第4章常用半导体器件

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半导体器件物理4章半导体中的载流子输运现象

半导体器件物理4章半导体中的载流子输运现象

第四章半导体中载流子的输运现象在前几章我们研究了热平衡状态下,半导体导带和价带中的电子浓度和空穴浓度。

我们知道电子和空穴的净流动将会产生电流,载流子的运动过程称谓输运。

半导体中的载流子存在两种基本的输运现象:一种是载流子的漂移,另一种是载流子的扩散。

由电场引起的载流子运动称谓载流子的漂移运动;由载流子浓度梯度引起的运动称谓载流子扩散运动。

其后我们会将会看到,漂移运动是由多数载流子(简称多子)参与的运动;扩散运动是有少数载流子(简称少子)参与的运动。

载流子的漂移运动和扩散运动都会在半导体內形成电流。

此外,温度梯度也会引起载流子的运动,但由于温度梯度小或半导体的特征尺寸变得越来越小,这一效应通常可以忽略。

载流子运动形成电流的机制最终会决定半导体器件的电流一电压特性。

因此,研究半导体中载流子的输运现象非常必要。

4.1漂移电流密度如果导带和价带都有未被电子填满的能量状态,那么在外加作用下使载流子产生的运动称为“漂移运动”。

载流子电荷的净如果电荷密度为P的正方体以速度4运动,则它形成的电流密度为^drf = P U d(°」)其中°的单伎为C»cm~3, J drf的单位是Acm~2或C/cnr»s。

若体电荷是带正电荷的空穴,则电荷密度p = ep , e为电荷电量^=1.6X10-,9C(^仑),〃为载流子空穴浓度,单位为⑵尸。

则空穴的漂移电流密度打场可以写成:丿"爾=⑷)%(4.2)%表示空穴的漂移速度。

空穴的漂移速度跟那些因素有关呢?在电场力的作用下,描述空穴的运动方程为F = ma = eE(4.3)p£代表电荷电量,d代表在电场力F作用下空穴的加速度,加;代表空穴的有效质量。

如果电场恒定,则空穴的加速度恒定,其漂移速度会线性增加。

但半导体中的载流子会与电离杂质原子和热振动的晶格原子发生碰撞或散射,这种碰撞或散射改变了带电粒子的速度特性。

半导体器件物理第四章习题

半导体器件物理第四章习题

第四章 金属-半导体结4-1. 一硅肖脱基势垒二极管有0.01 cm 2的接触面积,半导体中施主浓度为1016 cm 3−。

设V 7.00=ψ,V V R 3.10=。

计算 (a )耗尽层厚度,(b )势垒电容,(c )在表面处的电场4-2. (a )从示于图4-3的GaAs 肖脱基二极管电容-电压曲线求出它的施主浓度、自建电势势垒高度。

(b) 从图4-7计算势垒高度并与(a )的结果作比较。

4-3. 画出金属在P 型半导体上的肖脱基势垒的能带结构图,忽略表面态,指出(a )s m φφ>和(b )s m φφ<两种情形是整流节还是非整流结,并确定自建电势和势垒高度。

4-4. 自由硅表面的施主浓度为15310cm −,均匀分布的表面态密度为122110ss D cm eV −−=,电中性级为0.3V E eV +,向该表面的表面势应为若干?提示:首先求出费米能级与电中性能级之间的能量差,存在于这些表面态中的电荷必定与表面势所承受的耗尽层电荷相等。

4-5. 已知肖脱基二极管的下列参数:V m 0.5=φ,eV s 05.4=χ,31910−=cm N c ,31510−=cm N d ,以及k=11.8。

假设界面态密度是可以忽略的,在300K 计算: (a )零偏压时势垒高度,自建电势,以及耗尽层宽度。

(b)在0.3v 的正偏压时的热离子发射电流密度。

4-6.在一金属-硅的接触中,势垒高度为eV q b 8.0=φ,有效理查逊常数为222/10*K cm A R ⋅=,eV E g 1.1=,31610−=cm N d ,以及31910−==cm N N v c 。

(a )计算在300K 零偏压时半导体的体电势n V和自建电势。

(b )假设s cm D p /152=和um L p 10=,计算多数载流子电流对少数载流子电流的注入比。

4-7. 计算室温时金-nGaAs 肖脱基势垒的多数载流子电流对少数载流子电流的比例。

半导体器件物理(第四章 双极型晶体管及其特性)

半导体器件物理(第四章 双极型晶体管及其特性)

