薄膜沉积设备的零部件构成

薄膜沉积设备的零件构成主要包括以下部分
1. 基底支撑结构：用于支撑和固定待沉积的基底材料，通常采用真空平台或夹具的形式，确保基底的平稳和稳定。

2. 沉积源结构：用于提供薄膜沉积所需的原料。

沉积源可以是固态材料，如靶材，也可以是气态材料，如气体或蒸气。

沉积源结构通常包括喷嘴、靶材支架等部件。

3. 沉积室结构：用于容纳薄膜沉积过程的空间。

沉积室通常是真空室，以保证在沉积过程中的高真空环境。

沉积室结构还包括真空泵、真空阀门、真空计等设备，用于创建和维持高真空状态。

4. 晶圆升降机构：用于控制晶圆的升降，以便在沉积过程中调整晶圆的位置。

5. 同心调整手：用于调整晶圆与设备中心轴的同心度，以确保薄膜沉积的均匀性。

6. 加热盘和顶针支板：用于加热和控制晶圆温度，以确保薄膜的均匀生长。

7. 动力单元：用于驱动支杆运动，实现晶圆的升降和同心度的调整。

8. 吸附机构：用于吸附待加工晶圆，将其固定在设备内部，以便进行薄膜沉积。

这些零件构成了一个完整的薄膜沉积设备，可以完成高质量的薄膜沉积工艺。