第一章 薄膜及其特性
偏振光反射法测量薄膜厚度和折射率的研究毕业论文
偏振光反射法测量薄膜厚度和折射率的研究
薄膜技术的发展及其应用
薄膜是一种较特殊的物质形态,其在厚度这一特定方向上尺寸较小,仅
是微观可测的物理量,并且在厚度方向上由于表面、界面的存在,使物质的连续性发生中断,由此使得薄膜材料产生了与块状材料具有不同的性能。也可以解释为,由于成膜的过程中晶体取向、晶粒大小、杂质浓度、成份的均匀性、基底材
料、温度以及清洁度等因素的影响,使得薄膜的物理性能与块状材料的物理性能
在诸多方面不同。这引起了诸多科研工作者们较为浓厚的研究兴趣并使之得到更为广泛的应用。二十世纪70年代以来,薄膜技术得到空前的发展,无论在学术研究上还是在工业应用中都取得了较丰硕的成果。薄膜技术及薄膜材料已成为当代真
空技术及材料科学研究中最活跃的领域之一,并在新科学技术革命中,具有举足轻重的地位。
薄膜技术涉及的范围比较广,其中包括物理气相沉积、化学气相沉积成膜技术,以离子束刻蚀为代表的微细加工技术,成膜、刻蚀过程的监控技术,以及薄膜分析、评价与检测技术等。目前,薄膜技术在电子元器件、集成光学、电子技术、红外技术、激光技术、航天技术和光学仪器等许多领域均得到了极为广泛的应用,不仅成为了一门独立的应用技术,而且成为了材料表面改性和提高某些工艺水平的重要手段。许多国家对薄膜材料和薄膜技术的研究开发极为重视,称之为“腾飞的薄膜产业”,并且每年均要举行多次国际会议。最早应用薄膜技术的领域要算光学领域,早在1817年夫琅禾费就用酸蚀方法制成了光学上的减反射膜。1930年,由于真空蒸发设备出现使薄膜大量地应用于光学领域。近代的彩色电视、彩色摄影机、太阳能电池、激光器、集成光学等均离不开薄膜技术,大部分光学仪器或光电装置也均离不开光学薄膜。利用薄膜的光学性能,可改变元件反射率、吸收率与透射率,实现光束分束、并束、分色、偏振、位相调整等,使某光谱带通或阻滞等。薄膜技术应用领域很广泛,由于高精尖的制造技术、跨学科的综合设计与严格科学的实际应用,使薄膜技术应用在高新技术领域、信息、生物、航空、航天、新能源等前沿领域中显示越来越重要的地位。在高新技术产业发展的过程中,薄膜技术和新兴学科紧密结合,目前,薄膜技术已运用到纳米技术的精密机械的研究,分子层次的现代化学研究以及基因层次的生物学研究等。薄膜制备技术、薄膜材料科学研究、薄膜表面微加工技术是当今微机械加工技术、微细加工技术的重要基础,己经渗透到当今科学技术的各个领域,成为技术密集、知识密集、资金密集的高科技新兴薄膜产业。二十世纪八十年代至九十年代,表面微结构加工技术和微米薄膜制备的发展推动了大规模集成电路、薄膜集成电路、光集成器件、薄膜传感器、光电子一磁光电子器件和高质量的光学薄膜等技术的进步。薄膜技术作为现代光学的核心技术在国民经济中占有着十分重要的地位,从航天、卫星等空间探测器到集成电路、激光器件、生物芯片、液晶显示以及集成光学,在很大程度上取决于薄膜技术的发展。薄膜技术水平的高低已经成为衡量一个国家光电信息等高新技术产业科技发展水平的关键。
MOCVD法生长硅基六方相GaN薄膜及其性质研究
浙江大学
硕士学位论文
MOCVD法生长硅基六方相GaN薄膜及其性质研究
姓名:洪炜
申请学位级别:硕士
专业:材料物理与化学
指导教师:叶志镇
20050601
B^B^BA
latticeparameterlAI
图2一lⅡI族氮化物的带隙宽度和晶格常数
图2-2GaN晶体两种结构的原子排列示意图
N
Ga
(zzl)相对于传统的111.V族化合物半导体和硅,IⅢ英氮化物在全色显示、激光打
印、高密度信息存储、水底通讯、自动控制引擎等领域应用前景十分广泛。另由于IIl族氮化物带隙宽度大和化学键强,特别适合制作紫光、蓝光和绿光发光二极管以及高温、大功率器件。
GaN是一种极性晶体,由于Ga元素和N元素之间有较大的电负性差异(Ga=I.13,N=3.00)导致在GaN材料中存在很强的化学键,这是GaN具有许
多独特物理性质的根源。表2.1详细列出了GaN的一些物理性质。
