第七章 电子显微分析

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第7章 电子显微分析

第7章 电子显微分析

电磁透镜
• 电子显微镜可以利用电场或磁场使电子束聚焦成像,其中 电子显微镜可以利用电场或磁场使电子束聚焦成像, 用静电场成像的透镜称为静电透镜, 用静电场成像的透镜称为静电透镜,用电磁场成像的称为 电磁透镜。 电磁透镜。 • 电磁透镜一般由三级电磁透镜组成,即第一聚光镜、第二 电磁透镜一般由三级电磁透镜组成,即第一聚光镜、 聚光镜和末级聚光镜(即物镜)。 聚光镜和末级聚光镜(即物镜)。 • 主要功能是依靠透镜的电磁场与运动电子的相互作用将电 子枪中交叉斑处形成的电子源逐级汇聚成为在样品上扫描 的极细电子束(电子探针)。 的极细电子束(电子探针)。 • 末级透镜也叫物镜,除了汇聚功能外,它还起到使电子束 末级透镜也叫物镜,除了汇聚功能外, 聚焦于样品表面的作用。另外,每一级透镜上都装有光阑, 聚焦于样品表面的作用。另外,每一级透镜上都装有光阑, 二级透镜通常是固定光阑, 一、二级透镜通常是固定光阑,主要是为了挡掉一大部分 无用的电子,防止对电子光学系统的污染。 无用的电子,防止对电子光学系统的污染。末级透镜下方 紧连样品室。 紧连样品室。
构造与成像原理
照明由电子枪、 照明由电子枪、聚光镜和 相应的平移对中、倾斜调 相应的平移对中、 节装置组成。 节装置组成。 作用是提供一束亮度高、 作用是提供一束亮度高、 照明孔径小角小、 照明孔径小角小、平行度 束流稳定的照明源。 好、束流稳定的照明源。 为满足明场和暗场成像需 照明束可在2° 要,照明束可在 °~3° ° 范围内倾斜。 范围内倾斜。
构造
• 电子光学系统主要由电子枪、电磁聚光镜、光阑、样品室等 电子光学系统主要由电子枪、电磁聚光镜、光阑、 组成。 组成。 • (1)电子枪 ) 扫描电镜的电子束应具有较高的亮度和尽可能小的束斑 直径。 直径。 • (2)电磁透镜 ) SEM中电磁透镜都不作成像透镜用,而是作为聚光镜用, 中电磁透镜都不作成像透镜用, 中电磁透镜都不作成像透镜用 而是作为聚光镜用, 它们的功能只是把电子枪的束斑逐级聚焦缩小, 它们的功能只是把电子枪的束斑逐级聚焦缩小,使原来直径 约为50µm的束斑缩小成一个只有数个纳米的细小斑点。扫描 的束斑缩小成一个只有数个纳米的细小斑点。 约为 的束斑缩小成一个只有数个纳米的细小斑点 电子显微镜一般都有三个聚光镜, 电子显微镜一般都有三个聚光镜,前两个聚光镜是长焦距的 弱磁透镜。末级透镜也叫物镜,除了会聚功能外, 弱磁透镜。末级透镜也叫物镜,除了会聚功能外,它还起到 使电子束聚焦于样品表面的作用。 使电子束聚焦于样品表面的作用。

