行了模拟仿真。

由仿真结果可知,阈值电压的绝对值会随着辐照总剂量的积累而增加,辐照总剂量较低时阈值电压的变化与总剂量基本呈线性关系,高剂量时趋于饱和;另外辐照产生的陷阱电荷增加了沟道区载流子之间的碰撞概率,导致了沟道载流子迁移率的退化以及跨导的降低。

在此基础上,进行实验验证,测试结果表明实验数据与仿真结果基本吻合,为双轴应变Si PMOSFET 辐照可靠性的研究和应变集成电路的应用与推广提供了理论依据和实践基础。

关键词:应变Si PMOSFET 总剂量辐照阈值电压跨导PACS:61.80.Ed,73.50.Dn, 1.引言随着微电子技术的发展,以CMOS技术为主导的集成电路技术已经进入了纳米尺度,使基于“等比例缩小”原则一直遵循着“摩尔定理”发展的集成电路技术受到了极大的挑战,成为制约集成电路发展的瓶颈问题。

而应变Si材料具有基金:教育部博士点基金(No. JY0300122503)和中央高校基本业务费(No. K5051225014K5051225004)资助†通讯作者.E-mail: 185********@ 电话:185********高载流子迁移率高,带隙可调,与传统的Si工艺兼容等优点,成为延续集成电路按“摩尔定律”发展的有效途径和研究热点[1-4]。

