工作波长短于10nm的软X射线多层膜

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工作波长短于10nm的软X射线多层膜
吕俊霞
【期刊名称】《光学精密工程》
【年(卷),期】1996(000)002
【摘要】本文对工作波长短于10nm的软X射线多层膜正入射反射镜的国内外现状作了简单的介绍和分析,给出选择多层膜材料的一些原则,并结合本组情况选择了Ru/B4C、Rh/B4C和Mo/B4C三种材料组,在波长8.0nm附近设计并计算出多层膜的结构和反射率等性能参数。

【总页数】1页(P19)
【作者】吕俊霞
【作者单位】不详;不详
【正文语种】中文
【中图分类】TH74
【相关文献】
1.波长小于10nm的软X射线多层膜制备技术 [J], 雷洁红;邢丕峰;唐永建;吴卫东
2.波长小于10nm的软X射线多层膜制备技术 [J], 雷洁红;邢丕峰;唐永建;吴卫东
3.软X射线波段多层膜-多层膜光栅单色器 [J], 崔宏滨;刘文汉;高琛
4.软X射线多层膜与衰减膜研究 [J], 王占山;吴永刚;唐伟星;秦树基;周斌;陈玲燕
5.LiH(LiD,LiT)基软x射线多层膜的设计 [J], 刘芸;林光会;赵倩;雷洁红
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