4.1 晶体管结构与工作原理 三极电流关系
I E I B IC
对于NPN晶体管,电子电流是主要成分。电子从发射极出发,通 过发射区到达发射结,由发射结注入到基区,再由基区输运到集电结 边界,然后又集电结收集到集电区并到达集电极,最终称为集电极电 流。这就是晶体管内部载流子的传输过程。 电子电流在传输过程中有两次损失:一是在发射区,与从基区注 入过来的空穴复合损失;而是在基区体内和空穴的复合损失。因此
* 0
可见,提高电流放大系数的途径是减小基区平均掺杂浓度、减 薄基区宽度Wb以提高RsB,提高发射区平均掺杂浓度以减小RsE。另外, 提高基区杂质浓度梯度,加快载流子传输,减少复合;提高基区载 流子的寿命和迁移率,以增大载流子的扩散长度,都可以提高电流 放大系数。
4.2 晶体管的直流特性 4.2.1 晶体管的伏安特性曲线 1.共基极晶体管特性曲线
' ine 1 jCTe 1 ine re 1 jCTe 1 jreCTe
re in e
iCTe
' in e
交流发射效率
1 0 1 jre CTe
CTe
re CTe e
发射极延迟时间
4.3 晶体管的频率特性
2.发射结扩散电容充放电效应对电流放大系数的影响
虽然共基极接法的晶体管不能放大电流,但是由于集电极可以 接入阻抗较大的负载,所以仍然能够进行电压放大和功率放大。
4.1 晶体管结构与工作原理
(2)共发射极直流电流放大系数
IC 0 IB
(3)α0和β0的关系
C
IC
N
IB
B
I IC I I 0 C C E 0 I B I E IC 1 IC I E 1 0

北大半导体器件物理课件第四章5MOSFET的小尺寸效应

北大半导体器件物理课件第四章5MOSFET的小尺寸效应
分析这种影响可以通过二维器件模 拟程序计算出沟道表面电势分布
半导体器件物理
DIBL效应
特点:
• 沟道缩短,电 子势垒下降
• VDS 增加, 电子势垒下降
半导体器件物理
DIBL效应
• 有两种作用导致了势垒的下降:
– 沟道缩短,漏、源耗尽区的相互影响 – VDS增加,漏区发出的场强线的一部分穿透到源区
• DIBL效应对MOSFET特性的影响:
– VDS增加,有效阈值电压下降 – VDS增加导致势垒降低,表面更加耗尽,使沟道更
加吸引电子,沟道导电能力增强,等效于有效阈值 电压的下降。
半导体器件物理
DIBL效应ห้องสมุดไป่ตู้
• 亚阈值特性:
– 亚阈值区导电机构主要是载流子的扩散
I Dsub
=
Z L
μnCOXη
⎛ ⎜
定量计算: 窄沟道效应
• 由于侧向扩展的不规则,定量计算比较复杂。在SPICE程 序中仅认为窄沟道效应是由于沟道宽度方向上的边缘电场 使总的耗尽电荷增加所致。 为便于计算,把
边缘场的影响夸大
成1/4圆柱体。
( ) ΔVT
=
π 2
Xd Z
γ
2φF − VBS
=π εS ε OX
DOX Z
2φF − VBS
左图:低掺杂衬底短沟 nMOST饱和区情形 反偏漏-衬pn结耗尽区的 扩展主要在p型衬底一侧
•有可能出现耗尽区宽度接近于或大于沟道长度 •起始于源区的场强线,就会有一部分终止于沟道
半导体器件物理
源漏穿通效应
• 考虑:栅源电压VGS不变,增大漏源VDS电压
– 漏-衬pn结耗尽区扩展,用于屏蔽增加的电场 – 对于终止于沟道的场强线来说,由于耗尽区已经没

半导体器件原理-中国科学技术大学

半导体器件原理-中国科学技术大学
• 半导体导带底和真空能级能量差称为电子亲和能 q。
• 金属半导体的接触势垒是指电子从金属进入半导 体必须克服的势垒的高度。
Semiconductor Devices
2019/10/15
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★ 金属和半导体的功函数
功函数: W= EVAC-EF, ( EVAC --真空中静止电子的能量,亦记作E0 )
• 对于这种理想的情况,势垒高度qфBn就是金属功 函数和半导体电子亲和能之差。对于理想的金属
分别与N型、P型半导体接触,其势垒高度为:
qBn q(m ) qBp Eg q(m )
• 对给定的半导体,任何金属在n型衬底和p型 衬底上的势垒高度之和总等于Eg。
Eg qBp qBn
• 对金属/半导体接触势垒的小结: 仍以M/n-S, 势垒接触(Wm>Ws)为例: eΦSB =eVD+(Ec –EF)n ♦ 当不考虑表面态: eΦSB = Wm –χ ♦ 当表面态的密度很高: eΦSB =Eg – eΦ0 --肖特基势垒高度与金属的Wm无关.
Semiconductor Devices
• 如果qΦ 0与半导体的EF重合,则界面态和半导体内部没有电 子交换,界面的净电荷为0。如果qΦ 0>EF,则电子从表面向 体内转移,界面净电荷为正,qΦ 0<EF,电子从体内向表面 转移,界面净电荷为负。
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中国科学技术大学物理系微电子专业
可能有整流作用。由此产生的势垒模型就是所谓肖
特基势垒。金属半导体形成的具有整流效应的结称 为肖特基结。
• 欧姆结:又称为欧姆接触。
金属半导体接触也可能是非整流性的, 即不管所加电 压极性如何,接触电阻均可忽略,这种金属半导体 接触称为欧姆接触。为实现电子系统中的相互连接, 所有半导体器件和集成电路都必须有欧姆接触。

