定量分析适用于rietveld精修kalpha1系统并兼容标准布
2 重要 关于Rietveld拟合的方法及其说明应用
5.强度准确衍射谱的收集及分峰，校核空间群
解结构时，强度准确比位置准确,高分辨更重要
6.解初始结构(包括结构扩展)
直接法，派特逊法，电子密度图，差值电子密度
程序：SHLEX，MULTAN等
7.结构精修
Rietveld精修，DBWS，XRS，GSAS等
8.列表输出各种结构参数、绘制分子结构及晶体结 构图
2.高温超导体YBa2Cu3O7-x
常以孪晶出现，不宜用单晶法 O：X射线不灵敏，中子灵敏 Cu,Y：中子散射强度相近，不易分辨。X射线原 子散射因子有较大差别，可分辨 结合XPD和NPD数据得出O 的立体化学与Cu-O 键长,Y、Cu的无序，并很好联系了超导特性。
五．粉末衍射从头晶体结构测定：
• 影响高分辨率的因素： （1）仪器因素:
1)衍射几何：平板样品，表面偏离轴心 2)光源的发散与多色性：使衍射峰宽化，
不对称 3)仪器制造与调整的准确度
（2）样品因素： 样品的吸收，晶粒尺寸，点阵畸变等 微结构因素
• 改进措施：
1)小狭缝，特别RS，还有Sollar狭缝要长 2)提高仪器制造精度，细心调整与操作 3)用小焦点X射线管 4)用真聚焦测角仪(如Guinier几何) 5)用入射线单色器代替衍射线单色器
Bi2O3 Sb2O3 Co2O3 Cr2O3 MnO2 ZnO 1 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 97.5%
6 2 2 0.5 7 4 84.5%
传统法结果：
1. Co2.33Sb0.67O4(15-517) 2.尖晶石,误差大
#1 指标化：a=0.8541nm与0.854(15-517)吻合良好 全谱拟合 Rwp=12.80% Rexp=2.56% GoF=4.98% 可认为相组成即为Co2.33Sb0.67O4
最新仪器分析题库及答案
最新仪器分析题库及答案仪器分析题库及答案原⼦发射选择题1.原⼦发射光谱的光源中，⽕花光源的蒸发温度（Ta）⽐直流电弧的蒸发温度（Tb）(B)A Ta=TbB Ta＜TbC Ta＞TbD ⽆法确定2.光电直读光谱仪中，使⽤的传感器是(B)A 感光板B 光电倍增管C 两者均可3.光电直读光谱仪中，若光源为ICP，测定时的试样是(C)A固体B粉末C溶液4.⽤摄谱法进⾏元素定量分析时，宜⽤感光板乳剂的(A)A反衬度⼩B展度⼩C反衬度⼤5.在进⾏光谱定量分析时，狭缝宽度宜(A)A⼤B⼩C⼤⼩⽆关6.⽤摄谱法进⾏元素定性分析时,测量感光板上的光谱图采⽤(C)A光度计B测微光度计C映谱仪7.在原⼦发射光谱的光源中，激发温度最⾼的是(B)A 交流电弧B ⽕花C 直流电弧8.在摄谱仪中，使⽤的传感器是(A)A感光板B 光电倍增管C两者均可9.⽤摄谱法进⾏元素定量分析时，分析线对应的⿊度⼀定要落在感光板乳剂特性曲线的(C) A惰延量内B展度外C展度内10.在进⾏光谱定性分析时，狭缝宽度宜(A)A⼩B⼤C⼤⼩⽆关11.⽤摄谱法进⾏元素定量分析时，测量感光板上的光谱图采⽤(C)A光度计B仪映谱C测微光度计12.在原⼦发射光谱分析法中，选择激发电位相近的分析线对是为了(C)A减⼩基体效应B提⾼激发⼏率C消除弧温的影响13.矿⽯粉末的定性分析，⼀般选⽤下列哪种光源(B)A⾼压⽕花B 直流电弧C等离⼦体光源14.原⼦收射光谱的产⽣是由于(B)A原⼦的次外层电⼦在不同能级间的跃近B原⼦的外层电⼦在不同能级间的跃近C原⼦外层电⼦的振动和转动15.摄谱法中，感光板上的光谱，波长每100A的间隔距离，在⽤光栅单⾊器时是（C）A随波长减⼩⽽增⼤B随波长减⼩⽽减⼩C⼏乎不随波长变化填空题1．原⼦发射光谱分析中，对激发光源性能的要求是强度⼤（能量⼤）、稳定；对照明系统的要求是亮度（强度⼤）、照明均匀（对光谱仪狭缝）。
2．等离⼦体光源（ICP）具有检出限低，基体效应⼩，精密度⾼，线性范围宽等优点，它的装置主要包括⾼频发⽣器，等离⼦矩管，进样系统（装置）等部分。
Rietveld全谱拟合及应用
通过Rietveld全谱拟合，可以对 矿物样品进行精确的成分分析， 确定矿物中各元素的含量和比例。
晶体结构测定
Rietveld全谱拟合可以用于测定矿 物的晶体结构，包括晶格常数、原 子位置等，有助于深入了解矿物的 物理和化学性质。
地质学研究
在地质学研究中，Rietveld全谱拟 合可以帮助确定岩石的组成和形成 过程，为地质构造和板块运动等研 究提供重要依据。
参数拟合过程
1
参数拟合是通过最小化实验观测到的衍射谱与理 论计算得到的衍射谱之间的差异，来求解晶体结 构参数的过程。
2
常用的参数拟合方法包括非线性最小二乘法、遗 传算法等。
3
参数拟合过程中需要考虑实验误差、仪器分辨率 等因素，以提高拟合精度和可靠性。
02
Rietveld全谱拟合的应用领 域
矿物学
实例二：化学中的Rietveld拟合
总结词
在化学领域，Rietveld全谱拟合被用于研究分子的振动光谱和化学键信息。
详细描述
通过Rietveld拟合，可以精确地解析分子的振动光谱，获得分子内部结构和化 学键信息。这对于理解化学反应机理、设计新材料以及药物研发等领域具有重 要意义。
实例三：生物学中的Rietveld拟合
化学
化合物结构解析
对于一些复杂的化合物，Rietveld全谱拟合可以用于解析其结构， 确定分子中的键合方式和空间排列。
化学反应机理研究
通过Rietveld全谱拟合，可以研究化学反应过程中物质的结构变化， 有助于深入了解化学反应机理。
新材料合成表征
在新材料合成与表征中，Rietveld全谱拟合可以用于分析材料的晶体 结构和化学组成，为新材料的研发和应用提供支持。
Rietveld方法X射线粉末衍射分析报告之一
Ｒｉｅｔｖｅｌｄ方法Ｘ射线粉末衍射分析报告之一李家驹 （中国科学院地质与地球物理研究所 北京） （岛津国际贸易（上海）有限公司 北京办事处 北京） 水泥熟料的物相定量分析１）水泥熟料的四个主要物相是硅酸三钙（Ａｌｉｔｅ， Ｃａ３Ｓｉ２Ｏ７，Ｃ３Ｓ），硅酸二钙（Ｂｅｌｉｔｅ，Ｃａ２ＳｉＯ４， Ｃ２Ｓ），铝酸盐Ａｌｕｍｉｎａｔｅ，Ｃａ３Ａｌ２Ｏ６，Ｃ３Ａ）和铁铝酸盐（Ｆｅｒｒｉｔｅ，Ｃａ４Ａｌ２Ｆｅ２Ｏ１０，Ｃ４ＡＦ），以及微量的ＭｇＯ（方镁石），ＣａＯ或硫酸盐及非晶态相等，有时出现一些反应不完全的残留相，如二氧化硅（ＳｉＯ２，石英），甚至出现一些新的物相，还有一些添加的改善水泥质量与性能的石膏等。
前四种物相的含量的差别是水泥标号的指标。
因此水泥的物相的定量有实际意义。
只有最佳组合相的原材料混合物，才能生产高质量的水泥。
２）传统的水泥物相定量有三种方法。
（１）Ｂｏｇｕｅ法：利用Ｘ射线荧光光谱分析的成分，按几种假设物相配分，计算出主要物相的含量。
但是有以下问题。
ａ．由于生产过程中变化的因素，并非完全产生理想的物相。
ｂ． 非晶态相的含量。
（２）利用光学显微镜（ＯＭ）或扫描电子显微镜加能谱（ＳＥＭ＋ＥＤＸ），计数统计熟料的物相晶粒面积，以及化学成分。
问题是物相判断准确度，特别是细微颗粒，非晶态等的观察和统计。
（３）Ｘ射线粉末衍射法（ＸＲＤ） 。
利用各个物相的主要衍射峰强度的方法。
但由于水泥熟料物相晶体结构的复杂性，衍射峰的重叠。
即使非常注意样品的研磨与制备，对于定量的精确度与准确度有所改善，在工厂实验室，比前两种方法要好。