材料分析方法 第七章 透射电子显微图像

材料分析方法 第七章 透射电子显微图像
样品。 • 粉末样品:用于粉末状材料的观察与分析。 • 复型样品:把欲观察的试样的表面形貌复制下来的试
样。
一、薄膜样品的制备
• 薄膜样品的制备:把块状材料制备成直径小于等 于3mm的对电子束透明的薄片。
• 薄膜样品可用作静态观察,如金相组织、析出相 形态、分布、结构及与基体取向关系、位错类型、 分布、密度等。也可作动态原位观察。
• 薄膜样品必须满足以下要求:
• ①.薄膜样品的组织结构和化学成分不发生变化, 必须和大块材料相同,能够代表和保持大块材料 的固有性质;
• ②.薄膜样品厚度必须足够薄、用于观察的薄区面 积要足够大。
• ③.薄膜样品应有一定强度和刚度。
• 薄膜样品的制备主要包括三个过程: • 第一步:切薄片; • 第二步:预减薄; • 第三步:终减薄。
• 适用于金相组织、断口形貌、形变条纹、磨损表 面、第二相形态及分布、萃取和结构分析等。
• 常用复型材料:碳或塑料(均为非晶材料)
• 限制复型分辨率的主要因素:复型材料的粒子尺 寸。
1、一级复型
• 分为塑料一级复型和碳一级复型。
• 塑料一级复型 • 制备步骤(如图): • ①制备好金相样品或断口样品; • ②在样品上滴上几滴体积浓度为1%的火
第七章 透射电子显微图像
• 内容提要: • 第一节 透射电镜样品制备 • 第二节 质厚衬度原理 • 第三节 衍射衬度原理 • 第四节 相位衬度
第一节 透射电镜样品制备
• 透射电镜成像时,电子束是透过样品成像。 • 根据样品的原子序数大小不同,膜厚一般在50~
200nm之间。
• 透射电镜样品按材料的形状通常可分为三类: • 薄膜样品:把块状材料加工成对电子束透明的薄膜状
• 设样品的一个部分的电子束强度为I1,另一个部分为I2, 若以I2为背景,则电子像的衬度C可表示为:

材料微观结构第七章材料中的第二相及其电子显微分析方法1

材料微观结构第七章材料中的第二相及其电子显微分析方法1

其次
第二相析出在基体中引起的应变状态,这是一个 和两相界面结合方式有关的问题。共格或部分共 格在基体中引起的应变场的性质和大小,以及它 们在电镜观察中表现的衬度效应和特征等,这些 都为电镜工作者所关注,并为此建立了定量和半 定量的分析方法。
还有
电镜下观察到的来自于第二相本身位向的取向 衬度以及来源于组成第二相物质原子性质的结 构因子衬度,也是电镜工作者所关心的。
7.3.1基体应变衬度
这种衬度来源于第二相和基 体的界面点阵共格,但匹配 界面的点阵常数略有差别, 存在一定错配度,如图7- 1(b)。这就势必在界面附近 的基体中造成应变场,即点 阵畸变。电子束经过此狭窄 畸变区时,波的相位发生改 变,从而显示出不同于远离 界面处的基体衬度,这就是 应变衬度。
7.3由第二相引起的衬度类型
合金中第二相的衬度由下述因素所决定: ❖ 它和母相基体的晶格匹配情况是共格、部分共
格或是完全不共格; ❖ 第二相的组成元素以及第二相的几何形状:圆
盘状、片状、球形还是针状。 这些不同情况在电子衍射谱和图像衬度上都会
反映出来。
第二相和基体界面匹配情况概括起来有共格、部分 共格和不共格三类。共格又分为共格无错配,如图(a); 共格但在某一界面上有错配,如图(b)。部分共格,如图 (c),上下界面是共格的,左右界面则不共格。完全不共 格,如图(d)。
界面由于相对于晶内是高能和比较不稳定 的状态,它是相变时析出第二相的最优先地点。 第二相在界面的形核率随界面自由能的升高而 增加。
例子
18-8型不锈钢中的M23C6碳化物,优先在α-铁素体/ 奥氏体界面析出,其次才是奥氏体晶界、非共格孪晶 界和共格孪晶界。
界面的晶体学取向对第二相的惯习取向有直接关系。 如果晶界平面正好或接近于析出相所要求的取向时, 第二相析出的几率将大为提高,而且将维持稳定的取 向关系。如果晶界一侧晶粒满足上述条件,而另一侧 不满足这种条件,则第二相往往形核于满足条件的一 侧,且保持共格或部分共格关系,并向不满足条件另 一侧不共格地长大。