半导体物理与器件-第四章 平衡半导体

半导体物理与器件-第四章 平衡半导体
ni严重依赖温度
16
4.1 半导体中的载流子
4.1.3 本征载流子浓 度
P81例4.3
ni随温度的升高而明显增大。
• 与温度关系很大: • 温升150度时,浓度增大4个数量级。
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4.1 半导体中的载流子
4.1.4 本征费米能级位置
由电中性条件:n0=p0
禁带中央
本征费米能级精确位于禁带中央;
本征费米能级会稍高于禁带中央; 本征费米能级会稍低于禁带中央;
平征半导体(Intrinsic Semiconductor)
本征激发:共价键上的电子激发成为准自由电子,也就是 价带电子获得能量跃迁到导带的过程。
本征激发的特点:成对的产生导带电子和价带空穴。
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4.1 半导体中的载流子
4.1.3 本征载流子浓度
说明: 本征半导体中电子的浓度=空穴的浓度即n0=p0 (电中性条件)记为ni=pi
3、施主杂质原子增加导带电子,但并不产生价带空穴,因此,这样的半导体称为 n型半导体。
22
4.2掺杂原子与能级 施主杂质
■ 电子脱离施主杂质的束缚成为导电电子的过程称为施主电 离,所需要的能量
ΔED=Ec-Ed 称为施主杂质电离能。ΔED的大小与半导体材料和杂质种类
有关,但远小于Si和Ge的禁带宽度。 ■ 施主杂质未电离时是中性的,称为束缚态或中性态,电离后
4.4施主和受主的统计学分布 4.4.2完全电离和束缚态
与室温条件相反,当T=0K时,杂质原子没有电离: 1、对n型半导体,每个施主原子都包含一个电子,nd=Nd
费米能级高于施主能级
2、对p型半导体,杂质原子不包含外来电子,na=Na,费米能级低于受主能级
束缚态:
没有电子从施主能态热激发到导带 中,

(整理)第4章常用半导体器件-练习复习题

(整理)第4章常用半导体器件-练习复习题

第4章:常用半导体器件-复习要点基本概念:了解半导体基本知识和PN结的形成及其单向导电性;掌握二极管的伏安特性以及单向导电性特点,理解二极管的主要参数及意义,掌握二极管电路符号;理解硅稳压管的结构和主要参数,掌握稳压管的电路符号;了解三极管的基本结构和电流放大作用,理解三极管的特性曲线及工作在放大区、饱和区和截止区特点,理解三极管的主要参数,掌握NPN型和PNP型三极管的电路符号。

分析依据和方法:二极管承受正向电压(正偏)二极管导通,承受反向电压(反偏)二极管截止。

稳压管在限流电阻作用下承受反向击穿电流时,稳压管两端电压稳定不变(施加反向电压大于稳定电压,否者,稳压管反向截止);若稳压管承受正向电压,稳压管导通(与二极管相同)。

理想二极管和理想稳压管:作理想化处理即正向导通电压为零,反向截止电阻无穷大。

三极管工作在放大区:发射结承受正偏电压;集电结承受反偏电压;三极管工作在饱和区:发射结承受正偏电压;集电结承受正偏电压;三极管工作在截止区:发射结承受反偏电压;集电结承受反偏电压;难点:含二极管和稳压管电路分析,三极管三种工作状态判断以及三极管类型、极性和材料的判断。

一、填空题1.本征半导体中价电子挣脱共价键的束缚成为自由电子,留下一个空位称为空穴,它们分别带负电和正电,称为载流子。

2.在本征半导体中掺微量的五价元素,就称为N型半导体,其多数载流子是自由电子,少数载流子是空穴,它主要依靠多数载流子导电。

3.在本征半导体中掺微量的三价元素,就称为P型半导体,其多数载流子是空穴,少数载流子是自由电子,它主要依靠多数载流子导电。

4.PN结加正向电压时,有较大的电流通过,其电阻较小,加反向电压时处于截止状态,这就是PN结的单向导电性。

5.在半导体二极管中,与P区相连的电极称为正极或阳极,与N区相连的电极称为负极或阴极。

6.晶体管工作在截止区的条件是:发射结反向偏置,集电结反向偏置。

7.晶体管工作在放大区的条件是:发射结正向偏置,集电结反向偏置。

半导体器件物理(第四章)_Part1_238403818

半导体器件物理(第四章)_Part1_238403818

半导体器件物理进展第四章CMOS的等比例缩小、优化设计及性能因子CMOS Scaling, Design Optimization, and Performance FactorsPart 1 MOSFET模型及小尺寸效应内容提要:MOSFET结构及其偏置条件MOSFET的漏极电流模型MOSFET的亚阈区特性与温度特性 MOSFET的小尺寸效应MOSFET的缩比特征长度MOSFET的速度饱和效应1. MOSFET结构及其偏置条件MOSFET在实际集成电路中的剖面结构如下图所示。

