(110)和(002)择优取向ZnO薄膜的制备及光学性能研究
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(110)和(002)择优取向ZnO薄膜的制备及光学性能研究苏德志;赵全亮;李中翔
【期刊名称】《北方工业大学学报》
【年(卷),期】2014(026)001
【摘要】运用射频溅射法在Si和LaNiO3/Si衬底上分别制备了高度(002)和(110)取向的ZnO薄膜.通过X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)表征,发现
ZnO/LaNiO3/Si薄膜的(110)取向度高达96％,ZnO/Si薄膜为(002)择优取向,两种薄膜表面均致密平整,晶粒尺寸小于80nm.光致发光结果表明,ZnO/LaNiO3/Si薄膜的光致发光峰主要为带边发射的紫外光,而ZnO/Si薄膜的光致发光峰主要为过量氧导致的缺陷引起的缺陷发光峰.因此,采用LaNiO3薄膜作为ZnO在Si衬底上生长的过渡层,能够有效抑制缺陷发光,改善ZnO薄膜的发光性能.
【总页数】6页(P44-48,94)
【作者】苏德志;赵全亮;李中翔
【作者单位】北方工业大学机电工程学院,100144,北京;北方工业大学机电工程学院,100144,北京;北方工业大学机电工程学院,100144,北京
【正文语种】中文
【中图分类】TB34
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