的GaN样品。系统的衬底转动部分采用磁流体密封技术,最高转速可达i500rpm。生长室的本底真空度为5.0x10"SPa。材料生长过程中各工艺参数均可通过计算机实现自动化控制。此系统已申请国家发明专利(申请号03116768.3),并已通过浙江省科技厅组织的科技成果鉴定(浙科鉴字[2003]第199号).该设备由气体输送系统、系统腔体(包括生长室和进样室)、计算机控制系统、尾气排放系统组成。
图3一l所示为MOCVD系统的气路原理图。高纯H2或N2作为载气可由水平与垂直两个方向进入生长室。水平方向为主气流,输送参与反应的源。垂直方向为副气流,输送N2与H2混合气体。副气流的作用是克服由于衬底的高温而在其上方形成的气体对流,把主反应气体压向衬底,促进表面薄膜的二维生长。各种气体或源的流量可由质量流量计精确控制。
薄膜的基本性质
导电性
• 薄膜和热平衡状态下制造的金属,二者生成过程
完全不同。薄膜是由岛状构造开始,且在急热急 冷的状态下生成的,因此薄膜内缺陷很多。这样, 其导电性就表现出与整块的金属的导电性不同的 特殊性质。 在研究薄膜的导电性时,同气体情况下相类似要 考虑到电子的平均自由程与膜厚的关系。
•
导电性
• (1)膜厚小于平均自由程 • 在薄膜为岛状构造的情况下,电子是沿着岛流动的,最终 在薄膜为岛状构造的情况下,电子是沿着岛流动的,
电子必须以某种方法通过微晶体之间的空间,因此,在膜 电子必须以某种方法通过微晶体之间的空间,因此, 层较薄时,电阻率是非常大的。当膜厚增加达到数百埃, 层较薄时,电阻率是非常大的。当膜厚增加达到数百埃, 电阻率就会急剧地减小;但是, 电阻率就会急剧地减小;但是,因晶粒界面的接触电阻起 很大的作用,所以和整块材料时相比, 很大的作用,所以和整块材料时相比,电阻率还是要大的 晶粒界面上会吸附气体,发生氧化, 多。晶粒界面上会吸附气体,发生氧化,当这些地方为半 导体时,甚至会出现随温度的升高电阻减小的情况。 导体时,甚至会出现随温度的升高电阻减小的情况。 单晶膜是在高温下生成的,没有晶粒界面的问题, 单晶膜是在高温下生成的,没有晶粒界面的问题,所以一 般说来电阻率小些。如果蒸镀和溅射比较, 般说来电阻率小些。如果蒸镀和溅射比较,溅射的膜由于 核的密度较高,电阻率也较小些。 核的密度较高,电阻率也较小些。
薄膜材料及其制备技术
课程设计
实验课程名称电子功能材料制备技术
实验项目名称薄膜材料及薄膜技术
专业班级
学生姓名
学号
指导教师
薄膜材料及薄膜技术
薄膜技术发展至今已有200年的历史。在19世纪可以说一直是处于探索和预研阶段。经过一代代探索者的艰辛研究,时至今日大量具有各种不同功能的薄膜得到了广泛的应用,薄膜作为一种重要的材料在材料领域占据着越来越重要的地位,各种材料的薄膜化已经成为一种普遍趋势。其中包括纳米薄膜、量子线、量子点等低维材料,高K值和低K值介质薄膜材料,大规模集成电路用Cu布线材料,巨磁电阻、厐磁电阻等磁致电阻薄膜材料,大禁带宽度的“硬电子学”半导体薄膜材料,发蓝光的光电半导体材料,高透明性低电阻率的透明导电材料,以金刚石薄膜为代表的各类超硬薄膜材料等。这些新型薄膜材料的出现,为探索材料在纳米尺度内的新现象、新规律,开发材料的新特性、新功能,提高超大规
模集成电路的集成度,提高信息存储记录密度,扩大半导体材料的应用范围,提高电子元器件的可靠性,提高材料的耐磨抗蚀性等,提供了物质基础。以至于将薄膜材料及薄膜技术看成21世纪科学与技术领域的重要发展方向之一。
一、薄膜材料的发展
在科学发展日新月异的今天,大量具有各种不同功能的薄膜得到了广泛的应用,薄膜作为一种重要的材料在材料领域占据着越来越重要的地位。
自然届中大地、海洋与大气之间存在表面,一切有形的实体都为表面所包裹,这是宏观表面。生物体还存在许多肉眼看不见的微观表面,如细胞膜和生物膜。生物体生命现象的重要过程就是在这些表面上进行的。细胞膜是由两层两亲分子--脂双层膜构成,它好似栅栏,将一些分子拦在细胞内,小分子如氧气、二氧化碳等,可以毫不费力从膜中穿过。膜脂双层分子层中间还夹杂着蛋白质,有的像船,可以载分子,有的像泵,可以把分子泵到膜外。细胞膜具有选择性,不同的离子须走不同的通道才行,比如有K+通道、Cl-通道等等。细胞膜的这些结构和功能带来了生命,带来了神奇。
薄膜种类及特性
薄膜种类及特性