略论“电子显微分析”课程教学

略论“电子显微分析”课程教学

略论“电子显微分析”课程教学电子显微分析是一门涉及电子显微镜原理和应用的高级课程,旨在培养学生对物质结构和成分进行分析的能力。

在这门课程中,学生将学习如何使用电子显微镜进行样品制备、成像和分析,以便了解材料的微观结构和组成。

本文将略论电子显微分析课程的教学内容、教学方法和存在的问题,希望能为相关教育工作者提供一些借鉴和启发。

一、课程教学内容1. 基础知识概念电子显微分析的教学内容首先包括电子显微镜的基础原理和操作,包括扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)的原理、结构和工作原理,学生需要了解电子束与样品的相互作用,以及如何通过电子束成像。

同时还需要掌握能量色散X射线能谱(EDS)和电子能量损失谱(EELS)的原理和应用,这两种谱线可以提供材料的元素成分和电子结构信息,是电子显微分析技术的重要部分。

2. 样品制备与操作技能在电子显微分析课程中,学生需要学习样品的制备技术,包括样品的切割、磨削、抛光和蚀刻等处理技术。

他们还需要学会如何正确地操作电子显微镜,掌握样品的加载、对焦、调整和成像等技能,以及各种仪器的维护和安全操作规范。

3. 数据分析和解释除了仪器操作技能外,电子显微分析课程还注重学生对数据的分析和解释能力。

学生需要学会如何准确地获取和分析电子显微图像数据,并能够结合元素成分和电子结构信息,对样品的微观结构和成分进行分析和解释。

4. 应用和研究实践电子显微分析课程还会介绍该技术在材料科学、化学、生物学等领域的应用和研究实践,培养学生将所学知识应用于实际科学研究和工程技术领域的能力。

二、教学方法1. 理论与实践相结合电子显微分析是一门理论联系实际的课程,因此教学过程中应该注重理论知识与实验操作相结合。

在课堂教学中,老师可以通过理论讲解、案例分析等形式,让学生了解电子显微镜的原理和应用,同时需要给学生提供足够的实验操作机会,让他们亲自操作仪器,进行样品制备和数据分析。

2. 项目驱动式教学在电子显微分析课程中,可以采用项目驱动式教学方法,让学生通过独立或小组合作的方式,开展一些小型的科研项目。

电子显微分析

电子显微分析

电磁透镜
所有从同一点出发的不同方向的电子,经透镜作用后,交
于象平面同一点,构成相应的象。 从不同物点出发的同方向同相位的电子,经透镜作用后, 会聚于焦平面上一点,构成与试样相对应的散射花样。
极靴
Pole-piece
电子波长
根据德布罗意公式,电子的波长λ与电子的质量m和 运动速度v有如下关系:
的,那么,电子显微镜是如何使电子聚焦、成像的
呢?
在电子显微镜中,使电子聚焦成像的装置称为
电子透镜。常见的电子显微镜中一般是采用磁场来
使电子波聚焦成像,相应的装置称为电磁透镜。
电磁透镜的聚焦原理
电磁透镜实质上就是能够产 生旋转对称磁场的线圈,一般 是短线圈。为了使线圈产生的 磁场更为集中,往往还用一层 软铁把短线圈包封起来,。有 些在包壳磁透镜的基础上再加 极靴,其目的都是为了使磁场 更为集中,增强对电子的折射 能力。
单式镜
“跳蚤镜”(fleaglasses) 列文虎克(100-300×)
光学显微镜
复式镜
贵族奢侈品 观察“疼痛的桔子”
光学透镜
Prism-like optical elements bending light towards a point (Convex lens) or as if divergent from a point (Concave length) Eye is a convex lens

(inverted)
Image
v f u 物
Thin lens formula:透镜公式)来自1 1 1 u v f
(薄
Object
凸透镜
Convex
成像光学透镜的光路图解