随着应变技术的快速发展,应变集成器件及电路在极端条件尤其是辐照条件下的应用将会越来越多,因此辐照特性及加固技术是其应用研究的一个重点[5]。

辐射加固的JFETSOS工艺及γ辐射效应

辐射加固的JFETSOS工艺及γ辐射效应

第20卷第8期半 导 体 学 报V o l.20,N o.8 1999年8月CH I N ESE JOU RNAL O F SE M I CONDU CTOR S A ug.,1999辐射加固的JFET S O S:工艺及Χ辐射效应聂纪平 刘忠立 和致经 于 芳 李国花 张永刚(中国科学院半导体研究所 北京 100083)摘要 本文研究了制作JFET SO S(蓝宝石上外延硅结型场效应晶体管)的方法,采用扩散形成栅极p+n浅结以及复合注入的方法形成导电沟道,在不同的工艺条件下可得到增强型和耗尽型器件.通过Co60源的Χ射线辐射实验发现这种器件具有良好的抗总剂量辐射性能,在5M rad(Si)剂量时阈值电压的变化小于011V,跨导以及漏电流的变化都很小.EEACC:2550,2560S,2570D1 引言M O S SO S器件具有优良的抗瞬态及单粒子翻转辐射特性,经过适当加固其抗总剂量电离辐射能力也可达到较高水平(1M rad(Si O2)以上[1]).由于M O S器件的栅极下存在一个绝缘Si O2层和Si O22Si界面,电离辐射后将产生感生空穴陷阱电荷及增加的界面态,它们使M O S器件进一步提高抗总剂量电离辐射能力产生困难.一个改进的方法是采用JFET SO S,由于JFET的栅输入用p n结代替了Si O2介质,消除了Si O22Si结构固有的辐射感生电荷及界面态问题,预计它应该有很高的抗总剂量电离辐射能力.这方面的工作70年代就有文献报道[2],但结果并不理想,主要原因在于SO S材料的硅和蓝宝石界面上的缺陷也会造成界面陷阱电荷,从而影响器件性能.80年代有报道研制成功了抗高总剂量辐射JFET SO I(绝缘体上硅结型场效应晶体管)[3,4],其抗总剂量水平达到108rad(Si),但这种器件采用011Λm的Si O2膜SO I材料,利用衬底硅上加偏压的方法抵消空穴陷阱,获得高的抗辐射性能.JFET SO S方面的工作也有报道[5~7],但在抗总剂量辐射方面没有很大进展.近年来由于在SO S材料及C M O S SO S器件方面的进展,使我们有条件对于抗高总剂量电离辐射JFET SO S进行进一步的研究.本文主要介绍了n沟道JFET SO S的设计、制作及总剂量辐射试验的结果,可以看到这种器件已达到了较高的抗总剂量电离辐射水平.2 器件设计及工艺本文研究的n沟道JFET SO S的示意图如图1所示,器件的宽长比为20,沟长为聂纪平 男,1974年出生,硕士生,现从事半导体器件工艺研究刘忠立 男,1940年出生,研究员,从事半导体器件物理研究工作和致经 男,1938年出生,研究员,从事集成电路工艺研究工作1998203219收到,1998205213定稿20Λm .栅极的结构分环型和条型两种,从结果来看并无明显差别.图1 JFET SO S 示意图JFET 的工作原理主要是通过栅极来控制导电沟道的宽度,所以p +n 结耗尽区的深浅决定了器件的主要参数,耗尽区宽度W 为:W =(2Εs (V bi +V g )qN b )1 2(1)JEFT 的饱和电流方程为[8]:I =C Λq 2N b 2a 3 6Εs (2)式中 V bi 为内建电势V bi =(kT q )ln (N b n i ),其中k 为玻尔兹曼常数,T 为绝对温度,q 为电子电量,N b 为n 沟道区载流子浓度,n i 为本征载流子浓度.V g 为栅压,Λ为载流子迁移率,a 为沟道宽度(见图1),C 为由V g 等决定的常数.所以由离子注入形成的载流子浓度随深度的分布以及扩散形成的p +n 结为关键工艺. 表1给出了主要的工艺流程,所有的器件均采用015Λm 厚硅膜的5018mm SO S 片.采用掺硼多晶硅作为扩散源,通过固2固扩散形成p +n 栅极结构.具体工艺条件为:655℃Si H 4+B 2H 6作为扩散源的L PCVD ,22m in 生长015Λm 掺硼多晶硅.然后在1000℃下进行推进形成p n 浅结,时间用10m in 和20m in 进行比较,来观察p +n 结的深浅对器件性能的影响.在注入31P +形成沟道电导时采用了150keV 和300keV 的复合注入,通过不同能量和剂量的组合形成不同的n 沟道区杂质浓度分布,来控制器件参数.在不同的工艺条件下可得到增强型和耗尽型器件,其阈值电压和饱和电流也有较大差别,表2给出了不同工艺条件下制成的器件参数.表1 JFET S OS 工艺流程步骤工艺过程工艺参数1形成预氧层,隔离硅岛预氧Si O 2100nm 2复合注入31P +形成沟道电导注入剂量见表2,1000℃退火1h 3源漏注入150keV 31P +,剂量5×1015 c m 24生长掺硼多晶硅,形成栅极L PCVD ,500nm 多晶硅5扩散形成p +n 浅结1000℃扩散,时间见表26封A l 及钝化A l 膜1Λm ,Si 3N 4钝化层015Λm7封装表2 JFET S OS 器件主要工艺及器件参数类型注入参数 c m -2150keV 300keV 退火时间 m in 阈值电压 V 饱和电流 ΛA (V gs =1V )A1.4×10131×1013200.358B1.4×10131×101310-0.13145C1×10131×1013100.3372D 8×10128×1012100.4741 图2为典型的C 类型器件的输出特性以及转移特性,从输出特性曲线可以看出器件的7768期聂纪平等: 辐射加固的JFET SO S :工艺及Χ辐射效应饱和电流可达70ΛA 。