横向:源-沟道-漏;纵向:M-O-S;几何参数L:沟道长度;W:沟道宽度;t ox:栅氧化层厚度;x j:源漏结深;MOSFET的发展简史:早期:主要采用铝栅电极,栅介质采用热氧化二氧化硅,扩散形成源、漏区,其与栅电极之间采用非自对准结构,场区采用厚氧化层隔离;中期:栅极采用N型掺杂的多晶硅栅,源、漏区与栅极之间采用自对准离子注入结构,场区采用硅的局部氧化工艺(LOCOS)实现器件隔离;后期:栅极采用互补双掺杂(N型和P型)的多晶硅栅,源漏区与栅极之间采用LDD(轻掺杂漏)结构和金属硅化物结构,场区采用浅沟槽隔离(STI)技术。

近期:栅极采用难熔金属栅极(例如W、Mo等),栅介质采用高K介质材料(例如氧化铪等),源、漏区与栅极之间采用自对准金属硅化物结构,场区采用浅沟槽隔离或其它介质隔离技术。

一个自对准MOSFET的工艺制造过程以NMOS器件为例,包含四个结构化的光刻掩模:(1)场区光刻掩模:利用氮化硅掩蔽的LOCOS局部氧化工艺,在P型掺杂的硅单晶衬底上定义出器件有源区和场氧化层隔离区;(2)栅极光刻掩模:通过多晶硅的淀积、光刻和刻蚀工艺,定义出器件的多晶硅栅电极;(3)接触孔光刻掩模:通过对源漏有源区及多晶硅栅电极上二氧化硅绝缘层的光刻和刻蚀工艺,定义出相应的欧姆接触窗口;(4)铝引线光刻掩模:通过铝布线金属的溅射、光刻和刻蚀工艺,定义出器件各引出端的铝引线电极;对于包含PMOS器件的CMOS工艺,则还需要增加一步N阱区的掩模及其光刻定义。

微电子器件测试与封装-第四章

微电子器件测试与封装-第四章

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内容|半导体器件的测试
8.測試項目(GMP),測試線路如右:
測試方法: GD Short,從DS間灌入一個電流(一般為250uA)量測IDS及VGS,用ID/VGS 得到GFS
GMP:又叫GFS.代表輸入與輸出的關係即GATE 電壓變化,DRAIN電流變化值,單位為S.當汲極電流愈大,GFS也會增大.在切換動作的電路中,GFS值愈高愈好.
VFSD:此為內嵌二極管的正向導通壓降,VFSD=VS-VD
測試目的: 1.檢測晶圓製程中的異常,如背材脫落 2.檢測W/B過程中有無Source wire球脫現象
Remark:Tesec 881中,VFSD+ 可以寫成VGS=0V,VFSD代表G腳Open
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内容|半导体器件的测试
内容|半导体器件测试
热阻测试仪TESEC KT-9614热阻测试仪TESEC KT-9414热阻测试仪EAS测试系统ITC5500 EAS测试系统TESEC 3702LV测试系统觉龙 T331A EAS测试系统SOATESEC SOA测试仪其他DY-2993晶体管筛选仪
内容|半导体器件测试
双极晶体管开关参数测试仪:伏达UI9600 UI9602晶体管测试仪KF-2晶体管测试仪觉龙(绍兴宏邦)晶体管开关参数测试系统肯艺晶体管开关参数测试系统DTS-1000分立器件测试系统MOSFET动态参数测试ITC5900测试系统觉龙 T342栅极等效电阻测试系统
VFVRIR
内容|半导体器件测试
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半导体器件测试的目的:检验产品能否符合技术指标的要求剔除不良品根据参数进行分选可靠性筛选测试内容:静态电参数动态电参数热阻可靠性测试按阶段分芯片测试(中测)成品测试(成测)

西工大电工电子第4章半导体器件

西工大电工电子第4章半导体器件

E
发射极
发射极
三极管示例
集电区:面 积较大
B
基极
C 集电极
N P N
E
发射极
基区:较薄,掺 杂浓度低
发射区:掺 杂浓度较高
C 集电极
集电结
N
B
P
基极
N
发射结
E
发射极
C IC B
IB E
IE
NPN型三极管
C IC B
IB E
IE
PNP型三极管
4.3.2 放大作用
IB
A
RB
V UBE
IC mA
1
O
2
4 6 uGS /V
当 uGS > UGS(th) 时:
iD
I DO
(
uGS U GS(th)
1)2
uGS = 2UGS(th) 时的 iD 值
2. 漏极特性曲线
iD f (uDS ) UGS
iD /mA

8V
变 电
恒饱流和区区
6V
阻 放大区 4 V
区 O
截止uG区S =
2V uDS /V
可变电阻区 uDS < uGS UGS(th)
uDS iD ,直到预夹断
饱和(放大区)uDS,iD 不变
uDS 加在耗尽层上,沟道电阻不变
截止区 uGS UGS(th) 全夹断 iD = 0
4.4.4 主要参数
1. 输入电阻 RGS
指漏源间短路时,栅、源间加反向电压呈现的直流 电阻
JFET:RGS > 107 MOSFET:RGS = 109 1015 2. 开启电压 UGS(th)(增强型) 夹断电压 UGS(off)(耗尽型)