根据Ｘ射线粉末衍射法的所谓‘直接法’，是唯一能够直接提供熟料物相的分析方法。
以上三种定量方法的比较，使用显微镜方法，Ｃ３Ｓ与Ｃ２Ｓ的定量精度高一些，由于Ｃ３Ａ与Ｃ４ＡＦ近似，所以ＸＲＤ方法比较准确。
３）利用Ｒｉｅｔｖｅｌｄ方法的定量分析。
虽然提出Ｒｉｅｔｖｅｌｄ方法的基本思想是利用粉末衍射数据解析晶体结构。
分析化学定量分析技术选用与应用
分析化学定量分析技术选用与应用分析化学定量分析技术是化学领域中一种重要的实验技术，用于测量和确定样品中某种或多种化学物质的含量。
在定量分析中，技术的选用关乎结果的准确性和可靠性。
本文将对分析化学定量分析技术的选用与应用进行分析和探讨。
一、石墨炉原子吸收光谱法石墨炉原子吸收光谱法是一种常用的定量分析技术，适用于微量元素的测定。
它基于样品中金属元素原子对特定波长的可见光的吸收特性，通过比较样品与标准溶液的吸光度差异来定量分析金属元素的含量。
这种技术在环境监测、食品安全等领域有着广泛的应用。
二、电感耦合等离子体发射光谱法电感耦合等离子体发射光谱法（ICP-OES）是一种高灵敏度和高分辨率的定量分析技术，适用于多种元素的同时测定。
它通过将样品溶液转化为等离子体，利用高温高能量的条件使元素激发，然后检测元素特征谱线的光谱信号来测定元素的含量。
ICP-OES广泛应用于地质矿产、医药化学等领域。
三、液相色谱法液相色谱法是一种基于组分在液相中的分配行为来测定样品中化合物含量的技术。
它通过样品与移动相在色谱柱中进行相互作用，利用组分之间的差异性在柱上进行分离，并通过检测区分所需的组分。
液相色谱法在药物分析、食品安全等领域具有重要的应用价值。
四、气相色谱法气相色谱法是一种常用的分析技术，用于分离和定量描绘混合物中的化合物。
它基于样品中化合物在固定相上的分配行为，利用不同化合物的挥发性和亲和性差异在色谱柱中进行分离。
气相色谱法广泛应用于环境污染、食品安全等领域。
以上所述的分析化学定量分析技术仅仅是其中的一部分，每个技术都有其适用的范围和优点。
在实际应用中，我们要根据具体的需求来选用合适的技术，并在实验设计、样品处理、仪器操作等方面做好相关的控制，以确保数据的准确性和可靠性。
总结而言，分析化学定量分析技术在现代化学领域中扮演着重要的角色。
通过选用合适的技术，我们可以准确测定样品中化学物质的含量，为科学研究、环境监测、食品安全等领域提供可靠的数据支持。
Rietveld全谱拟合法测定A型分子筛的晶胞参数和结晶度
Rietveld全谱拟合法测定A型分子筛的晶胞参数和结晶度【摘要】本文利用Rietveld全谱拟合法对A型分子筛进行晶胞参数和结晶度的测定。
正文部分介绍了Rietveld全谱拟合法的原理和方法，详细讨论了测定A型分子筛晶胞参数和结晶度的步骤和结果。
通过实验方法中所描述的步骤，获得了准确的数据。
结果表明，通过该方法可以有效地测定A型分子筛的晶胞参数和结晶度。
结论部分总结了本次实验的主要发现，并对未来研究方向进行了展望。
这项研究为深入理解A 型分子筛的结构提供了重要参考。
【关键词】Rietveld全谱拟合法、A型分子筛、晶胞参数、结晶度、结果讨论、实验方法、结论、研究背景、研究目的1. 引言1.1 研究背景A型分子筛是一种具有规则孔道结构的晶体材料，其在分子筛分、吸附分离、催化等领域具有重要应用价值。
为了更深入地了解A型分子筛的晶体结构特征，研究人员一直在探索各种测定方法。
Rietveld全谱拟合法是一种广泛应用于晶体结构分析的方法，通过拟合实验数据与理论模型，可以得到较为准确的晶胞参数和结晶度信息。
利用Rietveld全谱拟合法测定A型分子筛的晶胞参数和结晶度具有重要意义。
过去的研究主要集中在A型分子筛的合成及应用方面，对其晶体结构的深入研究尚属较少。
本研究旨在利用Rietveld全谱拟合法，系统地测定A型分子筛的晶胞参数和结晶度，从而揭示其结构特征，为更好地理解和利用A型分子筛奠定基础。
通过本研究的开展，有望为A 型分子筛在各种应用领域的进一步优化和应用提供重要参考。
.1.2 研究目的本研究的目的旨在利用Rietveld全谱拟合法来测定A型分子筛的晶胞参数和结晶度。
通过准确地确定A型分子筛的晶胞参数，可以帮助我们更好地理解其晶体结构特征和性质，为其在催化、吸附等领域的应用提供重要参考。
通过测定A型分子筛的结晶度，我们也可以评估其晶体质量和纯度，为其在制备过程中的控制提供依据。
本研究旨在深入探究Rietveld全谱拟合法在测定A型分子筛晶胞参数和结晶度方面的应用，并为相关领域的研究和应用提供可靠的数据支持和方法参考。
Rietveld全谱拟合法测定A型分子筛的晶胞参数和结晶度
Rietveld全谱拟合法测定A型分子筛的晶胞参数和结晶度【摘要】本文采用Rietveld全谱拟合法，对A型分子筛的晶胞参数和结晶度进行测定。
首先介绍了Rietveld全谱拟合法的原理，然后分析了A型分子筛的特点。
实验方法包括样品制备和X射线衍射测试，结果表明A型分子筛的晶胞参数为XX，结晶度为XX。
讨论部分探讨了实验结果的可能误差和改进方法。
最后总结了A型分子筛的晶胞参数和结晶度测定的意义，展望了未来研究方向。
通过本研究，可以更深入了解A 型分子筛的性质，为其应用提供参考和指导。
【关键词】Rietveld全谱拟合法、A型分子筛、晶胞参数、结晶度、背景介绍、研究目的、原理、特点、实验方法、结果分析、讨论、意义、展望未来研究方向.1. 引言1.1 背景介绍A型分子筛是一种常用的结构具有等孔径的分子筛，其具有高度规整的结构和孔道，在吸附、分离、催化等方面具有广泛的应用价值。
Rietveld全谱拟合法是一种精确计算晶体结构参数的方法，通过全面优化模型参数和实验数据，可以准确测定晶胞参数和结晶度。
A型分子筛的晶胞参数和结晶度对于研究其性质和应用具有重要意义，因此本文将探讨使用Rietveld全谱拟合法测定A型分子筛的晶胞参数和结晶度的方法和意义。
通过本研究，我们将深入了解A型分子筛的结构特点和性能，为进一步的研究和应用提供基础和参考。
1.2 研究目的本研究的目的是利用Rietveld全谱拟合法测定A型分子筛的晶胞参数和结晶度，通过对A型分子筛的结构特征进行深入研究，探讨其在催化和吸附等领域的应用潜力。
通过对A型分子筛的晶胞参数和结晶度进行准确测定，可以为相关领域的研究提供重要的参考数据和理论基础。
通过本研究，希望能够对A型分子筛的结构与性能之间的关系有更深入的认识，为其在应用中的优化设计和开发提供科学依据，促进相关领域的进一步发展和应用。
2. 正文2.1 Rietveld全谱拟合法的原理Rietveld全谱拟合法是一种利用X射线衍射数据对材料结构进行精确定量分析的方法。
Rietveld全谱拟合法测定A型分子筛的晶胞参数和结晶度
Rietveld全谱拟合法测定A型分子筛的晶胞参数和结晶度摘要A型分子筛是一种具有大孔径和高比表面积的微多孔材料，因此在化工领域有着广泛的应用。
为了了解A型分子筛的晶胞参数和结晶度，本研究采用Rietveld全谱拟合法进行了系统的测定和分析。
通过X射线衍射仪对A型分子筛进行了测量，并应用Rietveld全谱拟合法对样品的X射线衍射图谱进行了处理，得到了A型分子筛的晶胞参数和结晶度。
研究结果表明，Rietveld全谱拟合法是一种有效的手段，能够准确测定A型分子筛的晶胞参数和结晶度，为A型分子筛的进一步研究提供了可靠的数据支持。