SRAM型FPGA的单粒子效应及TMR设计加固

SRAM型FPGA的单粒子效应及TMR设计加固

SRAM型FPGA的单粒子效应及TMR设计加固SRAM型FPGA的单粒子效应及TMR设计加固随着科技的不断推进,先进的电子器件逐渐在各个领域中得到了广泛应用。

其中,SRAM型FPGA (静态随机存取存储器型场可编程门阵列) 作为一种重要的可编程电子器件类型,已经被广泛应用并且取得了显著的成果。

SRAM型FPGA 采用静态随机存储器(SRAM)作为存储单元,具有速度快、功耗低、容量大、可编程性强等特点,但是其单粒子效应使得其在高能环境下工作不稳定。

针对这一问题,通过引入TMR(三重模容纳)技术,可以有效地提高其抗干扰能力,从而使FPGA的性能更加出色。

SRAM型FPGA 的单粒子效应是指在FPGA的使用过程中,突然冲击的单个粒子会改变SRAM型FPGA的特性,从而使其工作状态发生变化。

这种现象不仅会引起电路不正常运行,还可能导致电路出现故障,从而影响FPGA 的使用效果。

单粒子效应可以通过三种方式引起:1、离子辐射;2、中子; 3、自然背景辐射。

其中,离子辐射是最常见的单粒子效应。

在SRAM型FPGA 中,单粒子效应的发生通常表现为临时错误和持久错误。

为了解决SRAM型FPGA 单粒子效应的问题,可以通过引入TMR 技术进行加固。

TMR 技术是通过多次问询同一个存储器元件,并发出相互独立的电路信号,从而提高存储器单元的可靠性。

在TMR技术中,每个存储器元件分为三个部分,每个部分都包含同一个值,通过比对这三个存储器元件值之间的异同,可以更好地判断正确记录的值。

当SRAM型FPGA 发生错误时,TMR 技术可以将 SRAM中不正确的数据与其他正确数据进行比对,最终确定正确的数据。

TMR 技术可以显著提高SRAM型FPGA的抗单粒子效应干扰能力,从而提高FPGA的可靠性和性能。

总的来说,SRAM型FPGA 在单粒子效应方面存在较大的问题,而TMR 技术作为一种有效的抗干扰技术,可以明显提高SRAM型FPGA的可靠性。

一种基于FPGA的抗辐射加固星载ASIC设计方法

一种基于FPGA的抗辐射加固星载ASIC设计方法

一种基于FPGA的抗辐射加固星载ASIC设计方法常克武;王海涛;张弓;汪路元【摘要】针对静态随机存储器(SRAM)型现场可编程门阵列(FPGA)空间应用的问题,提出了基于FPGA星载抗辐射加固专用集成电路(ASIC)设计的全流程,并重点对扫描链设计、存储器内建自测试、自动向量生成、ASIC封装设计、散热设计、加电振动试验等关键点的设计方法和注意事项进行了介绍.通过设计、测试、封装、试验,实现了基于静态随机存储器型FPGA转化为抗辐射加固ASIC.ASIC抗辐射总剂量大于100 krad (Si),抗单粒子闩锁(SEL)阈值大于75 MeV· cm2/mg,抗单粒子翻转(SEU)阈值大于22 MeV· cm2/mg,满足空间应用的要求,具有很好的应用前景.【期刊名称】《航天器工程》【年(卷),期】2016(025)004【总页数】7页(P74-80)【关键词】专用集成电路;空间环境辐射;单粒子效应;设计流程【作者】常克武;王海涛;张弓;汪路元【作者单位】中国卫星导航系统管理办公室,北京 100054;北京空间飞行器总体设计部,北京 100094;北京空间飞行器总体设计部,北京 100094;北京空间飞行器总体设计部,北京 100094【正文语种】中文【中图分类】V473近年来,随着用户对提高卫星功能和性能要求的急迫增长,卫星系统对星载电子产品提出了集成度高、质量轻、体积小、功耗低等一系列要求,静态随机存储器(Static Random Acess Memorizer,SRAM)型现场可编程门阵列(FPGA)由于其集成度高、资源丰富、设计灵活、易于修改等特点在卫星上得到广泛应用[1]。

但是,由于卫星运行在空间辐射环境中,FPGA容易受太空射线影响而产生单粒子效应,并且器件的集成度越高,单粒子效应的影响就越显著,这严重影响和制约着航天电子仪器设备在轨工作的连续性和稳定性,严重影响了卫星性能的发挥。

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γ射线环境下FPGA的抗辐射加固研究
摘要:本文分析了FPGA的结构、类型及γ射线环境下FPGA的损伤机制。

提出了γ射线环境下FPGA的抗辐射加固的方案。

该方案旨在对核辐射环境下机器人主要器件FPGA进行加固防护,以增强机器人的抗辐射能力。

关键词:反熔丝FPGA γ射线抗辐射加固
引言:如今,在核电站、辐照厂等强辐射环境下对机器人的需求越来越多。

但与普通机器人相比,辐射环境下机器人需要极强的抗辐射能力。

现场可编程门阵列(FPGA),作为专用集成电路(ASIC)领域中的一种半定制电路,既解决了定制电路的不足,又克服了原有可编程器件门电路数有限的缺点。

因其包含大量的门电路,使设计的电子产品达到了小型化、集成化、可靠性高、速度快,设计周期短,节减了费用且为设计者提供系统内可再编程的能力等特点,已经成为核辐射环境下机器人不可缺少的主要器件。