(完整版)常用半导体器件选择复习题

(完整版)常用半导体器件选择复习题

第4章常用半导体器件-选择复习题1.半导体的特性不包括。

A. 遗传性B.光敏性C.掺杂性D. 热敏性2.半导体中少数载流子在内电场作用下有规则的运动称为。

A.漂移运动B. 扩散运动C.有序运动D.同步运动3.N型半导体中的多数载流子是。

A.自由电子B.电子C.空穴D.光子4.P型半导体中的多数载流子是。

A.空穴B.电子C. 自由电子D.光子5.本征半导体中掺微量三价元素后成为半导体。

A.P型B.N型C.复合型D.导电型6.本征半导体中掺微量五价元素后成为半导体。

A. N型B. P型C.复合型D.导电型7.在PN结中由于浓度的差异,空穴和电子都要从浓度高的地方向浓度低的地方运动,这就是。

A.扩散运动B.漂移运动C.有序运动D.同步运动8.将一个PN结两端各加一条引线,再封装起来,就成为一只。

A.二极管B. 三极管C.电子管D.晶闸管9.当外电场与内电场方向相同时,阻挡层,电子不容易通过。

A.变厚B.变薄C. 消失D.变为导流层10.当外电场与内电场方向相反时,阻挡层,电子容易通过。

A.变薄B. 变厚C. 消失D.变为导流层11.PN结的基本特性是。

A.单向导电性B. 半导性C.电流放大性D.绝缘性12.晶体三极管内部结构可以分为三个区,以下那个区不属于三极管的结构。

A.截止区B. 发射区C.基区D.集电区13.稳压二极管一般要串进行工作,以限制过大的电流。

A 电阻 B电容 C电感 D电源14.下图电路中,设硅二极管管的正向压降为0V,则Y= 。

A.0V B.3V C.10V D.1.5V15.下图电路中,设硅二极管管的正向压降为0V,则Y= 。

A.0V B.3V C.10V D.1.5V16.下图电路中,设硅二极管管的正向压降为0V,则Y= 。

A. 3V B.0 V C.10V D.1.5V17.下图电路中,设硅二极管管的正向压降为0V,则Y= 。

A.0V B.3V C.10V D.1.5V18.下图电路中,设硅二极管管的正向压降为0V,则Y= 。

第四章半导体材料

第四章半导体材料

国际上普遍认为,20世纪是微电子为基础的电子 信息时代,21世纪则是微电子与光子技术结合的光子 信息时代。从而对半导体材料提出越来越高的要求。
4-1 半导体基本概念
一、本征半导体 金属:非常多自由电子。平均每个原子一个电子。 密度1022个/cm3。 绝缘体:几乎无自由电子。 半导体:介于两者之间,平均每1010-1013个原子一 个自由电子,密度1012-1019个/cm3,室温电导率10-8103(Ωcm)-1
2、非平衡载流子 光发射 电子被光激发到导带而在价带中留下空穴,状态不 稳定。由此产生的电子空穴对称为非平衡载流子。过一 段时间,电子将跃迁回价带,同时发射一个光子,称为 光发射。 光发射应用:半导体发光二极管、半 导体激光器。但非平衡载流子不是由光激 发产生,而由电子、空穴注入产生。
h
并非所有半导体都能发光。Si、Ge不发光。由能 带结构决定。间接能带结构的半导体不发光。直接能带 结构的半导体才发光。(发光材料一章介绍) Si、Ge是间接能带结构。Ⅲ-Ⅴ族化合物如GaAs、 InP是直接能带,可以发光,被用作激光器和发光管。
ⅡB-ⅥA化合物,12种(Zn、Cd、Hg——S、Se、Te)
ⅣA-ⅣA化合物,SiC等
ⅣA-ⅥA化合物,9种(GeS、GeSe、SnTe、PbS等)
ⅤA-ⅥA 化合物,AsSe3、SbS3、AsTe3、AsS3等
多元化合物
AgGeTe2、AgAsSe2、Cu2CdSnTe4等
三种元素以上
3、固溶半导体 二元互溶 AxB1-x,如Si-Ge
当T升高,电子激发到 导带,在价带留下空穴。在 电场作用下,导带中电子和 价带中空穴均导电,称为本 征导电。
二、杂质半导体
导带
1eV

半导体物理与器件第四章3

半导体物理与器件第四章3
电中性条件
n0 Na pa p0 Nd nd
在非简并条件下, 且杂质完全电离 (常温低掺杂):
n0 p0 ni 2
nd pa 0
n0 p0 ni 2
n0 Na p0 Nd
n02 Nd Na n ni
n0
Nd Na 2
Nd Na 2 n i 2
2
对n型半导体 一般 掺杂 所以 :
Nd ni
n0 Nd
则:
Nc Ec EF kT ln Nd