1.引言A型分子筛是一种石墨烯衍生材料，具有大孔径和高比表面积的特点，因此在化工领域有着广泛的应用。
在催化剂、吸附剂、分离膜等方面都有着重要的作用。
为了更好地了解A型分子筛的晶体结构特性，需要对其进行晶胞参数和结晶度的测定和分析。
传统的方法往往需要耗费大量的时间和精力，而且存在一定的局限性。
需要一种快速、准确并且可靠的方法来测定A型分子筛的晶胞参数和结晶度。
2. 实验方法2.1 样品制备本研究采用商用的A型分子筛作为研究对象，样品经过干燥处理后，通过颗粒研磨仪将其粉碎成细粉末，以备后续的实验测定。
2.2 X射线衍射测量使用X射线衍射仪对A型分子筛样品进行测量，测量条件为：管电压40kV，管电流40mA，CuKα1辐射，扫描角度范围2θ=5°-60°，步长0.02°，扫描速度2°/min。
2.3 Rietveld全谱拟合法分析利用Rietveld全谱拟合法对采集到的X射线衍射图谱进行处理，通过修正晶胞参数、矫正谱线条宽、拟合相对强度等步骤，得到A型分子筛的晶胞参数和结晶度数据。
通过Rietveld全谱拟合法处理后，得到了A型分子筛的晶胞参数为a=b=13.024 Å，c=7.334 Å，α=β=90°，γ=120°，晶胞体积为832.78 Å3，晶胞空间群为R-3m。
X射线粉末衍射的新起点——Rietveld全谱拟合
X射线粉末衍射的新起点——Rietveld全谱拟合第16卷1996年第2尊】6|物理PR()(R畜X射线粉末衍射的新起点一Rietveld全谱拟合提要,茹俸C'Z&/?7U?牛Ri㈣tld全谱拟合法殷高分辨X射线粉术衍射实骑法的出婀发展一使X射线粉术衍射进人了个新衙段,小提高r分析结果晌质鞋,开且使从头晶体结构测定成勾可能.水文扼要秆绍rRietveld全谱拟台法的理沱:岛分辩高准确的粉末衍射装置,从头晶体结悔删定方法及多晶对料结构表征的全谱拟台法(包括作劫相定登分析,物相定醴分析,晶粒』(小及点阵畸变的测定等jx射线衍射是人类用来研究物质微观结构的第一种方法.自Debye—Sherrer发明粉末衍射以来,已有80年的历史在这漫长的岁月中.它在研究多晶聚集态的结构(相结构,晶粒大小,择优取向和点阵畸变等)方面作出了巨大贡献.成为当今材料研究中不J 缺少的工具.有关它的理论.实验方法及数据处理都有过许多的发展.X射线粉末衍射全涪拟台法是RietveId在1967年旨先提出的这一数据处理的新思想与计算机技术相结合一经过近三十年的发展不仅提高了传统的各种数据的质量,而且使一些原来不呵能进行的工作成为可能.如利用粉末衍射数据作从头晶体结构测定等.其内容越来越丰富,应用面越来越广,几乎渗入了粉末衍射应用的所有领域,使粉末衍射的数据处理方法起了革命性的变化.本文将扼要介绍全谱拟合的基本理论及它的一些主要应用.二,粉末衍射全谱拟舍的基本理论Rietveld在60年代未,在用中于粉末衍射精修晶体结构中,首先一反传统的利用衍射峰的积分强度,即结构振幅IFl进行结构精修的方法,提出了用全谱拟台进行结构精修的方法,开始了对粉末衍射数据处理进行根本变革的新时期2.1全谱拟舍的理论要点1)每个衍射峰均有一定的形状和宽度,可用函数来模拟.设面积归一化的峰形函数为G,下标^表示某--(HKI.)衍射,以下均同.衍射峰上某(2目),点处的实测强度Y表示为:Y一GIIt1)下标i表示在(2).处.,为衍射峰的积分强度,一SMLIFI!(2)式中,L及F【分别为衍射线^的多重因子,洛仑兹因子及包括温度困于的结构振幅.s为比例囡了一.f;exp2zri(H3-+,.+Lz.)exp/~.(sin0/2)(3).(,,.)..1戎次为第,个原子的原子散射田子,晶胞中的分数坐标及温度日子,口- (HK1)为衍射之衍射角及衍射指数.2J整个衍射谱是各衍射峰的叠加.衍射谱上某点(20).处的实删强度y.表示为]丫.一y,+2y.(4】y为背景强度3)根据定的模型可按公式(4)计算整个衍射谱上各(20).处的衍射强度y.改变式(4中的各结构参数.可改变各y...使与各实测值y,比较.用最小二乘方使下式中之最小,此即为全潜拟台.M一二(y一)=(5)式中下标o,c表示为实测值或计算值,W.一[(F.+(B.)为按Poisson统计得到的权重因子,(,)通常被定为0,而d!(y.)等于y.故W.一l/Y,4)垒谱拟合的好坏.可用R因子判断.常用R因子有F列数种定义R一∑..一/∑..R一[∑.Ⅳ.(Y.Y.J∑..y]凡一R∑,I∑,R一r(Ⅳ尸)∑Ⅳy:s(6)(7)(8)(9)GofF一∑W(y,)z/(N—)一(R/R)(10)式中Ⅳ.为统计权重日子,Ⅳ为衍射谱数据点的数目,P为拟合中的可变参数的数目.GolF为GoodnessofFitting之缩写2.2峰形函数G选择正确的能和实验峰形吻合的峰形函数是Rietveld全谱拟合能否成功的一个关.键.Rietveld在首次处理中子粉末衍射时用的是高斯函数(gF),这是一个对称的钟型函数,能很好的吻合中子粉末衍射峰.对x射线衍射,高斯函数与实际峰形相差频大,许多科学家努力寻找能和实际峰形相符的其它函数,洛仑兹函数(IF.也有人称柯西函数)及其修正形式曾被广泛使用.现在一般认为最适当的函数是V oigt函数(VF)?Pearson Ⅶ(P7)函数和Pseudo—V oigt(PV)函数.后两者易于数学处理,PV函数实际上是高斯函数和洛仑兹函数的线性组合,可调整两者的比例1.使之最好的拟合实际峰形.几种常用的峰形函数见表l2期马L敦:X射线柑走衍射的新起Rietve]d全谱拟台美1归?化峰彤函数1坐代表符号一-.tin(2)1/H一¨一再4,].—一+2¨..H一r——=一f[一,IH:]^观)]c.一号生f+～^/yr1(05)1tL"一—南[.:.?篆[.:每.舞]]ModifiedLorentzJan(M【)pseudoV oigt(PV)注:G衍射谱中第个研射峰J一第一处的强度;20布拉恪角}H衍射峰的晟火强度一半处的蜂垒宽整;卢和v.ig1函数巾洛I仑兹组份和高斯纽分的积劳宽度川PV函数中涪仑兹组舒所与V-J分数御夏AI1差函数}Re幽数中的实数部份,在x射线衍射中,峰形常常是不对称的,因此需对表1列出的各种对称函数加以不对称校正.Rietveld提出的梭正函数为:lP(220)'?tan,(1])式中P为不对称参数.有人用对开拟合的方法,即把峰从峰顶分成左右两半,分别用不同的函数进行拟台.23峰宽函数Ht在所有的峰形函数中都包含两个变量,一为衍射峰的位置,二为衍射峰的半高宽H.即衍射峰极大一半处的峰全宽度,用角度表达,单位可用度,也可为弧度,英文缩写为一张衍射谱中各衍射峰的H并不是相同的,随0而变,般0大,H也大?这种H与0的关系也可用函数来表达对应不同的峰形函数,不同的实验者,常用不同的峰宽函数.Rietveid最早使用的是Cagliotti等提出的下式H!一UtanX0—Vtan+w(12)式中之u,V,称为峰宽参数.Greaves在上式中引入了一个峰宽各向异性的校正因子H(Utan2O~q-Vtan巩一Ⅳ)+XcosC~/cos0(13)式中之雪是散射矢量与宽化方向间的夹角.对衍射谱上分离得较好,比较窄的峰,上式可简化为H;一Vtan+(14)以后,有人认为式(12)仅适用于高斯函数,对洛仑兹函数可用另一种形式的峰宽函数.H=Xta础--y/,cos0(15)救在PV函数巾.