而辐射环下对器件的抗辐射性能要求十分高,因此普通的FPGA无法满足核辐射环境下的需求。

为了解决这个问题,本文针对γ射线环境下提出了FPGA的抗辐射加固方法。

1 FPGA的结构及类型
1.1 FPGA的结构
现场可编程门阵列(FPGA)采用了逻辑单元阵列LCA,内部包括可配置逻辑模块CLB、输出输入模块IOB和内部连线三个部分。

FPGA是可编程器件,与传统逻辑电路和门阵列(如PAL,GAL及CPLD器件)相比,FPGA具有不同的结构。

FPGA利用小型查找表(16×1RAM)来实现组合逻辑,每个查找表连接到一个D触发器的输入端,触发器再来驱动其他逻辑电路或驱动I/O,由此构成了既可实现组合逻辑功能又可实现时序逻辑功能的基本逻辑单元模块,这些模块间利用金属连线互相连接或连接到I/O模块。

FPGA的逻辑
是通过向内部静态存储单元加载编程数据来实现的,存储在存储器单元中的值决定了逻辑单元的逻辑功能以及各模块之间或模块与I/O间的联接方式,并最终决定了FPGA所能实现的功能,FPGA允许无限次的编程。

1.2 FPGA的分类
FPGA 由其配置机制的不同分为两类:可再配置型和一次性编程型。

1)一次性编程型主要是:基于反熔丝的FPGA
反熔丝是在两层导体之间的一层很薄的绝缘介质。

每个反熔丝占有等效于一个接触孔或通孔的面积,在电压加到此元件上时介质击穿,从而把两层导电材料连在一起。

在未编程状态下,反熔丝连接点阻抗超过100MΩ,呈断开状态;在编程以后,阻抗典型值为500Ω。

反熔丝技术决定了反熔丝单元较小,占用芯片面积小,工作频率高,有加密位,反拷贝,抗辐射抗干扰,不需外接PROM或EPROM,适合航天、军事、工业等各领域。

2)可再配置型主要有以下两类:
(1)基于SRAM 的FPGA
利用SRAM 单元来控制晶体管开关。

每个晶体管开关的状态都由相应的SRAM 中的值来确定。

片上SRAM 是配置存贮器,用来存储逻辑单元阵列( LCA )的配置数据。

配置存储器控制功能、布线、特性、时序、I / O 驱动等。

基于SRAM 的FPGA 在商业领域已经得到了广泛的应用,它是通过将状态信息载入SRAM 单元来实现配置。

为用户提供了最大的灵活性,使得系统内或在轨编程成为可能。

另外,这类器件提供了再配置计算平台以最大功率;提供了改变需求的灵活性,以及纠正逻辑错误和恢复飞行中的故障的潜力,已成为空间飞行器电子器件的发展主题之一。

(2)基于FLASH的FPGA
基于FLASH的FPGA是一个比较新的技术。

2005年Actel公司在美国加利福尼亚总部发布了它的ProASIC3和ProASIC3E系列的FPGA。

这是该公司第三代的基于Flash的可编程逻辑方案。

基于Flash的FPGA可以提供加密、低功耗、上电工作、可重复编程的方案。

该方案充分发挥了FLASH的非异失特性和重配置性。

掉电后配置信息保存在片内
的flash中,因此不需要片外的配置芯片,有助于降低系统成本,提高设计的安全性。

2 γ射线对FPGA的损伤机制
FPGA 设计中会有一定百分比的互连通道由介质击穿形成。

当两个互相交叉的导体的逻辑层不同时,非编程的反熔丝就会存在偏压。

当一个高能粒子撞击偏压反熔丝并随之发生穿通时,就形成了单粒子介质击穿,造成不期望出现的局部连接。

这种连接可能表现为:a只是小电流增加。

b由于减少的时间和电压裕量而引起的间断。

c硬错误。

对深压微米体硅CMOS工艺的FPGA芯片。

γ射线对体硅CMOS器件的辐照效应主要是产生瞬时扰动效应和闭锁效应。

当γ射线射入半导体材料,产生光电效应,在材料内产生空穴-电子对,显著改变材料的导电率。

当CMOS器件处于加电工作状态,即辐照产生空穴-电子对的区域存在电场时,则这些辐照产生的电子和空穴将发生漂移运动,同时也发生扩散运动,形成瞬时光电流。

这种瞬时光电流将造成电路扰动,影响电路正常工作。

有试验结果表明,基于反熔丝的FPGA 芯片在高剂量率条件下的受到的主要影响为γ剂量率瞬时扰动。

发生于基于SRAM 型的FPGA 中的较严重的辐射效应为配置翻转。

配置位容易受单粒子效应影响而发生翻转,并可能导致对集成电路控制能力的丧失。

如果在基于SRAM 的FPGA 装载了错误的配置将会毁坏器件。

系统资源可能会由于失去了对三态总线的控制或触发了系统的关键事件而导致崩溃。

基于SRAM 的FPGA 中的单粒子翻转很大程度上决定于工艺、结构特点和系统设计。

在电路级,单粒子效应对基于SRAM 的FPGA 中的配置存储器有很强的影响。

对系统级的影响有:由于上拉电阻的使能使得功率微弱增加;由于改变输入延迟导致操作间歇;由于改变输出极性产生错误结果;由于被用来作高阻输入的单元的三态缓冲级被使能而导致系统崩溃。

