《材料结构与性能》习题
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《材料结构与性能》习题
第一章
1、一 25cm长的圆杆,直径 2.5mm,承受的轴向拉力4500N。如直径拉细成
2.4mm,问:
1)设拉伸变形后,圆杆的体积维持不变,求拉伸后的长度;
2)在此拉力下的真应力和真应变;
3)在此拉力下的名义应力和名义应变。
比较以上计算结果并讨论之。
2、举一晶系,存在S14。
3、求图 1.27 所示一均一材料试样上的 A 点处的应力场和应变场。
4、一陶瓷含体积百分比为95%的 Al 2O(3 E=380GPa)和 5%的玻璃相( E=84GPa),计算上限及下限弹性模量。如该陶瓷含有5%的气孔,估算其上限及下限弹性模量。
5、画两个曲线图,分别表示出应力弛豫与时间的关系和应变弛豫和时间的
关系。并注出: t=0,t= ∞以及 t= τε(或τσ)时的纵坐标。
6、一 Al 2O3晶体圆柱(图1.28 ),直径 3mm,受轴向拉力 F ,如临界抗剪强度τ c=130MPa,求沿图中所示之一固定滑移系统时,所需之必要的拉力值。同时
计算在滑移面上的法向应力。
第二章
1、求融熔石英的结合强度,设估计的表面能为 1.75J/m 2;Si-O 的平衡原子间距为 1.6 ×10-8 cm;弹性模量值从60 到 75GPa。
2、融熔石英玻璃的性能参数为:E=73GPa;γ =1.56J/m 2;理论强度。如材料中存在最大长度为的内裂,且此内裂垂直于作用力的方向,计算由此而导致的强度折减系数。
3、证明材料断裂韧性的单边切口、三点弯曲梁法的计算公式:
与
是一回事。
4、一陶瓷三点弯曲试件,在受拉面上于跨度中间有一竖向切口如图 2.41所示。如果 E=380GPa,μ =0.24 ,求 KⅠc值,设极限载荷达50 ㎏。计算此材料的断裂表面能。
5、一钢板受有长向拉应力350 MPa,如在材料中有一垂直于拉应力方向的
中心穿透缺陷,长 8mm(=2c)。此钢材的屈服强度为 1400MPa,计算塑性区尺
寸 r 0及其与裂缝半长 c 的比值。讨论用此试件来求 KⅠc值的可能性。
6、一陶瓷零件上有以垂直于拉应力的边裂,如边裂长度为:①2mm;②0.049mm;③ 2μ m,分别求上述三种情况下的临界应力。设此材料的断裂韧性为
2
1.62 MPa〃m。讨论诸结果。
7、画出作用力与预期寿命之间的关系曲线。材料系ZTA陶瓷零件,温度在
2
,慢裂纹扩展指数-40
,Y 取π 。设保
900℃, KⅠc为 10MPa〃m N=40,常数 A=10
证实验应力取作用力的两倍。
8、按照本章图 2.28 所示透明氧化铝陶瓷的强度与气孔率的关系图,求出经验公式。
9、弯曲强度数据为: 782,784,866,884,884,890,915,922,922,927,942, 944,1012 以及 1023MPa。求两参数韦伯模量数和求三参数韦伯模量数。
第三章
1、计算室温( 298K)及高温( 1273K)时莫来石瓷的摩尔热容值,并请和安杜龙—伯蒂规律计算的结果比较。
2、请证明固体材料的热膨胀系数不因内含均匀分散的气孔而改变。
3、掺杂固溶体与两相陶瓷的热导率随体积分数而变化的规律有何不同。
4、康宁 1723 玻璃(硅酸铝玻璃)具有下列性能参数:λ =0.021J/(cm 〃℃) ;
-622
α =4.6 × 10/ ℃;σp =7.0kg/mm,E=6700kg/mm,
ν=0.25 。求第一及第二热冲击
断裂抵抗因子。
5、一热机部件由反应烧结氮化硅制成,其热导率λ=0.184 J/(cm 〃℃ ) ,最
大厚度 =120mm。如果表面热传递系数h=0.05 J/(cm 2〃s〃℃) ,假设形状因子 S=1,估算可兹应用的热冲击最大允许温差。
第四章
1、一入射光以较小的入射角 i 和折射角 r 穿过一透明玻璃板。证明透过后的
光强系数为(1-m)2。设玻璃对光的衰减不计。
2、一透明 AL2O3板厚度为 1mm,用以测定光的吸收系数。如果光通过板厚之后,其强度降低了15℅,计算吸收及散射系数的总和。
第五章
1、无机材料绝缘电阻的测量试件的外径Φ=50mm,厚度 d=2mm,电极尺寸如
图5.55 所示: D1=26mm,D2=38mm,D3=48mm,另一面为全电极。采用直流
三端电极法进行测量。
(1)请画出测量试件体电阻率和表面电阻率的接线电路图。
(2)若采用 500V 直流电源测出试体的体电阻为 250MΩ,表面电阻为 50MΩ,
计算该材料的体电阻率和表面电阻率。
2、实验测出离子型电导体的电导率与温度的相关数据,经数学回归分析得出关系式为:
lg A B
1
T
(1)试求在测量温度范围内的电导活化能表达式。
1-9
(.cm)1
(2) 若给定 T =500K,σ 1=10
-6
T1=1000K,σ 2=10 (.cm) 1
3、本征电导体中,从价带激发至导带的电子和价带产生的空穴参与电导。
激发的电子数 n 可近似表示为:
n=Nexp(— E /2kT )
P
式中 N 为状态密度, k 为波尔兹曼常数, T 为绝对温度。
试回答以下问题:
23-3-5-1
时, Si (E q=1.1eV),TiO2(E q =3.0eV)在
(1) 设 N=10 cm ,k=8.6× 10eV〃K
室温( 20℃)和 500℃时所激发的电子数( cm-3)各是多少?
(2)半导体的电导率σ(Ω-1〃cm-1)可表示为