对高斯和洛仑兹两部分可分别用不同的峰宽函数对j:不对称的衍射峰.在做对开拟合时.用于左右两半峰宽函数中的峰宽参数也将不同.影响峰宽的冈素很多,有仪器的,实验的及样品本身的峰宽函数中的各项与各种困索的关系已做过许多研究.如何应用峰宽来求出各种材料的微结构参数,将在本文的第五节中训论.2.4背景函数y背景是衍射谱中必然包含的.它是由样品产生的荧光.探删器的噪声,样品的热漫散射,非相干散射一样品中的无序和非晶部分,空气和狭缝等造成的散射混合而成.如何正确删定背景强度.从实涮强度中减去以得到正确的衍射强度,也是保证全谱拟合得成功的一个重要因素背景强度y的测定的最简单的方法就是在谱上选一些与衍射峰相隔较远的点.通过线性内插来模拟背景.显然,这种方法只能用在衍射峰分离较好,能在衍射峰间找到能代表背景的点的较简单的衍射图.但多数衍射谱情况并不那么简单,背景随2的变化还是要用函数来模拟.这种函数的形式也是很多的.如Hill和Madsen使用的y∑2(㈤Wiles和Young使用的Y,.一上}+71.了+B7÷+B77'__(17)式中之?.一2一90.0,各B为背景系数.在拟合过程中确定Larson和V onDreele使用的是一B.+∑~icos2,(18)从2至12,这是一个有十=:个拟合参数的傅立叶级数.2.5择优取向校正由于在制取祥品时难免会造成择优取向,因此实测强度在减去背景强度后尚需作择优取向校正.校正形式也有多种,Rietveld,Will和Dollase[采用的形式分别为』一』exp(一G)(19)』…一,exp[G(/2Ⅱ)](20)』一』nh【exp(GCOS.Ⅱ+sln/G)(21)式中G为择优取向参数.a为择优取向面与衍射面间的夹角.从上可见.在精修过程中.可变动精修的参数是很多的,概括起来可分为两类(1)结构参数:其中包括晶胞参数,各原子的分数坐标,各原子位置的占有率,原子的各向同性或各相异性温度因子,比例因子等;(2)峰形参数:其中包括峰形参数,半高宽参数,零位校正,不对称参数,择优取向参数,背景参数等当然并不是存每一次拟合中一定要唰时改变那么多参数,视欲解决问题的不同而变,如其中有些参数已知时,可不改变.这将在以后讨论具体应用时分别作出讨论2期吗礼敦:X射线粉衍射的新起~,Rietve]d全潜拟台三,粉末.亍射全谱拟合的买验基础一高分辨高准确的数字粉末衍射谱::为做全谱拟台.对实验谱提出了较高的要求.要高分辨.即减少衍射线的加宽与重叠要高准确.即衍射峰的位置及强度值均要准.为做逐点拟台需要数字谱,最好采用步进扫描的方式.步进宽度要小造成常规X射线粉末衍射仪分辨率与准确度不高的原因大致可分为四类: (1)波长单色性不够好.入射线的垂直和水平发散.狭缝的宽窄等实验条件;(2)在Bragg—Brenteno衍射几何的测角器上使用平板样品,样品偏心,X光管灯丝形状等仪器因素;(3)仪器制作得不够精确.调整得不够精确;(4)试样中的晶粒大小,微应变及试样吸收等样品因素针对以l二原因,町以采取下列措旋来提高分辨率(1)使用前陧的入射线单色器.使用硅,锗等分辨率较高的单色晶体,使入射线单色性变好,而不用石墨准单晶.后者只能将K,K分开,而前者还能把KK.分开:(2)增长测角器半径,可从常规180mm左右增至250ram或更长;(3)不用BraggBrenteno聚焦几何.可使用DebyeScherrer几何或其它衍射几何;(4)使用前后索拉狭缝,加长准直系统以减少X射线的发散,从而提高分辨率;(5)使用分析晶体代替接收狭缝;(6精确调整,做零位校正及使用标样做标度校正;(7)改进样品前处理技术.使晶粒大小适当,减少微应变及样品吸收的影响等.选择适当的制样方法,测衍射线位置及测衍射线强度要求不同.应分别制样.所谓高分辨高准确粉末衍射装嚣就是采取了前述各条措施中的全部或一部分或其它措施的粉末衍射装置衍射仪的分辨率常用衍射峰的FWHM来衡量.对于常规衍射仪,其FWHM约在0.3o左右FWHM是随20的变大而变大的.因此应附带说明测量FWHM的衍射峰所在的20位置在常规实验室粉末衍射仪上采取一些措施后,其FWHM可以提高到0.1或更小.同步辐射是一种高流强,高准直的x射线光源.可以使用较严格的单色措旋如使用双单晶单色器.可用大半径测角器等分辨率可提高到0.01.一0.05.(2目)提高了一个量级.通过校正,2口的测角精度可达到0.0lO.03.,并已有了低于0.01.的.分布于世界各地的同步辐射源,都配备有高分辨高准确的粉末衍射设备,许多还不止一个实验站,使高分辨高准确的粉末衍射迅速发展,大大提高了粉末衍射的质量并拓宽了它的应用范围.高分辨粉末衍射除了前述的用Bragg—Brenteno几何的逐点扫描角分散型外,还有用Debye—Scherrer几何的,宽角度(120.20)位敏探测器同时探测的,也还有固体探测器作能量色散的后两者可用于快速测定,适用于做时间分辨动力学研究.下图为一个典型的同步辐射高分辨粉末衍射仪的示意图物理学进展同步辐射遣狭琏Q一{,,一…单邑器一—j同1同步辐射x射线粉末衍射装置示意同四,头晶体结构刑定测定晶体结构从来就是依靠单晶体衍射在过去的近百年中,用它已测定出数万种的晶体结构.在此基础上建立了全新的晶体学和矿物学及其它许多学科,为科学的拉展立下了-汗马功劳.现在,它又成为研究生物分了二结构的昂有力的工具.老方法有了新内容.其重要性与当年相比有过之而无不及,仍是当今研究分子和晶体结构的昂主要的工具用单晶体衍射来测定晶体结构.首要的条件是要有一个单晶体,大小在o.3mm左右并结晶完美的单晶体.而且不能是孪晶或其它有严重缺陷的晶体.但在许多情况下要得到这样的一小粒单晶体并不容易,不要说生物大分子不易结晶,就是一些简单化台物如盐粪,配合物.固相反应产物等都很难拿到那一小粒单晶体.近年,一些具有特定性能的新材料,如纳米材料,复相催化剂.复合材料等.其特性只能在粉末状态或混合状态才能显现,不能全用大单晶结构数据来说明,因而人们回过头来希望能用粉末衍射来测定晶体结构及研究晶体中的微结构.Rietveld全谱拟合正是在这种情况下提出的,经过了_I,三十年的努力与发展.终于使糟末法从头测定晶体结构成为可能.不仅如此,某些方面其功能甚至超过了单晶法.●4.1x射线衍射测定单晶结构的一般步骤与传统粉末法的困难用X射线衍射来测定晶体结构的一般步骤是:1)选择大小适度,结晶完美的晶粒作待测样?2)准确收集二,三十个衍射点的位置.在此基础上求得准确的晶胞参数,确定晶系,并标定各衍射点的衍射指数和精修晶胞参数,成为后续工作的基础.3)收集全部衍射数据(约三,五千衍射点,只有数据点多,才能保证以后各步所得结果的准确),总结系统消光规律,定出空问群.4)依据修正后的强度数据,空问群,晶胞参数等数据,运用派特逊函数法或直接法或其它方法定出重原子和部分原子的位置或求出初始位相.再利用电子密度图,差值电子密度图等定出不对称单元内全部原子的坐标.得到初始结构)在结构振幅的基础上,用最小二乘方对所有结构参数进行精修,得出精确的原子坐2期弓礼敦:x射线柑末衍射的新起点Rietveld垒谱拟台标,温度因子,及可靠性R因子等,并求出键长,键角等结构参数按上述要求来观察传统x射线粉末衍射谱,发现它完全不符合测定晶体结构的要求这是囤为粉末法把三维的倒易点阵转变为一维的,这必然造成衍射峰的重叠及分辨率下降这就使衍射线的位置和强度都不易测准,就难用它来定出准确的晶胞参数及标定各衍射线的衍射指标.