集团企业公司编码:(LL3698-KKI1269-TM2483-LUI12689-ITT289-
第一章:薄膜种类及特性
一、PP(聚丙烯薄膜)
1、BOPP(双向拉伸聚丙烯薄膜)
特性如下:
1)BOPP薄膜无色、无嗅、无味、无毒、卫生性能好、密度在0.92g/cm2。
2)BOPP薄膜刚性好,具有强韧性、透明度和光泽性。
3)BOPP薄膜拉伸强度高、抗冲击强度好、但抗撕裂强度低。因此,两端不能
留任何切口,否则在印刷复合时容易撕裂。
4)BOPP薄膜表面能低,涂胶或者印刷前需要进行电晕处理,有很好的印刷适
应性,但有一定期限,过期后表面能也不好。
5)BOPP薄膜耐热性高,使用温度可达120℃,是通用塑料中最耐温的。
6)BOPP薄膜化学稳定性好,除强酸对它有腐蚀作用外,不溶于其他溶剂。
7)BOPP薄膜阻水性极佳,是阻水防潮最佳材料之一,吸水率<0.01%,但阻氧
率极差。
8)BOPP薄膜也有不足,如积累静电,没有热封性等。在高速运转的的生产线
上需安装静电去除器。
2、消光BOPP
消光BOPP的表层设计为消光(粗化)层,是外观的质感试于纸张。消光BOPP 与BOPP薄膜相比有以下特点:
1)消光层有遮光作用,表面光泽度也就大大的减少。
2)必要时消光层可有热封性。
3)消光层滑爽性好,因表面粗化具有防粘性,膜卷不易粘结。
4)消光层的拉伸强度比通用的薄膜低。
二、CPP薄膜
CPP薄膜即流延聚丙烯薄膜,是一种无拉伸、非定向聚丙烯薄膜。按原料分为均聚CPP和共聚CPP,按作用分为通用CPP,镀铝(VMCPP),蒸煮CPP(RCPP)等。
第一章 薄膜及其特性
• • • • 第一节 第二节 第三节 第四节 薄膜的定义及其特性 薄膜材料的分类 薄膜的形成过程 薄膜的结构特征与缺陷
第一节
薄膜的定义及其特性
• 什么是“薄膜”(thin film),多“薄”的 膜才算薄膜?
• 薄膜有时与类似的词汇“涂层”(coating)、 “层”(layer)、“箔”(foil)等有相同 的意义,但有时又有些差别。 • 通常是把膜层无基片而能独立成形的厚度作 为薄膜厚度的一个大致的标准,规定其厚度 约在1µm左右。
第二节 薄膜材料的分类
• 按化学组成分为: 无机膜、有机膜、复合膜; • 按相组成分为: 固体薄膜、液体薄膜、气体薄膜、胶体薄膜; • 按晶体形态分为: 单晶膜、多晶膜、微晶膜、 纳米晶膜、超晶 格膜等。
按薄膜的功能及其应用领域分为:
• • • • • 电学薄膜 光学薄膜 硬质膜、耐蚀膜、润滑膜 有机分子薄膜 装饰膜 、包装膜
(2)薄膜和基片的粘附性
• 薄膜是在基片之上生成的,基片和薄膜之间就会 存在着一定的相互作用,这种相互作用通常的表 现形式是附着(adhesion)。 • 薄膜的一个面附着在基片上并受到约束作用,因 此薄膜内容易产生应变。若考虑与薄膜膜面垂直 的任一断面,断面两侧就会产生相互作用力,这 种相互作用力称为内应力。 • 附着和内应力是薄膜极为重要的固有特征。
化合物的计量比,一般来说是完全确定的。但是 多组元薄膜成分的计量比就未必如此了。 当Ta在N2的放电气体中被溅射时,对应于一定的N2 TaNx (0 x 的成分却是任意的。 1) 分压,其生成薄膜 另外,若Si或SiO在O2的放电中真空蒸镀或溅射, 所得到的薄膜 SiOx (0 x 1) 的计量比也可能是任意的。 由于化合物薄膜的生长一般都包括化合与分解, 所以按照薄膜的生长 条件,其计量往往变化相当大。 如辉光放电法得到的a- Si1 xOx : H 等,其 x (0 x 1) 可在很大范围内变化。 因此,把这样的成分偏离叫做非理想化学计量比。
ITO-Ag复合薄膜的制备及光电特性
186