在器件内部,对于有些结构,配置SRAM 翻转能导致布线网络中的驱动器冲突,三态总线中的总线冲突,若上拉电阻没有连接则总线悬浮,等等。

这些单粒子效应可能使器件由于过载而牺牲硬件可靠性。

3抗辐射加固原理
反熔丝FPGA芯片γ剂量率辐照试验结果表明,芯片抗γ剂量率瞬时扰动阈值均较低。

对于FPGA编程逻辑器件而言,γ剂量率瞬时扰动将造成电路在一定时间周期内的功能失效。

而反熔丝FPGA的可编程互连开关结构却对大电流闭锁效应提供了保护,芯片在高剂量率条件下均未产生闭锁效应。

不同反熔丝FPGA器件在不同剂量下的试验结果发现,在较高剂量率辐照下,FPGA输出的当前周期的延时信号都发生了重新延时;而当瞬态辐照过去后,FPGA 的输出信号立刻恢复正常。

这表明该类器件在γ环境下不会发生闭锁或者电路硬损坏,只会导致FPGA当前周期的信号产生变化。

因此,根据反熔丝FPGA的瞬时辐射效应及辐射损伤机理研究,只要能够及时保存和恢复FPGA中的重要数据,就能够尽可能的规避辐射影响。

而对基于SRAM的FPGA只要能解决其配置翻转问题就能很好的对其进行加固。

4 FPGA的抗辐射加固
4.1反熔丝型FPGA 的抗辐射加固措施
(1)工艺加固措施
主要方法是增加反熔丝的厚度,并对输入缓冲级进行改进。

(2)电路加固措施
目前在抗辐射加固电路设计中较多采用冗余技术来实现对故障的检测和隔离。

主要包括三模冗余;复制及比较;编码及自查等方法。

这些方法利用的是硬件冗余、信息冗余及时间冗余。

在基于反熔丝型FPGA 中,由于其硬件资源较充裕,可以采用三模冗余及编码技术。

(3)设计延时加固电路。

设计一种不需要外部强制断电回避,,能及时保存和恢复FPGA中的重要数据的电路,即在FPGA带电工作条件下的实时信息保存与恢复技术,使反熔丝FPGA 延时电路在γ瞬态辐照条件下能够正常工作,实现反熔丝FPGA延时电路抗γ剂
量率辐射加固。

4.2 SRAM 型FPGA 的抗辐射加固措施
(1)改进FPGA本身的硬件结构。

在大部分基于FPGA的电路实现中,87%的配置位存储的信息为0。

因此,设计一种在存储0时对SEU有更好免疫性的SRAM,可以减低软错误率。

一个标准的SRAM单元由6个晶体管组成,只要改善SRAM结构以提高了存储0时的稳定性,就可以减少了软错误的可能性。

(2)提高映射在FPGA中的电路的错误容忍度。

采用三模冗余(TMR)。

TMR将同一个电路在FPGA内实现3个拷贝,然后用一个“投票电路”对3个电路的输出进行选择,抵抗单粒子效应的能力会有所提高。

如果3个电路中只有一个电路发生错误,只要其他2个电路不出现问题,则投票电路可以选择正确的结果进行输出。

(3)借助外部高可靠性电路监测FPGA状态,为FPGA进行检错和纠错。

FPGA所有的编程点都存在于SRAM中。

利用FPGA的配置回读功能可以将配置点全部读取出来,然后将其与存储在只读存储器(ROM)中的正确配置信息进行比较。

如果发现有配置信息不正确,则把错误纠正后重新下载回去。

5 总结
本文只是提出了FPGA器件的一些加固方法。

通过对FPGA硬件以及电路上的一些改进增强FPGA的抗辐射能力。

而基于反熔丝的FPGA 在其自身结构上就有很好的抗干扰抗辐射能力,同时再加上一些抗辐射加固技术,其更有利于强辐射环境下的使用。

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