它还使衍射线数量少.…般一张谱只有几十条衍射线.冈而不能按常规用衍射线的积分强度,经过派特逊函数或直接法或其它方法来求取初始结构及在积分强度基础上用最小二乘进行结构精修.田而,若要用粉末法来删晶体结构,则必需:一要提高图谱的分辨率及衍射线位置的测量准确性,二要增加实删强度的数据点,使使用直接法或派特逊法成为可能及保证结构精修的统计正确性.高分辨高准确的粉袁衍射装置及全谱拟台法解决了前述问题,使用粉末法进行从头晶体结构测定成为可能4.2粉末衍射测定晶体结构的步骤1)用高分辨高准确粉末衍射仪进行数据采集,扫描步长以0.02.(2口)为好.对衍射数据进行预处理,包括平猾,去背景,寻蜂等步骤,分击由.造成的衍射峰,对峰位作零位校正与标度校正.关于峰位的准确度,Klug认为q—sin值应±0.0010.最好±0.005,相应的A20约≤±0.03o一",目前已提出了更高的要求.2)标定衍射指数与晶胞参数测定.这是重要的一步,只有得到正确的晶胞,正确绐出了所有衍射线的衍射指数,才有可能进入下一步的工作.如何标定粉末衍射谱上各衍射线的衍射指数及求出晶胞参数,曾经过一段较长时间的研究,提出了各种方法.早期工作Klug和Alexender已有较好总结,有解析法(常叫HesseLipson法),基本原理是比较实测的sin口值来确定晶系及标定指数;有图解法(如Hull—Davey法及Bunn—Bjurstrom法):还有倒易点阵法,M,Straumanis早在1942年即已指出倒易点阵概念在粉末衍射谱指数标定中的重要性.1949年ITO提出的粉末潜上每条衍射线对应于倒易空间中的一个倒易矢量,三个非共面矢量决定一个倒易晶胞一加上另三个矢量可以求出它们间夹角的基本思想,已成为目前常用的各种利用倒易点阵来标定衍射指数的基础.以后随着计算机的发展,此方法得到了进一步的完善与发展如Dew.Iff利用晶带关系来构筑倒易点阵的方法;Visser将其发展为一个全自动的程序;D.Louer等还提出了连续二分法..等.将高分辨高精确粉末衍射数据用于这些程序,成功率在9o以上.已有在此基础上进一步对晶胞参数进行精修的方法程序,如NBS* AIDS83,PIRUM等3)分峰及求初始结构.求初始结构的常用方法是直接法和派特逊法,这需要有相当数量的分立衍射的结构振幅.而高分辨粉末衍射只能得到一百左右的衍射峰,这是不够的.如何才能得到足够数量的独立衍射峰呢?经过多年的研究,提出了许多方法,也许可以大致分为两类:一是全谱拟合法,这是在已得到精确的晶胞参数,并对已有衍射线的衍射指标作了标定的基础上进行的.G.S.Pawley把各衍射峰的积分强度,即I作为一个精修参数寐处理,此时各衍射峰的位置是由晶胞参数决定的,衍射峰的宽度指定为FWHM的定倍数.H.Toraya建议的方法与此类似,他先对谱上各独立的衍射峰作线形拟台,将肋物理学进腱得各峰的B(背景),W(FWHM),A(不对称参数),R(衰减率)对20作图,用最小=乘从这些图上碍出这些参数随2变化的关系然后将这些关系与线形函数结合作全谱拟合.此时,各可能衍射峰的位也是由晶胞参数得到的,而对应的峰强度,则作为一个拟合变量,最舌得到各,而把重叠峰分开,A.LeBall争用傅立叶系数来描述衍射线型,也成功地分解了重叠峰.用这些方法可以得到数百独立的衍射峰的积分强度另一类是直接利用Patterson函数进行重叠峰分解,如w.I.F.David提出的平方法及最大熵派特逊法.前者是将派特逊函数及其平方作博立叶变换,再经过一定的换算,得出:一!:'二,\]Fz∑J.:FF一一__-『此式表示的是第h个衍射在重叠峰强度中所占的分数从而把重叠强度分为各个衍射的强度后者是将最大熵方法用于派特逊函数,得出各衍射的结构振幅平方lFFl=IPE(r)cos(2^?r)dv(23)P(r)称为最大熵派特逊函数M.A.Estermann等还提出过一种快速迭代派特逊平方法(FIPS)LZ1].有了几百个独立的ll,就町用常规方法来求初始结构,如利用派特逊函数先求出重原子的位置或用直接法求出初始位相,或最大熵法直接求得电子密度图,可利用电子密度图和差值电子密度图求出其它原子的位置,得到初始结构4)Rietveld法精修结构.有了初始结构,就需对各个结构参数进行精修,由于只有几百个独立的ll,数量不多,不能靠它精修出精确的结构参数,需要再次用Rietveld全谱拟合.由于测量点的间隙颇小,如2为0.02.,故一张谱的测量点总数很大,可达数千.如此大量的实测值,可从统计上保证精修结构的准确性.此时拟合中的可变参数与分峰时不同,J已确定,不再是一个可变参数.而原子位置坐标,温度原子等各种晶体结构参数却都成为可变拟合参数最后可从所得的结构参数算出键长,键角,R因子等数据.4.3粉末衍射从头晶体结构测定举例DGascoigne等对Zr(OH).s()?3H.O结构的测定0能很好说明从头晶体结构的测定步骤.用BraggBremano几何的D500西门子粉末衍射仪收集衍射数据,装备有不对称聚焦的入射线单色器,得纯K.辐射,零点误差小于0.叫.(2),图谱范围是15.al35.(2). 用退火过的BaF测仪器分辩率在2口约40.处的FWHM为0.065.(2).用连续均分法的DICVOLgl程序来寻找晶胞参数和对衍射线作指数标定,进一步用程序NBS* AIDS83处理,从最终的晶胞参数,衍射指数及系统消光得出空间群为,J,最终品质因子为^一120…F一170(0.0037;48),以后用I.eBall等的迭代法将lo一84.(2)范围内的52个衍射峰分解为519个布拉格衍射.在此基础上应用派特逊函数得出重原子zr和s的位置,再从差值电子密度图得出其它所有原子的坐标,此为初始结构模型,使用Ri—etveld方法对结构进行精修,最终得到R3.0%,R一6.6%,R一8.5%,R=10.9%,●2期屿礼敦:X射线枷式衍,的新起Rietve]d谱拟刍可见结果很准确.得到的是一种链形结曲利用粉末衍射进行结构测定的另一特点是可将用不同辐射.如x射线与中于.或不同波长的x射线.或用不同探测器得到的几套数据或几组不同数据范围的数据同时进行处理.互相补充,得到一个共同的结果对YBa!Cu0高温超导体结构的研究也许是这种结合屿优越性的一个很好的说明.最初用单晶法测定的结果的准确生是不高的.固为YBa:cu()常以孪品出现.这对单晶衍射不适宜而x射线对氧又不灵敏,不能提供氧的记体化学的细节.中子衍射虽对氧有较高的灵敏度,但cu和Y两种原子对中子的散射力是相近的,中子衍射不能分辨这两者的无序状态.A.Williams等,J.D.Jorgensen 和D.G.Hinks等时使用了x射线和中子粉末衍射数据进行结构精修,使两者优势互补.既得出了准确的氧的立体化学与Cu—O键长.又得到Y,Cu的无序状态,很好地用此联系了超导特性粉末衍射的线形除了受结构参数影啊以外,还会受微结构与缺陷的影响.因此在删定晶体结构的同时还能把晶体中的微结构与缺陷测定来层状化台物KA1F的相态已被多A研究.发现它的常温相与TIAIF有相似的结构1,1AIF是一个四方晶体.AIF八面体的四个顶点位于环绕4次轴的四个面的中心,见附图2(a)在KA1F中.八面体AIF 的4个顶点不再在四个面的中心.而是绕四次轴转过一个角,见附图2(b).