ITO薄膜的优点是电阻率低、可见光波段透过率高,并迅速的代替了其出现前的大部分薄膜市场,被广泛应用于光伏、显示等多个领域。但ITO薄膜也存在造价成本高等缺点,其中材料之一的钢(In)进货价格昂贵且含有毒性,因此,需要研究其替代品或研究如何使用最少的量达到最大的效果,从而减少生产成本。这时ITO-Ag薄膜出现了,其材料结构中,钢(In)使用量得到了降低,生产成本变少,且光电性能还高于ITO薄膜,所以,其以价位低、性能高的优势,夺得ITO薄膜的热点地位,也逐渐被广泛应用,但ITO 薄膜同样也有缺点,如柔韧性差。因此,还需要继续寻找更好的替代品,相关专业研究人才把研究点放到了石墨烯薄膜、高分子薄膜、碳纳米管薄膜上,缓解了以往薄膜柔韧性差的缺点,而且光电性能也较好,但由于各种原因,还是不能被大面积使用,推广中断。另外,现在的薄膜发展速度也开始不能满足于社会的需求,如穿戴设备制作中就需要让薄膜具备高柔韧性,所以就需要深入研究,寻求新的替代品和改善已有产品的性能,进一步完善薄膜市场,促进薄膜的发展。本文主要介绍的是一种新型薄膜——ITO-Ag新型复合透明导电薄膜,其在制作中使用钢(In)材料较少,生产成本较低,光电性能较好,综合来说,其整体质量水平较高,具有较高的研究价值。本次实验就是研究ITO薄膜的优缺点,如柔韧性、光电性等,为可穿戴设备的发展提供支持,从而扩宽其发展道路。
1 复合薄膜光学与电学性能表征
1.1 复合薄膜光学性能表征1.1.1 透射光谱
目前,透射光谱的形成采用的仪器之一是紫外可见分光光度计。在市场上,用紫外可见分光光度计测定溶液吸光度,其种类型号很多,但所有产品的基础构架一样,都是由信号显示系统、光源、检测器、单色器及样品吸收池等组成,使用时不存在较大差异,所以,在一般实验中无需花费昂贵的价位购买。实验时,首先将样品放到仪器,光源发出信号,然后显示系统接收,单色器再将单色光照射到样品溶液上,经过一段时间溶液被吸收,这时检测器进行转化,提供电信号变化,最后信号指示系统得到最终数据透射比T。在紫外可见分光光度计中:(1)信号显示系统主要是将检测时产生的电信号,进一步处理,将其放大显示,以便实验人员记录,进行分析研究。(2)光源是将光波收集,挑选合适的入射光提供给下一步骤。所以,其使用周期一定要长,而且有很好的光强,以便提供的光谱是正确无误的。(3)检测器主要是将穿透吸收池的光转化为电信号,并输出。为了检测结果的准确性,检测器对上一步骤中的光电转换器有很多要求,如其要有恒定的函数关系,产生的电信号要容易被检测放大,实验时反应要灵敏、快,工作时带来的噪音要小,使用的寿命要长等[1]。(4)单色器是紫外可见分光光度计的“心脏”,把光源提供的光谱进行进一步提取,分解成单色光。单色器的构造中色散元件是最主要的,其将收集到的连续光谱进行色散,变为单色光,由棱镜、反射光栅组成;另一个重要的部分为狭缝,可调节单色光的纯度;再有是透镜系统,其控制光的方向和“取出”所需要的单色光。(5)吸收池是用来盛放待测溶液样本,它决定了透光液层的厚度。1.1.2 反射光谱
真空镀膜技术与设备设计安装及操作维护实用手册
《真空镀膜技术与设备设计安装及操作维护实用手册》作者:李云奇
出版社:化学工业出版
开本:16开精装
册数:全三册 +1张光盘
定价:798 元
优惠价:360 元
《真空镀膜技术与设备设计安装及操作维护实用手册》《真空镀膜技术与设备设计安装及操作维护实用手册》目录
第一篇真空镀膜技术概论
第一章真空镀膜技术及其应用
第二章真空镀膜基础知识
第三章真空镀膜常用塑料
第四章真空镀膜常用涂料
第二篇真空技术
第一章真空基本知识
第二章真空泵
第三章真空系统
第四章真空测量
第五章真空检漏
第三篇真空镀膜材料
第一章薄膜材料的基本理论和特性
第二章金属薄膜材料
第三章介质和半导体薄膜材料
第四章光学性能可变换的薄膜材料
第四篇真空蒸发镀膜技术
第一章真空蒸发镀膜原理
第二章蒸发源
第三章蒸发源的蒸发特性及其膜厚分布第四章某些特定材料的蒸发技术
第五章间歇式真空蒸发镀膜机
第六章半连续式真空蒸发镀膜机
第五篇真空溅射镀膜技术
第一章溅射技术
第二章直流溅射镀膜
第三章磁控溅射镀膜
第四章射频溅射镀膜
第五章反应溅射镀膜
第六章磁场计算
第七章水冷系统的设计与计算
第八章膜厚均匀度
第六篇真空离子镀膜和束流沉积技术第一章真空离子镀膜
第二章离子束沉积技术
第三章分子束外延技术
第七篇化学气相沉积技术
第一章化学气相沉积技术概论
第二章化学气相沉积方法
第三章低压化学气相沉积技术
第四章等离子增强化学气相沉积技术第五章其它化学气相沉积法
第八篇真空离子注入技术
第一章真空离子注入技术概论