2019电子显微分析ppt课件

2019电子显微分析ppt课件

电源系统包括电子枪高压电源、透镜电源和 控制线路电源等。
真空系统用来维持镜筒(凡是电子运行的空间) 的真空度在10-4 Torr以上,以确保电子枪电极 间绝缘,防止成像电子在镜筒内受气体分子碰 撞而改变运动轨迹,减小样品污染等。
2. 透射电镜的主要性能指标
❖ 标志透射电镜的主要指标是分辨率、放大率、衬度 等
tem既能得到衍射谱又能观察像的原因晶体试样电子透过晶体时会发生衍射现象在物镜后焦面上形成衍射在tem中改变中间镜的电流使中间镜的物平面从一次像平面移向物镜的后焦面可得到衍射谱反之让中间镜的物面从后焦面向下移到一次像平面就可看电源系统包括电子枪高压电源透镜电源和控制线路电源等
第七章 电子显微分析
入射电子 Auger电子
透射电子
2. 扫描电镜图象及衬度
二次电子像 背散射电子像
2.1 二次电子象
入射电子与样品相互作用后,使样品原子较外层电子 电离产生的电子,称二次电子。二次电子能量比较低,习 惯上把能量小于50eV电子统称为二次电子,仅在样品表 面5nm-10nm的深度内才能逸出表面。
二次电子象是表面形貌衬度,它是利用对样品表面形 貌变化敏感的物理信号作为调节信号得到的一种象衬度。
常用的支持膜材料有:火棉胶、聚醋酸甲基乙烯酯、 碳、氧化铝等。
上述材料除了单独能做支持膜材料外,还可以在火 棉胶等塑料支持膜上再镀上一层碳膜,以提高其强度 和耐热性。镀碳后的支持膜称为加强膜。
4.2 复型法
研究块状聚合物和纤维表面结构,对于在电 镜中易起变化的样品和难以制成电子束可以透 过的薄膜的试样多采用复型法。
4. 透射电镜研究用高分子样品制备方法
❖ 电子束照射下样品温度会升高,对于流体, 或易升华、低熔点或易分解的物质〔如高分 子中的杂质〕会污染电镜,得到假象。

第7章 透射电子显微分析

第7章 透射电子显微分析

7.4 薄晶样品的衍射衬度形成原理

前面已经讲过,衍射衬度是来源于晶体试样各部分满足布 拉格反射条件不同和结构振幅的差异(如图)。 设入射电子束恰好与试样OA晶粒的(h1k1l1)平面交成精 确的布拉格角θ,形成强烈衍射,而OB晶粒则偏离Bragg反 射,结果在物镜的背焦面上出现强的衍射斑h1k1l1。若用物 镜光栏将该强斑束h1k1l1挡住,不让其通过,只让透射束通 过,这样,由于通过OA晶粒的入射电子受到(h1k1l1)晶面反 射并受到物镜光栏挡住,因此,在荧光屏上就成为暗区, 而OB晶粒则为亮区,从而形成明暗反差。由于这种衬度是 由于存在布拉格衍射造成的,因此,称为衍射衬度。
该图为AuCu3有序化 合金超点阵斑点(a) 及指数化结果(b), 它是有序相a与无序 相a’两相衍射花样的 叠加。
3、二次衍射斑点
在两相合金中常发现 在正常斑点之外还出 现一些额外斑点,这 些附加斑点是由衍射 束和晶面之间再次产 生拉格衍射形成的。 图10-20为二次衍射 斑点产生原理示意图。
7.2 电子衍射原理 §1 电子衍射原理
一、布拉格定律
由X射线衍射原理我们已经得出布拉格方程的一般形式: 2dsinθ=λ 因为 sinθ=λ/2d≤1 所以 λ≤2d sinθ=λ/2d≈10-2, θ=10-2rad<1°
二、爱瓦尔德球图解法
三、电子衍射基本公式
因θ角非常小,ghkl 矢量接近和入射电子束垂 直,因此,可以认为 △OO﹡ G∽△OO′G′,因为从样品到底 片的距离是已知的,故有 R/L = g hkl/k 因为 ghkl =1/dhkl , k=1/λ 故 R=λL/d=λLg (10-12) 因为 R∥g hkl 所以式(10-12)还可以写成 R=λL g =Kg (10-13) -电子衍射基本公式 式中 K=λL称为电子衍射的相机常数,而L称 为相机长度,左边的R是正空间中的矢量,而 式右边的ghkl是倒易空间中的矢量。因此,K 是个协调正、倒空间的比例常数。