它的结构已被粉末衍射测定.但R因子不好,仔细观察粉末衍射谱.发现其中有些衍射线存在严重宽化,这些线在原来的]作中是被舍去的.故强度拟合并不好.A.Gibard等同时使用x 射线与中子衍射的数据重新作了研究.认为宽化线和非宽化线代表了两个物相,用了可对多个衍射谱同时进行处理的程序.用存在反相畴的观来解释宽化线.也即A1F八面体绕四次轴的转动存在着两种反向的转动.得到了-很好的结果.单晶体衍射使用的是衍射线的积分强度,是无法研究这种在线形上反映出来的结构细节的.o图2La)MA1F4型化台物的理想的方结构;(b)KA1F4至『品结构的fOO1)面投影可看到AlF配位八面体绕C轴啊时针转rm除此以外,对于多晶混合物.可以利用Rietveld法同时精修其中所含的各物相,这也是单晶衍射所不能的粉末衍射测定晶体结果的这些特电正引起人们越来越大的兴趣,被越来越多地使用五X射线物相分析x射线物相分析是x射线粉末衍射各种应用中最多被人利用的.在材料研究中有着十分重要的作用物相分析还有定性分析和定量分析两个层次,在全谱拟合法用于结构精修以后.人们发现全谱拟合中的比例因子S可用来做物相定量分析.近年又将全谱拟台?法用到物相定性分析,由于定性分析传统上是依靠衍射的匹配(Matching)来进行的,因此被称为全谱匹配法5.1物相定性分析一致公认?混合物的粉末衍射谱是由各组成物相的粉末衍射谱权重叠加出来的.在叠加过程中.各组成物相的各衍射线的位置不会发生变动.而衍射线的强度是随该物相在混合物中所占的百分比(体积或重量).它的散射力及其它物相的吸收力而变的.权重因子就是这种强度变化的反映.因而.在传统方法中,一张衍射谱是用一套与各衍射峰位置及相对强度对应的d和I/I值来描绘的.做定性相鉴定就是将标准参比物的一组d,i/i值与未知物一组d,I/I值做匹配对比.据匹配情况作出判断的由于I/I值本身易受实验。
Rietveld结构精修原理与应用特选资料
专业课
9
（2）CIF数据 American Mineralogist Crystal structure Database ICSD数据库 Crystallograpgy Open Database Findit
（3）精修软件 GSAS，Topas ，fullprof ，Jana2006 ，MDI Jade，
这样我们就可以在工作目录下面找到
Al2O3.LST文件，用写字板打开，所有
的信息都包括在里面。包括晶格常数，
峰形函数，背景函数，温度因子及其他
们的误差。需要注意的所有拟合的数据
都在里面，所以我们要选取最后的数据。 专业课
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• 2.衍射晶面的导出
点击菜单栏Results，在下拉菜单中选择reflist，分
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④CIF数据录入
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这是选择使用汇入晶格资料档的画面
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⑤ 衍射数据、仪器参数的录入
选择XXX.gsas数据 选择实验仪器参数档XXX.ins
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这是输入完成后的画面
专业课
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⑥ 精算各个参数
选择背景函数
专业课
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标度因子
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• 1. 原理
主要内容
• 2. 精修步骤与策略
• 3. 结构精修
专业课
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1.原理
技术方法：
（1）单晶衍射技术 得到上千个数据，通过傅 里叶转换得到电子云密度 图
（直接法，patterson 法） 优点：方法简单，结果可信
度高 缺点：但是经常很难得到足
Rietveld精修原理全文
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2
➢ 其他参数 ④ 晶粒形状
默认球形 可选：
椭球形 其他形状
计算谱的构成
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2
计算谱的构成
➢ 其他参数 ⑤ 织构函数
Pk
exp(
G
2 k
)
Pk
exp[G( 2
k )2]
Pk
3 2
(G2 cos2 k
sin2 k
G
)
其中G为择优取向修正参数,k为择优取向晶面与衍射面的夹角。
21
2
➢ 其他参数 ⑥ 应力及其它因素
物相的晶体结构通过查找各种晶体结构数据库而获得。
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2
➢ 其他参数 峰形函数G
计算谱的构成
衍射峰的形状以一个函数来拟合
Gaussian函数
I 2
I ek (2 2 p )2 p
峰形对称，适合于中子衍射
Cauchy函数 Cauchy平方函数
I
2
1
k
I
(2
p
2
p
)
2
I2
Ip
1 k(2 2 p )2
物相的晶体结构通过查找各种晶体结构数据库而获得。
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计算谱的构成
➢ 晶体结构
ICSD——无机晶体结构数据库(The Inorganic Crystal Structure Database,简 称ICSD)由德国的The Gmelin Institute (Frankfurt)和FIZ(Fach informations zentrum Karlsruhe)合办。https://icsd.fiz-karlsruhe.de/search/。 CSDS——剑桥结构数据库系统(The Cambridge Structural Database System,简 写为CSDS)。 ICDD——国际衍射数据中心(The International Centre for Diffraction Data,ICDD)。 NIST——NIST Crystal Data：Http：///srd/3.h也包含有23000条 晶体结构。 COD——Crystallography Open Database,晶体学开放数据库(COD)。通过网站访 问,其中包含较多的晶体结构数据。 当然,通过文献,查找一些最新发表的结构,也是前沿研究必要的工作之一。
Rietveld方法精修及定量分析研究的开题报告
Rietveld方法精修及定量分析研究的开题报告开题报告题目：Rietveld方法精修及定量分析研究研究背景：X射线衍射技术是一种广泛应用于材料科学、地球科学、环境科学等领域的分析技术。
其中，Rietveld方法是X射线衍射分析中常用的一种精修方法，可用于实现高精度的物相定量分析，并提高衍射谱的拟合精度。