第二章几种离子注入的新方法
第三章离子注入装置
第四章离子注入及离子束混合的应用第九篇薄膜微细加工技术
第一章薄膜微细加工技术概论
纳米薄膜材料
2、电学特性
研究目的:搞清导体向绝缘体的转变,以及绝缘 体转变的尺寸限域效应。 常规导体:当尺寸减小到纳米数量级时,其电学 行为发生很大的变化。 有人在Au/Al2O3的颗粒膜上观察到电阻反常现象, 随着Au含量的增加(增加纳米Au颗粒的数量), 电阻不但不减小,反而急剧增加,如图3.2所示。 这一实验结果告诉我们,尺寸的因素在导体和 绝缘体的转变中起着重要的作用。
④照明光源中所用的反热镜与冷光镜薄膜。 ⑤建筑物、汽车等交通工具所用的镀膜玻璃。 包 括用于热带地区的太阳能控制膜(Cr、Ti、不锈 钢 、 Ag 等 ) 和 用 于 寒 带 地 区 的 低 辐 射 率 薄 膜 (TiO2-Ag-TiO2)。 ⑥激光唱片与光盘中的光存储薄膜。 ⑦集成光学元件与光波导中所用的介质薄膜与半 导体薄膜。
(2)薄膜技术目前还是一门发展中的边缘学科, 其中不少问题还正在探讨之中。 薄膜的性能多种多样:有电性能、力学性能、光学 性能、磁学性能、催化性能、超导性能等。因 此,薄膜在工业上有着广泛的应用,并在现代 电子工业领域中占有极其重要的地位,是世界 各国在这一领域竞争的主要内容,也从一个侧 面代表了一个国家的科技水平。
(C)气相物质的沉积
气相物质在基片上的沉积是一个凝聚过程。根据凝聚条 件的不同,可以形成非晶态膜、多晶膜或单晶膜。 蒸镀和溅射是物理气相沉积的两类基本制膜技术。以此 为基础,又生出反应镀和离子镀。其中反应镀在工艺 和设备上变化不大,可以认为是蒸镀和溅射的一种; 而离子镀在技术上变化较大,所以通常将其与蒸镀和 溅射并列为另一类制膜技术。 反应镀:在沉积过程中,沉积物原子之间发生化学反应 形成化合物膜。 离子镀:用具有一定能量的离子轰击靶材,以求改变膜 层结构与性能的沉积过程。
非晶合金薄膜特性及应用研究
非晶合金薄膜特性及应用研究第一部分:引言
非晶合金薄膜是一种用于电子、机械和传感器等领域的新材料,其特殊的化学和物理特性使其在这些领域中发挥着重要的作用。
在过去的几十年中,非晶合金薄膜的制备和应用一直是热门研究
领域之一。本文将介绍非晶合金薄膜的特性及其应用的研究现状
和前景。
第二部分:非晶合金薄膜的特性
非晶合金薄膜具有一些特殊的化学和物理特性,这些特性使得
非晶合金薄膜具有广泛的应用前景,以下是一些典型的非晶合金
薄膜特性:
1.高硬度和耐磨性
非晶合金薄膜的纳米晶结构使其具有很高的硬度和耐磨性能,
这使得它在机械领域中常用于制造耐磨和高硬度的零件,如轴承、齿轮和切削工具等。
2.高弹性模量和强度
非晶合金薄膜的高弹性模量和强度使它在某些力学应用领域中
具有重要的应用前景。例如,某些非晶合金薄膜可以用于制造微
型机械元件和纳米压力传感器。
3.优异的导电性
某些非晶合金薄膜具有优异的导电性能,这使得它们在电子领
域中具有广泛的应用前景。例如,非晶合金薄膜可以在制造微电
子元件时用作导线和电极。
4.优异的热稳定性
非晶合金薄膜的纳米结构使得其具有较高的热稳定性能,这在
高温应用领域中非常有用。例如,在高温润滑和高温氧化环境中,某些非晶合金薄膜可以用作表面涂层,以改善机械和化学性能。
第三部分:非晶合金薄膜的应用
非晶合金薄膜在电子、机械和传感器等领域中有着广泛的应用,以下将重点介绍非晶合金薄膜在这些领域中的应用。
1.电子器件
非晶合金薄膜具有很好的导电性能,可以用于制造各种电子器件,如晶体管、场效应管、二极管、光电池和发光二极管等。
氢含量对非晶硅薄膜热光效应影响的研究
分类号密级
UDC注1
学位论文
氢含量对非晶硅薄膜热光效应影响的研究
(题名和副题名)
周湘
(作者姓名)
指导教师刘爽教授
电子科技大学成都
(姓名、职称、单位名称)
申请学位级别硕士学科专业光学工程
提交论文日期2016.04 论文答辩日期2016.05
学位授予单位和日期电子科技大学2016年06月日答辩委员会主席
评阅人
注1:注明《国际十进分类法UDC》的类号。