可用另外一种方式来推导费米能级位置:

EF EFi n0 ni exp kT

Na Nd ni
n0 p0 ni

当有效掺杂浓度远小于ni时,对于非简并完全电离的补偿 半导体,多子浓度近似等于本征载流子浓度,此时半导体 具有本征半导体的特性 特别的当

Na Nd 0 ni 半导体为完全补偿半导体
n0 p0 ni
杂质半导体的载流子浓度与杂质浓度的关系: 一定温度下,当杂质浓度小于ni时,n0,p0都等于ni, 材料视为本征的。 一定温度下,当杂质浓度大于ni时,多数载流子由杂质浓 度决定,随杂质浓度增加而增加,少数载流子随之减少。
4.6 费米能级的位置

从热平衡电子浓度的表达式:
Ec EF n0 N c exp kT Nc Ec EF kT ln n0
在常温下,杂质完全电离的 非简并半导体 ,载流子浓度由此前的与掺杂 浓度有关的方程给出。 即n0 为 :

同样,对于掺入受主杂质的p型非本征半导体材料,在室 温下,对于1016cm-3左右的典型受主杂质掺杂浓度来说, 其掺杂原子也已经处于完全电离状态。

《电工与电子技术基础》第4章半导体器件习题解答

《电工与电子技术基础》第4章半导体器件习题解答

第4章半导体器件习题解答习题4.1计算题4.1图所示电路的电位U Y 。

(1)U A =U B =0时。

(2)U A =E ,U B =0时。

(3)U A =U B =E 时。

解:此题所考查的是电位的概念以及二极管应用的有关知识。

假设图中二极管为理想二极管,可以看出A 、B 两点电位的相对高低影响了D A 和D B 两个二极管的导通与关断。

当A 、B 两点的电位同时为0时,D A 和D B 两个二极管的阳极和阴极(U Y )两端电位同时为0,因此均不能导通;当U A =E ,U B =0时,D A 的阳极电位为E ,阴极电位为0(接地),根据二极管的导通条件,D A 此时承受正压而导通,一旦D A 导通,则U Y >0,从而使D B 承受反压(U B =0)而截止;当U A =U B =E 时,即D A 和D B 的阳极电位为大小相同的高电位,所以两管同时导通,两个1k Ω的电阻为并联关系。

本题解答如下:(1)由于U A =U B =0,D A 和D B 均处于截止状态,所以U Y =0;(2)由U A =E ,U B =0可知,D A 导通,D B 截止,所以U Y =Ω+Ω⋅Ωk k E k 919=109E ;(3)由于U A =U B =E ,D A 和D B 同时导通,因此U Y =Ω+Ω×⋅Ω×k k E k 19292=1918E 。

4.2在题4.2图所示电路中,设VD 为理想二极管,已知输入电压u I 的波形。

试画出输出电压u O 的波形图。

题4.1图题4.2图解:此题的考查点为二极管的伏安特性以及电路的基本知识。

首先从(b)图可以看出,当二极管D 导通时,电阻为零,所以u o =u i ;当D 截止时,电第4章半导体器件习题解答阻为无穷大,相当于断路,因此u o =5V,即是说,只要判断出D导通与否,就可以判断出输出电压的波形。

要判断D 是否导通,可以以接地为参考点(电位零点),判断出D 两端电位的高低,从而得知是否导通。

第4章 半导体激光器

第4章 半导体激光器

不同半导体材料的带隙及发光波长
4.2.2 态密度和电子的激发
• 电子占据能级的概率遵循费密-狄拉克统计规 律:在热平衡状态下,电子占据能量为E的能级 的概率为
e ( E )
1
1 e
( E E F ) / kT
费密能级
费密分布函数
• EF是表征电子在各个能级分布情况的参数,并不表示电 子可以实际占据的能级 • EF表示电子填充概率为50%的一个能级 • 费密能级之上,距离越远,被电子占据的几率越小,被空 穴占据的几率越大; • 费密能级之下,情况相反
直接禁带:
• 直接禁带半导体(导带底和价带顶在K空间
同一点) 间接禁带: • 间接禁带半导体(导带底和价带顶不在K空 间同一点)
4.2 激发与复合辐射
4.2.1 直接跃迁和半导体激光材料
吸收或发射:电子在不同状态之间跃迁
纯净半导体:本征吸收
能引起本征吸收的光子能量必须大于某一阈值,
阈值增益为
(Gi ) 2 L
主要由自由载流子的吸收引起,其大小正比于载流子浓度n 见书
1 1 Gth i ln 2L R1 R2
实际情况下,光场不可能被完全约束在有源区, 引入光限制因子 有源区能量和有源区及无源区总能量之比
设无源区的吸收系数和端面反射率分别为
衍射光栅 N层 光栅 b P层 有源层 输出光 (a) 有源层