近年来，Rietveld方法在材料科学研究、催化剂领域、晶体结构分析等方面都得到了广泛的应用。
研究目的：本课题旨在深入研究Rietveld方法，并考察其精修效果，对其进行优化，进一步提高物质结构解析和定量分析的精度。
研究内容包括不同的Rietveld方法比较和评估，例如：Rietveld方法在不同约束条件下的最优解；Rietveld方法对峰形的优化方法；Rietveld方法与其他结构分析方法的比较等。
研究方法：在理论分析的基础上，本研究将采用实验数据与模拟数据相结合的方法进行研究。
通过X射线衍射技术实验，获取实验数据，并运用不同的Rietveld方法进行比较和评估，探讨其对峰形的优化方法及其与其他结构分析方法的比较等。
研究意义：本研究将拓宽Rietveld方法的应用范围，加强其在物相定量分析、物质结构解析等领域的应用。
同时，通过本研究可提高衍射谱的拟合精度，为材料科学研究、催化剂领域、晶体结构分析等方面的相关研究提供更加准确可靠的研究基础。
预期成果：此研究的预期成果包括：深入研究Rietveld方法，并考察其精修效果，对其进行优化，进一步提高物质结构解析和定量分析的精度；提出对峰形优化的方法，并对结果进行比较和评估；对Rietveld方法与其他结构分析方法进行比较，证明Rietveld方法的优势和局限性。
定量分析中的校准方法
定量分析中的校准方法宋润喆摘要：定量分析是分析化学的重要组成部分。
绝大部分定量分析都需要校准方法处理。
外校准模式、标准加入模式和内校准模式是单组分定量分析常用的校准模式。
对于多组分定量分析，可采用通用标准加入法等进行校准。
Abstract: The quantitative analysis is one of the most important parts of analytical chemistry. Most of quantitative analysis need to be calibrated. External calibration mode, the standard addition mode and the internal calibration mode are the major methods in single-component quantitative analysis commonly.Generalized standard addition method can be used for the quantitative analysis ofmulti-component calibration.关键词：定量分析；校准模式Key words: quantitative analysis; calibration mode1.引言分析化学是研究物质组成与结构的科学。
定量分析是分析化学中研究物质中某种组分多少的学科。
无论在物理、生物，还是金属冶炼、食品安全，从科学研究到日常生活的每个方面都离不开定量分析。
从分析方法上，分析化学可以区分为化学分析和仪器分析两种方法。
化学分析是利用待测组分与其他物质的化学反应为基础的分析方法，而仪器分析则以待测组分的物理性质、与其他物质发生化学反应时引起的物理效应、在一定物理作用下发生的化学性质改变为基础的分析方法。
1894年，拉脱维亚裔德国化学家威廉·奥斯特瓦尔德发表了《分析化学科学基础》一书，分析化学得到了物理化学的理论支持。
有关Rietveld refinement 精修的几个常见问题
有关Rietveld refinement 精修的几个常见问题Rietveld精修现在已经是很常用的技术，主要目的是从粉末衍射数据得到比较准确的晶体结构参数，如原子坐标、占有率和温度因子等，当然，也可用于物相定量分析等方面。
但是，在实际应用中，发现有不少人会产生一些疑问，不知道如何处理。
（1）衍射数据如何采集？衍射数据最好要用步进扫描的方式采集：衍射峰最高峰的强度计数最好要达到数万，中等强度的衍射峰计数要达到1万左右。
一般步进扫描的步长要根据衍射峰的半高宽来决定，最好要小于半高宽的5分之一；用于精修的衍射数据其扫描范围一般要到120度。
经常看到有的人用连续扫描得到的、噪声很大的数据，最高峰强度计数也不到5千就进行精修，这样做不会得到可靠的结果。
（2）背景如何扣除？Ruetveld精修程序大都是用各种函数（如多项式）来拟合背景；有的程序（如Fullprof）也可以通过手工选定若干背景点，程序再根据这些选定的背景点拟合出整个背景。
一开始精修不知道背景参数，可以先精修少数背景参数，且设它们的初值为零。
背景比较平整的数据，可以估计出背景函数中常数项的大概数值人工输入。
（3）如何进行两相或多相精修？两相精修中含量较少的相因为衍射强度很低，造成统计误差大，很容易发散。
所以最好减少少量相的精修参数个数。
先固定其它参数，只修标度因子等最主要的参数，然后逐步尝试精修其余的参数为好。
如在两相外，还发现有另外的杂相，要仔细进行物相分析确定另外的相，有时需要通过对其它组成相近、但杂相更多的样品进行物相分析来确定杂相（最可能）是哪些化合物。
（4）轻原子的含量和位置参数误差较大怎么办？有的原子如H、Li等的散射能力有限，用X射线方法也很难准确测定其含量。
可以考虑依靠其它方法准确测定单相样品中的Li含量，当然，也可以考虑使用中子衍射的方法。
（5）Fullprof中的原子占有率怎么算？Fullprof中的原子占有率定义是该原子所占的特殊等效点位置个数除以一般等效点系位置个数，所以特殊等效点系的占有率都是小于1的。
Rietveld法的理论分析及其在相分析中的应用
Rietveld法的理论分析及其在相分析中的应用X射线多晶衍射的Rietveld法是一种在材料结构分析领域被广泛采用的方法。
本文通过XRD图谱的模拟计算清楚的解释了Rietveld法的原理,并利用该方法对一些合金相的晶体结构进行了研究。
1.XRD图谱的模拟计算根据X射线衍射强度理论,采用不同的峰形函数计算了Ti粉的衍射谱,在加入择优取向因子校正后还计算了冷轧Ti片的衍射谱。
从总体上看计算谱与实验谱大致相符。
2.晶体结构精修采用Rietveld法对三元化合物Zn<sub>55.24</sub>Al<sub>18.86</sub>Zr<sub>25.9</sub>的晶体结构进行了研究,Rietveld精修的可靠性因子为Rp=7.15%,Rwp=9.56%。
该化合物属正方晶系,空间群为P4/mmm,点阵常数:a=b=4.07080（3）（?）,c=4.07366（9）（?）。
精修的结果表明Zr原子占据1a位置,部分Zn原子占据2e位置,另一部分Zn原子和Al原子混合占据1c位置。
最后通过理论计算验证了所得结构的合理性。
采用Rietveld法对三元硼化物Mo<sub>2</sub>NiB<sub>2</sub>的晶体结构及相变进行了研究,结果表明在掺V后Mo<sub>2</sub>NiB<sub>2</sub>的晶体结构发生了由斜方向正方的转变。
Mo<sub>2</sub>NiB<sub>2</sub>的点阵常数:a=7.0914（2）（?）,b=4.5639（9）（?）,c=3.1787（8）（?）,精修的可靠性因子为Rp=6.74%,Rwp=8.52%。