电子显微分析

电子显微分析
1924年,德布罗意(Broglie De)证明粒子在 高速运动的时候会发射出一定波长的电磁辐射。
这种波的波长(λ)与粒子运动速率(υ)、 粒子质量(m)之间存在以下关系:
λ=h/mυ
式中为普朗克(Planck)常量。
表1 电子波长(经相对论校正)
加速电压/kV
1 2 3
4 5 10 20 30
电子波长/nm
6 透射电子显微镜
(1)透射电子显微镜结构 (2)透射电子显微镜性能 分辩率\放大倍率\加速电压相机长度 (3)透射电子显微镜的图像原理
1)电子衍射 2)质量-厚度衬度像 3)电子衍射 4)衍射衬度像 5)相位衬度像 (4)样品的制备
晶体化学CAI
7 扫描隧道显微镜 8 原子力显微镜 9 其他研究方法
☆光学显微镜: ⑴带偏光、反光附件,⑵锥光附件,⑶费氏台 及旋转针,⑷热台及冷台,⑸油浸法应用,等等
3 电子束与物质的作用
(1)背散射电子 (2)二次电子(扫描电子显微镜) (3)吸收电子 (4)透射电子(透射电子显微镜) (5)特征X射线(电子探针X射线显微分析仪) (6)连续X射线 (7)X荧光射线(X荧光谱仪) (8)俄歇电子(俄歇电子谱仪) (9)阴极荧光射线(阴极发光谱仪) (10)电子束感生电效应
图像格子像子 ☆光学显微镜 产生七色光的颜色及干涉颜色
⑨主要图像 ★电子显微镜: 透射电子像, 二次电子像, 背散射电子, 吸收电子像, X射线面扫描像, X射线扫描像 ☆光学显微镜: 光学透射像,反射像及其他干涉像,光的吸收
反射、透过形成光学图像
⑩主要附件
★电子显微镜: ⑴电子衍射装置,⑵特征X射线波谱仪,⑶特 征X射线能谱仪,⑷电子能量损失谱仪,⑸俄歇电 子谱仪,⑹阴极发光装⑺电子通道花样附件,⑻微 粒分析仪,⑼热台,冷台,⑽拉伸、旋钮、压缩, ⑾电动势放大器,等等

电子显微分析简述

电子显微分析简述

电子显微分析在材料研究中的应用

1、形态分析 2、元素的存在状态分析 3、玻璃的非晶态结构分析 4、材料断面的研究 5、晶界(微观研究) 6、微区结构分析 7、高分子材料的研究 8、………………….等等
电子与固体物质相互作用的物理信号
总结如下:
1、背散射电子 2、二次电子 SEM TEM EPMA
煤灰/硫化物混合颗粒的TEM图象
海盐气溶胶颗粒;匈牙利上空大陆大气层中收集到的煤灰/硫化 物混合颗粒
沙尘暴的矿物颗粒
生物磁铁矿晶体的完好晶形 (TEM照片)
Bi-系超导氧化物的堆积缺陷层调整 Stacking fault(堆垛层错) Layer modulation(层状调制结构)
Back to
矢量与r不垂直。这时g的端点落在第非零层倒易点平面。
与 ruvw 的关系示意图 ruvw
非零层倒易面
g g
零层倒易面
晶体对电子的衍射现象,可用布拉格定律来描 述
2dhkl sinθ = n λ 又等价于衍射方程
k´-k=g
θ sample
Beam
θ g k k′
4. 倒易点阵与电子衍射图的关系
塑料一级复型图像衬度