STUDY ON THE EFFECT OF HYDROGEN CONTENT ON THE THERMO-OPTIC EFFECT OF AMOUPHOUS SILICOM FILMS
A Master Thesis Submitted to
University of Electronic Science and Technology of China
Major: Optical Engineering
Author: Xiang Zhou
Advisor: Shuang Liu
School: School of Optoelectronic Information
独创性声明
本人声明所呈交的学位论文是本人在导师指导下进行的研究工作及取得的研究成果。据我所知,除了文中特别加以标注和致谢的地方外,论文中不包含其他人已经发表或撰写过的研究成果,也不包含为获得电子科技大学或其它教育机构的学位或证书而使用过的材料。与我一同工作的同志对本研究所做的任何贡献均已在论文中作了明确的说明并表示谢意。
作者签名:日期:年月日
论文使用授权
本学位论文作者完全了解电子科技大学有关保留、使用学位论文的规定,有权保留并向国家有关部门或机构送交论文的复印件和磁盘,允许论文被查阅和借阅。本人授权电子科技大学可以将学位论文的全部或部分内容编入有关数据库进行检索,可以采用影印、缩印或扫描等复制手段保存、汇编学位论文。
电化学沉积法制备薄膜材料
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6.2、生物活性 1)、厦门大学的胡皓冰,林昌健控制电沉 积溶液中钙/磷离子的浓度,在钛合金表面 直接沉积得到具有生物活性的羟基磷灰石 (HAP)陶瓷涂层。XRD、SEM实验证实,制 备的HAP晶粒完整,粒度均匀。
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2) G F Pastore以金属铝为阳极基片,电解液 为硼酸胺,用0.2mol/L H3PO4调至pH=9.0, 用NaOH调Ph=7.6,得到了氧化铅薄膜。 3) S B Saidman,J R Vilche以金属镉为阳极 基片,以0.01mol/L NaOH+ymol/L Na2S (0≤y≤0.03)和xmol/L NaOH+ 0.01mol/L Na2S(0.01≤x≤1) 为电解液,得到了硫化 镉薄膜。
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主要内容
• 1、电化学沉积法简介 • 2、电化学沉积机理分析 • 3、电化学沉积方法分类 • 4、电化学沉积的电解质体系 • 5、电化学沉积的影响因素 • 6、电化学沉积法制备的薄膜的特性
XX XX (HK) LTD
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1、电化学沉积简介
电化学沉积是一种液相方法,通过电化学沉 积技术在材料表面获得具有多种功能的膜层, 是一种历史较长、工艺相对成熟的表面处理 技术,金属电化学沉积在 19 世纪早期就已 出现。
薄膜物理与技术课件1-8
9
图0-5
利用薄膜技术进行生物计算机研究
10
人造大脑
人的大脑细胞150亿个,经常工作的有10%就算是天才。 目前,1cm2的硅片上能成功制作2.5亿个三极管。正在试制容量 为4GB的集成电路。这意味着在1.5cm见方的芯片上制作40亿个三极管 及其他元件。只有薄膜技术能够胜任。
图0-6
Gb-DRAM中三极管及存储电容器部位的断面放大图
1 2 πσ
2
λ =
n
(1 − 6 )
λ =
kT 2 πσ
2
P
(1 − 7 )
气体种类和温度一定时,λP=常数。 对于25℃空气,
0.667 λ= (cm)(1 − 8) P
σ:分子直径;n:分子密度
24
真空术语(续)
③ 碰撞次数/入射频率(incident frequency) 单位时间,在单位面积的器壁上发生碰撞的气体分子数称为 “入射频率”。 Hertz-Knudsen 公式: 根据(1-1)和(1-4):
薄膜物理与技术
武莉莉 材料科学与工程学院
1