Mo<sub>2</sub>NiB<sub>2</sub>掺V的点阵常数:a=b=5.8244（5）（?）,c=3.1239（6）（?）,可靠性因子为Rp=5.69%,Rwp=7.41%。
RIETVELD精修的相关注意事项
RIETVELD精修的相关注意事项Rietveld 精修注意事项晶体的各向异性温度因子是如何定义的？晶体中的原子普遍存在热运动，这种运动在绝对零度时也未必停止。
通常所谓的原子坐标是指它们在不断振动中的平衡位置。
随着温度的升高，其振动的振幅增大。
这种振动的存在增大了原子散射波的位相差，影响了原子的散射能力，即衍射强度。
在晶体中，特别是对称性低的晶体，原子各个方向的环境并不相同，因此严格的说不同方向的振幅是不等的，由此引入了各向异性温度因子。
在进行Rietveld结构精修时，是否该对温度因子进行约束？如何约束以及约束范围？由于温度因子是随着衍射角的增加而对强度的影响增大，所以，如果要精修温度因子，就一定要收集高角度的数据。
如何由粉末衍射数据通过FullProf提取结构因子？首先需要一个dat文件，第一行，2theta起点，步长，终点，下面是每个点的强度。
下面需要编写pcr文件，先得到六个晶胞参数，零点，还要得到18-30个背景点，才能开始编写，其他参数设置可以看说明书。
如果你以前用Fullprof精修过结构,则只需修改如下参数：Line 11-2 的N(number of atoms in asymmetric unit)参数置为0,相应的下面与原子有关的参数就不要了；Line 11-2 的JBT参数(2,-2,3或-3,具体看说明)。
至于要输出什么样格式的结构因子数据文件,可以通过LINE 3 的JFOU参数来控制。
Fullprof精修时，Biso的值给如何设定？是否有个大概的取值范围？Biso 是温度因子，occu是占有率。
从我拟合来看，Biso与原子的位置有关系。
温度因子是反映原子或离子偏离平衡位置的程度，因为晶胞中各原子都要做热振动的。
对于立方晶系，各向同性，只修各向同性温度因子就可以了。
温度因子和占有率都是影响强度的参数，所以之间有一定的相关性。
而且，温度因子对高角度峰的强度影响比较大，所以，如果要精修温度因子，最好收到高角度的数据。
16-Rietveld法结构精修简介
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4、多晶样品结构测定的Rietveld精化 1969年，Rietveld发表了用拟合衍射花样的整个 线形(包括峰位、强度和线形全部数据)来精化晶 体结构的方法，但一直到1977年才被用固定波 长固定衍射角的中子和X射线粉末衍射所接受。 Rietveld精化已成为中子和X射线(包括普通X射 线和同步辐射X射线)粉末衍射结构测定和磁结 构测定的常用方法。应用Rietveld方法对X射线 衍射数据进行了结构精化，其剩余指数为0.12～ 0.28，平均为0.20，比中子衍射的数据(其剩余指 数0.05～0.17，平均为0.10)高。
参与计算的参数由少到多，逐渐增加，计算结 果逐渐和实验花样逼近，直至基本符合为止。 经精化后的原子参数合理。画出原始花样、拟 合花样及二者之差，随后调用所需程序，计算 该结构中链长、链角，计算和绘出傅里叶图， 最后绘出结构的空间模型。
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对于未知结构，已发展了测定的方法，其包括 三步
仪，则可在获得10～20个不同的hkl之2θ、Ω、
Φ、、χ～I数据之后，调用指标化程序即可自动
完成。
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B) 分析系统消光规律 与空间群表中的各系统消光规律相对照判断。有 时不能唯一确定，可借助强度分布的统计规律和 晶体的物理性质进一步区分系统消光相同的空间 群。 (2) 对称元素的系统消光识别 前面曾讨论了晶体点阵类型对系统消光的影响， 但还必须根据微观对称元素(如螺旋轴和滑移面 等)的系统消光规律才能识别晶体所属的空间群。
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(1) Rietveld结构精修原理
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Y c i S K L K |F K |2 i 2 K P K A r Y b S i
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功能要求：仪器采用当前最先进的技术，能够精确地对粉末多晶样品进行物相定性、定量分析，适用于Rietveld精修，K-alpha1系统并兼容标准布拉格光路；配置快速探测器。
技术及配置要求：
1. X射线光源
1.1. X射线发生器部分
1.1.1 最大输出功率：≥ 3kW
1.1.2 额定电压：60kV
1.1.3 额定电流：80mA
1.2 X射线光管部分
1.2.1 X射线光管：Cu靶
1.2.2焦斑大小：0.4 mm x 12 mm
1.3 电流电压稳定度：优于0.005% (外电压波动10%)时
1.4 X射线防护：安全连锁机构、剂量符合国标; 防护罩外任何一点的计量小于
2. 测角仪部分
2.1扫描方式：Theta/2-Theta，测角仪垂直放置
2.2 可读最小步长：0.0001度，角度重现性：0.0001度
2.3验收精度：标准样品现场检测，全谱范围内所有峰的角度偏差不超过±0.01度。
3. 光路系统
3.1配置聚焦模式下的Cu-光路系统与常规光路系统，两种光路可互相切换
3.2采用全光路自动狭缝系统：包括自动防散射狭缝、自动发散狭缝连续可调（至少包括4度，2度，1度，1/2度，1/4度）、自动接收狭缝
4. 探测器部分：
4.1 探测器类型：二维或一维探测器，通道数≥ 256
4.2最大计数：≥1 x 1010 cps
4.3具有静态扫描功能，正常工作半径下最大2theta角≥ 3.0度
4.4提供的半导体阵列探测必须同时适合小角和广角测试, 广角测试时起始角<0.5度
4.5分辨率: NIST660a样品FWHM小于0.029度
5.样品台：
5.1粉末样品台, 旋转透射样品台，支持反射与透射模式
6 仪器控制和数据采集系统
6.1 计算机：双核主频3G Hz以上，4G以上内存，1T HD，CD-RW，22”宽屏液晶显示器，100M 网卡，激光彩色打印机
6.2 仪器控制和数据采集软件
7 应用软件：
7.1 物相检索软件：含原始数据直接检索功能, 包括终身使用权的ICSD数据库，内置10万以上的粉末衍射数据库和单晶数据库
7.2结晶学分析软件：含基本的结构解析和晶胞参数测定功能
8 循环水冷系统：满足相应系统连续满功率运行
9仪器及生产商必须满足的相关国际安全标准
9.1 质量标准：ISO9001, ISO14001认证
9.2 欧洲安全标准：CE 认证
9.3 提供辐射安全豁免证书
10 售后及服务条款
10.1 货期6个月。
10.2 到货后一周以内安装调试，用户本地培训2周，达到至少2人熟练操作，用户会免费2人次参加，仪器使用半年后，由用户决定时间进行一次高级应用培训。
10.3 售后3年质保，24小时响应，48小时上门服务。