衍射衬度
衍射衬度是来源于晶体试样各部分满足布拉格反射条 件不同和结构振幅的差异。
明场像 上述采用物镜光栏将衍射束挡掉,只让透射束 通过而得到图象衬度的方法称为明场成像, 所得的图象称为明场像。 暗场像 用物镜光栏挡住透射束及其余衍射束,而只让 一束强衍射束通过光栏参与成像的方法,称 为暗场成像,所得图象为暗场像。
O O / O* G 50
在这个平面内的低指数倒易点 都落在反射球上
5. 倒易阵点的权重---结构振幅(结构因数)
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电子显微分析简介
I. 电子光学基础 一、光学显微镜的分辨率极限 分辨本领是指成像物体(试样 试样)上能分辨出来 分辨本领是指成像物体 试样 上能分辨出来 的两个物点间的最小距离。 的两个物点间的最小距离。光学显微镜的分辨 本领为: 本领为: 1 r o ≈ λ
2
照明光源的波长: 式中 λ——照明光源的波长: 照明光源的波长 上式表明, 上式表明 , 光学显微镜的分辨本领取决于 照明光源的波长。在可见光波长范围, 照明光源的波长。在可见光波长范围,光学显 微镜分辨本领的极限为2000。 因此 , 要提高 微镜分辨本领的极限为 。 因此, 显微镜的分辨本领,关键是要有波长短, 显微镜的分辨本领,关键是要有波长短,又能 聚焦成像的照明光源。 聚焦成像的照明光源。
0.61λ ro = Nsin α
N--介质的相对折射系数 介质的相对折射系数 α--透镜的孔径半角 透镜的孔径半角
5
(二)像差对分辨率的影响 二 像差对分辨率的影响 因为电磁透镜总是会聚透镜, 因为电磁透镜总是会聚透镜 , 至今还没有找 到一种矫正球差行之有效的方法。 所以球差使 到一种矫正球差行之有效的方法 。 成为限制电磁透镜分辨本领的主要因素。 成为限制电磁透镜分辨本领的主要因素 。 若同 时考虑衍射和球差对分辨本领的影响时, 时考虑衍射和球差对分辨本领的影响时 , 则会 发现改善其中一个因素时会使另一个因素变坏。 发现改善其中一个因素时会使另一个因素变坏 。 为了使球差变小, 可通过减小α 来实现, 为了使球差变小 , 可通过减小 α 来实现 , 但 从衍射效应来看α 减小将使 变大, 从衍射效应来看 α 减小将使 ro 变大 , 分辨本领 下降。这两者相互矛盾。 下降。这两者相互矛盾。 关键是确定电磁透镜的最佳孔径半角α 关键是确定电磁透镜的最佳孔径半角α,使得 衍射效应斑和球差散焦斑尺寸大小相等, 衍射效应斑和球差散焦斑尺寸大小相等 , 表明 两者对透镜分辨本领影响效果一样。 两者对透镜分辨本领影响效果一样。
电子显微镜的照明光源是电子波, 电子显微镜的照明光源是电子波 , 电子波的波长取决 于电子运动的速度和质量, 于电子运动的速度和质量,即
λ = h mv
v--电子的速度,它和加速电压U之间存在下面的关系 电子的速度,它和加速电压 之间存在下面的关系 电子的速度1 2 mv = eU源自2可以推算出: 可以推算出:
1
1924年德布罗意发现电子波的波长比可见光短 年德布罗意发现电子波的波长比可见光短 十万倍。又过了两年, 十万倍。又过了两年,布施指出轴对称非均匀 磁场能使电子波聚焦。在此基础上, 磁场能使电子波聚焦。在此基础上,1933年鲁 年鲁 斯卡等设计并制造了世界上第一台透射电子显 微镜。 微镜。
2
二、电子波的波长
8
3.2.焦长 焦长 当透镜焦距和物距一定时, 当透镜焦距和物距一定时 , 像平面在一定 的轴向距离内移动,也会引起失焦。 的轴向距离内移动,也会引起失焦。如果失焦 引起的失焦斑尺寸不超过透镜因衍射和像差引 起的散焦斑大小, 起的散焦斑大小,那么像平面在一定的轴向距 离内移动,对透镜像的分辨率没有影响。 离内移动,对透镜像的分辨率没有影响。我们 把透镜像平面允许的轴向偏差定义为透镜的焦 表示。 长,用DL表示。 2 ro 2
12
2.2.成像系统 成像系统