a
分布反馈(DFB)激光器 (a) 结构; (b) 光反馈
EF Ev KT
1
价带基本被电子占满,只有少量空穴,集中在相对靠近 的价带顶部 E F 当材料受到激发时,将有一部分电子从价带跃迁到导带 (部分动能较高的电子从价带中较低的部位跃迁到导带
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含稳压管电路的分析:
(1)施加正向电压,稳压管(PN结)处于导通状态; (2)施加反向电压且小于反向击穿电压,稳压管处于截至状态; (3)施加反向击穿电压,稳压管处于稳压状态。
4.3.2 稳压管的主要参数 1. 稳定电压 UZ 2. 电压温度系数 U 3. 动态电阻 rZ 4. 稳定电流 IZ 5. 最大允许耗散功率 PZM
§4.1 半导体的基本知识
半导体顾名思义,就是指导电能力介于导体和 绝缘体之间(其电阻率在10-5~108 Ω· m)的材料, 如硅、锗、硒以及大多数金属氧化物和硫化物等。
4.1.1 本征半导体
完全纯净的、按照一定的规律整齐排列的、有 晶体结构的半导体,称为本征半导体。 用得最多的半导体是硅或锗,它们都是四价元 素。将硅或锗材料提纯并形成单晶体后,便形成共 价键结构。



外加电压大于反向击穿电压二极管被击穿,失去单向导电性。
二极管的反向电流受温度的影响,温度愈高反向电流愈大。
导通 截止 若二极管是理想的,正向导通时正向管压降为零, 反向截止时二极管相当于断开。
否则,正向管压降 硅0.6~0.7V 锗0.2~0.3V
二极管电路分析举例 定性分析:判断二极管的工作状态
ui
3
E 3V
uo
0
uo /V
2
t
【解】 在ui正半周,且ui > E时,
3 0 –6
D导通,uo =E = 3 V;
在ui正半周,但ui < E 及 ui 负半周时,D 均截止, uo = ui 。