0 Introduction: Application of films in high technology
0.1 Internet and film technology
信息社会中,信息采集、处理和网络 设备需要大量的电子元器件、电子回路、 集成电路等。 薄膜技术是制作它们的基础。
薄膜种类及特性
薄膜种类及特性 SANY GROUP system office room 【SANYUA16H-
第一章:薄膜种类及特性
一、PP(聚丙烯薄膜)
1、BOPP(双向拉伸聚丙烯薄膜)
特性如下:
1)BOPP薄膜无色、无嗅、无味、无毒、卫生性能好、密度在0.92g/cm2。
2)BOPP薄膜刚性好,具有强韧性、透明度和光泽性。
3)BOPP薄膜拉伸强度高、抗冲击强度好、但抗撕裂强度低。因此,两端不能留任
何切口,否则在印刷复合时容易撕裂。
4)BOPP薄膜表面能低,涂胶或者印刷前需要进行电晕处理,有很好的印刷适应
性,但有一定期限,过期后表面能也不好。
5)BOPP薄膜耐热性高,使用温度可达120℃,是通用塑料中最耐温的。
6)BOPP薄膜化学稳定性好,除强酸对它有腐蚀作用外,不溶于其他溶剂。
7)BOPP薄膜阻水性极佳,是阻水防潮最佳材料之一,吸水率<0.01%,但阻氧率极
差。
8)BOPP薄膜也有不足,如积累静电,没有热封性等。在高速运转的的生产线上需
安装静电去除器。
2、消光BOPP
消光BOPP的表层设计为消光(粗化)层,是外观的质感试于纸张。消光BOPP与BOPP薄膜相比有以下特点:
1)消光层有遮光作用,表面光泽度也就大大的减少。
2)必要时消光层可有热封性。
3)消光层滑爽性好,因表面粗化具有防粘性,膜卷不易粘结。
4)消光层的拉伸强度比通用的薄膜低。
二、CPP薄膜
CPP薄膜即流延聚丙烯薄膜,是一种无拉伸、非定向聚丙烯薄膜。按原料分为均聚CPP和共聚CPP,按作用分为通用CPP,镀铝(VMCPP),蒸煮CPP(RCPP)等。
金属有机化学气相沉积法制备ZnO和ZnO:Ni薄膜及其特性分析
关键词
Z O薄膜 ; n N 薄膜 ; n Z O:i 金属有机化学气相沉积 ;透过 率
O 1. ; 6 13 72晓 6 14 0 1. ;0 8
2
中图分类号
Z O是一种直接带 隙的宽禁带半导体材料 , n 室温下激子束缚能高达 6 e . n 0m V ZO以其优 良的化学 稳 定性 和特有 的物 理特性 成为 制备 短波光 电器 件 的重要 材 料 ¨ j 被 广 泛应 用 在发 光 二极 管 和半 导 体 ,
光沉积¨ 和金属有机化学气相沉积( O V ) M C D 等多种方法 , 其中 M C D法具有生长速率快 、 OV 可大面 积生长 、 制备的薄膜均匀、 能实现不同组分掺杂等特点 , 因而被广泛用于制备半导体薄膜材料.本文 采 用光辅 助 MO V ( A. C D 设备 在 s衬底 上 成功 制备 了 Z O和 Z O:i C D P MO V ) i n n N 薄膜 , 通 过 扫描 电子 并
激 光器 等半 导体光 电器 件 中 , 并在太 阳能 电池 和 自旋 电子 学等领 域显 示 出广 阔的应用前 景 .自 19 9 6年
发现 Z O薄膜 的光泵浦紫外受激发射 以来 , n n ZO的研究一直是国际上 的研究热点. 经掺杂后的 ZO n 材料会表现出更优异的物理和化学性能 , , Z O中掺人 I, a 如 在 n n G 等元素能够提高 ZO的载流子浓 n 度 ; 掺人 N和 P 等元素能够使 Z O成为 P n 型导电材料 ; 掺入 A 等三价 元素能够制备出透明导 l 电薄膜 ; 掺人少量稀土元素能够提高 Z O的发光性能_ . n 1 尤其是在 Z O中掺人 N 等过渡金属元 n i 素不仅能够使 Z O成为稀磁半导体 , n 而且可 以除去 Z O中存 在的大量本征施 主缺 陷, n 进而制备 Z O基发光器件. i n L u等 在制备的 Z O:i n N 薄膜中观察到了位于3 5 m附近的近带边紫外发光发射, 7 n
《纳米材料科学导论》课程教学大纲
《纳米材料科学导论》课程教学大纲
课程代码:ABCL0409
课程中文名称:纳米材料科学导论