主要是由物镜、中间镜和投景镜组成。 主要是由物镜、中间镜和投景镜组成。 物镜是用来形成第一幅高分辨率电子显微图像或电 子衍射花样的透镜。透射电子显微镜分辨本领的高低 子衍射花样的透镜。 主要取决于物镜。 主要取决于物镜 。 因为物镜的任何缺陷都将被成像系 统中其它透镜进一步放大。欲获得物镜的高分辨本领, 统中其它透镜进一步放大 。 欲获得物镜的高分辨本领, 必须尽可能降低像差。通常采用强激磁、 必须尽可能降低像差 。 通常采用强激磁 、 短焦距的物 像差小。 镜,像差小。 中间镜是一个弱激磁的长焦距变倍透镜, 可在0— 中间镜是一个弱激磁的长焦距变倍透镜 , 可在 20倍范围调节。当放大倍数大于1时,用来进一步放大 倍范围调节。当放大倍数大于 时 倍范围调节 物镜像;当放大倍数小于1时 用来缩小物镜像。 物镜像;当放大倍数小于 时,用来缩小物镜像。 投影镜的作用是把经中间镜放大(或缩小 的像(或 或缩小)的像 投影镜的作用是把经中间镜放大 或缩小 的像 或 电子衍射花样)进一步放大 并投影到荧光屏上, 进一步放大, 电子衍射花样 进一步放大,并投影到荧光屏上,它和 物镜一样,是一个短焦距的强磁透镜。 物镜一样,是一个短焦距的强磁透镜。
λ=
h 2emU
3
可见光的波长在3900—7600之间 , 从计算出的电子波波 之间, 可见光的波长在 之间 长来看,在常用的100-200kv加速电压下,电子波的波长要 加速电压下, 长来看,在常用的 加速电压下 比可见光小5个数量级 个数量级。 比可见光小 个数量级。
4
三. 电磁透镜
透射电子显微镜中用磁场来使电子被聚焦成像的装置 是电磁透镜。 是电磁透镜。 电磁透镜的分辨本领由衍射效应和球面像差来决定。 电磁透镜的分辨本领由衍射效应和球面像差来决定。 (一)衍射效应对分辨本领的影响 一 衍射效应对分辨本领的影响 由衍射效应所限定的分辨本领在理论上可由以下公式 计算, 计算,即
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III.扫描电子显微镜 扫描电子显微镜
扫描电子显微镜的成像原理和透射电子显微镜完 全不同。它不用电磁透镜放大成像, 全不同 。 它不用电磁透镜放大成像 , 而是以类似电视 摄影显像的方式, 摄影显像的方式 , 利用细聚焦电子束在样品表面扫描 时激发出来的各种物理信号来调制成像的。 时激发出来的各种物理信号来调制成像的 。 新式扫描 电子显微镜的二次电子像的分辨率已达到3-4nm, 放 电子显微镜的二次电子像的分辨率已达到 , 大倍数可从数倍原位放大到20万倍左右 万倍左右。 大倍数可从数倍原位放大到 万倍左右。 由于扫描电子显微镜的景深远比光学显微镜大, 由于扫描电子显微镜的景深远比光学显微镜大,可 以用它进行显微断口分析。 以用它进行显微断口分析 。 用扫描电子显微镜观察断 口时,样品不必复制,可直接进行观察, 口时 , 样品不必复制 , 可直接进行观察 , 这给分析带 来极大的方便。因此, 来极大的方便 。 因此 , 目前显微断口的分析工作大都 是用扫描电子显微镜来完成的。 是用扫描电子显微镜来完成的。
7
我们把透镜物平面允许的轴向偏差定义为透镜 的景深, 来表示。 的景深,用Df来表示。它与电磁透镜分辨本领 孔径半角α之间关系: ro 、孔径半角α之间关系
2 ro 2 ro Df = ≈ α tg α
这表明,电磁透镜孔径半角越小,景深越大。 这表明,电磁透镜孔径半角越小,景深越大。 一般的电磁透镜。 rad, 一般的电磁透镜 。 α = 10-2-- 10-3 rad , Df = 如果透镜分辨本领 (200—2000)ro。如果透镜分辨本领ro=10, , 对于加速电压100Kv的电 则 Df= 2000-20000, 对于加速电压 的电 子显微镜来说, 样品厚度一般控制在2000左 子显微镜来说 , 样品厚度一般控制在 左 在透镜景深范围之内, 右,在透镜景深范围之内,因此样品各部位的 细节都能得到清晰的像