2
t
§4.3 稳压管
稳压管是一种特殊的面接 触型半导体硅二极管。其表示 符号如下图所示。
60 40 20
+ P

15
N
– 50
– 25
10 5
–0.01 0 0.2 –0.02 0.4
正向特性
0.4 0.8 U/V
反 0 向 – 0.02 特 击穿电压 性 U(BR) – 0.04
P
–50
–25
U/V

死区电压
+
N
硅管的伏安特性
锗管的伏安特性
在二极管上加反向电压时,反向电流很小。但当反向电 压增大至某一数值时,反向电流将突然增大。这种现象称为 击穿,二极管失去单向导电性。产生击穿时的电压称为反向 击穿电压 U(BR)。
载流子
2 . 半导体的导电特性:
热敏性:当环境温度升高时,导电能力显著增强 (可做成温度敏感元件,如热敏电阻)。 光敏性:当受到光照时,导电能力明显变化 (可做 成各种光敏元件,如光敏电阻、光敏二极 管、光敏三极管等)。 掺杂性:往纯净的半导体中掺入某些杂质,导电 能力明显改变(可做成各种不同用途的半导 体器件,如二极管、三极管和晶闸管等)。
二极管的应用范围很广,主要都是利用它的单向导电性。 它可用与整流、检波、限幅、元件保护以及在数字电路中作为 开关元件。
二极管的单向导电性
• 二极管加正向电压(正向偏置,阳极接正、阴极接负 )时 , 二极管处于正向导通状态,二极管正向电阻较小,正向 电流较大。 二极管加反向电压(反向偏置,阳极接负、阴极接正 )时 , 二极管处于反向截止状态,二极管反向电阻较大,反向 电流很小。
空间电荷区 空间电荷区变窄
P区
扩散运动增强,形 成较大的正向电流 N区
IF
外电场驱使P区的空 穴进入空间电荷区抵消 一部分负空间电荷
内电场方向 外电场方向
E
N区电子进入空间 电荷区抵消一部分正 空间电荷
R
外 加 反 向 电 压
少数载流子越过 PN 结形成很小的反向电流
空间电荷区 空间电荷区变宽
P区
4.1.2 N 型半导体和 P 型半导体
本征半导体中由于载 流子数量极少,导电能力 很低。如果在其中参入微 量的杂质(某种元素)将使 其导电能力大大增强。 1. N 型半导体
Si
多余价电子
Si P
Si
Si Si
Si
Si
在硅或锗的晶体中掺入五价元素磷,当某一个硅原 子被磷原子取代时,磷原子的五个价电子中只有四个用 于组成共价键,多余的一个很容易挣脱磷原子核的束缚 而成为自由电子。因而自由电子的数量大大增加,是多 数载流子,空穴是少数载流子,将这种半导体称为 N 型 半导体。
12 流过 D2 的电流为 I D 2 4mA 3
D2
×
×
D1 3k 12V + UAB A
6V
– B
D1承受反向电压为-6 V
在这里, D2 起钳位 作用, D1起隔离作用。
【例 4.2】 下图是二极管限幅电路,二极管D的正向压降可忽 略不计,ui = 6 sin t V, E= 3 V,试画出 uo 波形 。 R ui / V + + 6 D
分析方法:将二极管断开,分析二极管两端电位 的高低或所加电压UD的正负。
若 V阳 >V阴或 UD为正( 正向偏置 ),二极管导通
若 V阳 <V阴或 UD为负( 反向偏置 ),二极管截止
【例 4.1】在图中,输入电位 VA = + 3 V, VB = 0 V, 电阻 R 接负电源 –15 V。求输出端电位 VY。 【解】因为 VA 高于VB ,所 以DA 优先导通。如果二极管 的正向压降是 0.7 V,则 VY = + 2.3 V。当 DA 导通后, DB 因反偏而截止。
Si
Si Si
Si
Si
1. P 4.1.3 PN 结及其单向导电性 用专门的制造工艺在同一块半导体单晶上,形成 P 型半 N 结 导体区域和 N 型半导体区域,在这两个区域的交界处就形成 的 了一个特殊的薄层,称为 PN 结。 形 空间电荷区 P区 N区 成
由浓度差,N区的电子向P区扩散, P区的空穴向 N区扩散,相遇并复合掉。称为扩散运动。
N区
IR
返回
外电场驱使空间电荷 区两侧的空穴和自由电子 移走,多数载流子的扩散 运动难于进行
内电场方向 外电场方向
E
R
单向导电性
4.2.1 基本结构
§4.2 半导体二极管
将 PN 结加上相应的电极引线和管壳,就成为半导体二极 管。按结构分,有点接触型和面接触型两类。 引线 正极引线 外壳 触丝 N 型锗
电工电子教研室2009.8
第 4 章 常用半导体器件
§4.1 半导体的基础知识 §4.2 半导体二极管 §4.3 稳压管 §4.4 半导体三极管
结束
基本要求:
1.了解半导体基本知识和PN结的形成及其单向导电性; 2.理解二极管的伏安特性,了解二极管的主要参数; 3.了解硅稳压管的结构和主要参数; 4.了解三极管的基本结构和电流放大作用,理解三极管 的特性曲线及工作特点,了解三极管的主要参数。 重点:二极管的伏安特性;三极管的输入、输出特性 及工作特点;含二极管和稳压管电路分析。 难点:三极管的电流放大原理以及输入、输出特性; 含二极管和稳压管电路分析。
I/mA
+
正向
4.3.1 伏安特性
稳压管工作于反向击穿区。 从反向特性曲线上可以看出, 反向电压在一定范围内变化时, 反向电流很小。当反向电压增 高到击穿电压时,反向电流突 然剧增,稳压管反向击穿。此 后,电流虽然在很大范围内变 化,但稳压管两端的电压变化 很小。利用这一特性,稳压管 在电路中能起作用。 UZ
VA VB DB R –12V
DA
Y
在这里,DA 起钳位作用,将输出端电位钳制在 + 2.3 V。
【*例 4.1】电路如图,求:UAB
【解】 分析;取 B 点作参考点,断 开二极管,分析二极管阳极和阴极的 6V 电位。 U阳 =-6 V U阴 =-12 V U阳>U阴 二极管导通
×
3k
12V
D
+
A
UAB –
B
若忽略管压降,二极管可看作短路,UAB =- 6V 考虑管压降, UAB低于-6V一个管压降,为-6.3V或-6.7V
在这里,二极管起钳位作用。
【*例 4.2】电路如图,求:UAB
【解】 分析;两个二极管的阴极接在 一起,取 B 点作参考点,断开二极管, 分析二极管阳极和阴极的电位。 U1阳 =-6 V,U2阳=0 V U1阴 = U2阴= -12 V UD1 = 6V,UD2 =12V ∵ UD2 >UD1 ∴ D2 优先导通, D1截止。 忽略管压降,二极管可看作短路,UAB = 0 V
1. P N 结 的 形 成
P区
空间电荷区 PN结
N区


漂移运动
内电场方向
扩散运动继续
内电场的建立,形成漂移运动;随着扩散运动的 进行,空间电荷区变宽,同时漂移运动增强 ,扩散运 动减弱。当漂移运动与扩散运动达到动态平衡,形成 一个空间电荷区,称为PN结。
PN结
外 加 正 向 电 压
2. PN 结的单向导电性
N型锗 铝合金小球
阳极引线 二氧化硅保护层
PN 结
N型硅
P 型硅
金锑合金 阴极引线 底座 (c )
平面型负极引线 符号:(a)点触型 (b)面接触型 负极 正极
4.2.2 伏安特性
二极管和 PN 结一样,具有单向导电性,由伏安特性曲线 可见,当外加正向电压很低时,电流很小,几乎为零。正向电 压超过一定数值后,电流很快增大,将这一定数值的正向电压 称为死区电压。通常,硅管的死区电压约为0.5V,锗管约为 0.1V。导通时的正向压降,硅管约为0.6 ~ 0.7V,锗管约为0.2 ~ I / mA I / mA 0.3V。
价电子
Si
Si
Si 共价健
Si
硅单晶中的共价健结构 晶体中原子的排列方式
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