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晶格分辨本领的测定: 晶格分辨本领的测定 : 利用外延生长方法 制得的定向单晶薄膜作为标样,拍摄其晶格像。 制得的定向单晶薄膜作为标样,拍摄其晶格像。 这种方法的优点是不需要知道仪器的放大倍数, 这种方法的优点是不需要知道仪器的放大倍数, 因为事先可精确地知道样品晶面间距。 因为事先可精确地知道样品晶面间距。根据仪 器分辨本领的高低, 器分辨本领的高低,选择晶面间距不同样品作 标祥。 标祥。
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(三)电磁透镜的景深和焦长 3.1.景深 景深 电磁透镜的另一特点是景深(或场深 或场深)大 电磁透镜的另一特点是景深 或场深 大,焦 长很长,这是由于小孔径角成像的结果。 长很长,这是由于小孔径角成像的结果。任何 样品都有一定的厚度。从原理上讲, 样品都有一定的厚度。从原理上讲,当透镜焦 像距一定时, 距、像距一定时,只有一层样品平面与透镜的 理想物平面相重合. 理想物平面相重合.能在透镜像平面获得该层 平面的理想图像。 平面的理想图像。而偏离理想物平面的物点都 存在一定程度的失焦,它们在透镜像平面上将 存在一定程度的失焦, 产生一个具有一定尺寸的失焦圆斑。 产生一个具有一定尺寸的失焦圆斑。如果失焦 圆斑尺寸不超过由衍射效应和像差引起的散焦 那么对透镜像分辨本领并不产生什么影响。 斑,那么对透镜像分辨本领并不产生什么影响。
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2.3.观察记录系统 观察记录系统
观察和记录装置包括荧光屏和照相机构, 观察和记录装置包括荧光屏和照相机构 , 在荧光屏下面放置一个可以自动换片的照相暗 照相时只要把荧光屏掀住一侧垂直竖起, 盒。照相时只要把荧光屏掀住一侧垂直竖起, 电子束即可使照相底片曝光。 电子束即可使照相底片曝光。由于透射电于显 微镜的焦长很大, 微镜的焦长很大,显然荧光屏和底片之间有数 厘米的间距,但仍能得到清晰的图像。 厘米的间距,但仍能得到清晰的图像。
DL =
α
M
M—透镜放大倍数 透镜放大倍数
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II.透射电子显微镜 透射电子显微镜 透射电子显微镜是以波长极短的电子束作为 照明源, 照明源,用电磁透镜聚焦成像的一种高分辨本 高放大倍数的电子光学仪器。它由电子光 领、高放大倍数的电子光学仪器。它由电子光 学系统、电源与控制系统及真空系统三部分组 学系统、电源与控制系统及真空系统三部分组 电子光学系统通常称镜筒, 成。电子光学系统通常称镜筒,是透射电子显 微镜的核心, 微镜的核心,它的光路原理与透射光学显微镜 十分相似,它分为三部分, 照明系统、 十分相似,它分为三部分,即照明系统、成像 系统和观察记录系统。 系统和观察记录系统。
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2.1 . 照明系统 照明系统由电子枪、 照明系统由电子枪、聚光镜和相应的平移 对中、倾斜调节装置组成。其作用是提供一束 对中、 倾斜调节装置组成。 亮度高、照明孔径角小、平行度好、 亮度高、照明孔径角小、平行度好、束流稳定 的照明源。为满足明场和暗场成像需要, 的照明源。为满足明场和暗场成像需要,照明 束可在2—3o范围内倾斜。 范围内倾斜。 束可在 电子枪是透射电子显微镜的电子源。 电子枪是透射电子显微镜的电子源 。 常用 的是热阴极三极电子枪,它由发夹形钨丝阴极、 的是热阴极三极电子枪,它由发夹形钨丝阴极、 栅极帽和阳极组成. 栅极帽和阳极组成 聚光镜用来会聚电子枪射出的电子束, 聚光镜用来会聚电子枪射出的电子束 以最 小的损失照明样品.调节照明强度、 小的损失照明样品.调节照明强度、孔径角和 束斑大小, 一般都采用双聚光镜系统. 束斑大小 一般都采用双聚光镜系统
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