课程英文名称:Introduction to nanomaterials science
课程性质:选修
课程学分数:1.5
课程学时数:24
授课对象:材料化学专业
本课程的前导课程:大学物理、物理化学、材料科学基础等
一、课程简介
纳米材料学科是近年来兴起并受到普遍关注的一个新的科学领域,它涉及到凝聚态物理、化学、材料、生物等多种学科的知识,对凝聚态物理和材料学科产生了深远的影响。纳米材料科学导论以化学、化工、材料化学、高分子、应用化学、新能源材料与器件等专业对纳米材料感兴趣的高年级本科生为讲授对象,介绍纳米材料科学的基本知识体系。
二、教学基本内容和要求
本课程主要讲授纳米材料的基本概念与性质、制备纳米粒子的物理和化学方法、纳米薄膜材料、纳米固体材料、纳米复合材料等,其目的是使学生掌握各种纳米材料的性能和制备工艺,为正确选择各种纳米材料的制备工艺提供依据,同时也为研究新材料、新性能、新工艺打下理论基础。
第零章绪论
课程教学内容:纳米科技、纳米材料的概念与发展历史。
课程的重点、难点:纳米材料的概念是重点,难点是纳米材料的发展及纳米功能器件的制备。
课程教学要求:了解纳米科技的兴起、纳米材料的研究历史、纳米材料的主要研究内容、本课程的特点和学习方法。
第一章纳米材料的基本概念与性质
课程教学内容:纳米材料的基本概念,纳米微粒的基本性质,电子能级的不连续性,量子尺寸效应,小尺寸效应,表面效应,宏观量子隧道效应。纳米微粒的基本性质,纳米微粒的物理特性,纳米微粒的结构与形貌,纳米微粒的热学性质,纳米微粒的磁学性质,纳米微粒的光学性质。
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声学——声表面波滤波器,如ZnO、Ta2O5 热学——导热、隔热、耐热 机械——硬质、润滑、耐蚀、应变 有机、生物
1.2 薄膜材料的分类
按薄膜的功能及其应用领域大致可分类如下: (1)电学薄膜
①半导体器件与集成电路中使用的导电材料与介质 薄膜材料Al、Cr、Pt、Au、多晶硅、硅化物、 SiO2、Si3N4、Al2O3等的薄膜。 ②超导薄膜 特别是近年来国内外普遍重视的高温 超导薄膜,例如YBaCuO系稀土元素氧化物超导薄 膜以及BiSrCaCuO系和TlBaCuO系非稀土元素氧 化物超导薄膜。
③润滑膜 例如使用于真空、高温、低温、辐射等 特殊场合的MoS2、MoS2-Au、MoS2-Ni等固体润 滑膜和Au、Ag、Pb等软金属膜。
(4)有机分子薄膜
有机分子薄膜也称LB(Langmuir-Blodgett) 膜(朗缪尔-美国化学家,1881-1957), 它是有机物,如羧酸及其盐、脂肪酸烷基族 和染料、蛋白质等构成的分子薄膜,其厚度 可以是一个分子层的单分子膜,也可以是多 分子层叠加的多层分子膜。
⑥激光唱片与光盘中的光存储薄膜,如Te81Ge15S2Sb2硫 系半导体化合物薄膜、TbFeCo非晶膜。
⑦集成光学元件与光波导中所用的介质薄膜与半导体薄 膜。
(3)硬质膜、耐蚀膜、润滑膜
①硬质膜 用于工具、模具、量具、刀具表面的 TiN、TiC、TiB2、(Ti,Al)N、Ti(C,N)等硬 质膜,以及金刚石薄膜、C3N4薄膜和c-BN薄膜。 ②耐蚀膜 例如用于化工容器表面耐化学腐蚀的非 晶镍膜和非晶与微晶不锈钢膜;用于涡轮发动机叶 片表面抗热腐蚀的NiCrAlY膜等。
• 薄膜材料可用各种单质元素及无机化合物 或有机化合物来制作膜,也可用固体、液 体或气体物质来合成。薄膜与块状物体一 样,可以是单晶薄膜、多晶薄膜、微晶薄 膜、纳米晶薄膜、非晶薄膜、超晶格薄膜 等。
(2)薄膜材料科学与技术的研究内容
(a)如何使某一物质(可以是块状、液态等 物质)能成为薄膜形状?就是研究该材料 的制备工艺(合成)技术;
• 为提高薄膜的附着性能可以在薄膜与基体 之间加入一种另外的材料,组成中间过渡层。 如在Au-SiO2 之间沉积一层Ti 可以大大提 高薄膜的附着力; 在往单晶硅片上沉积Cu膜 前, 可先沉积一层薄的Cr层作为衬底, 可防 止Cu-Si反应并增强附着性。
• 清洁的衬底表面对于形成结合良好的薄膜十分重要,受污 染的衬底表面的吸附层,会破坏简单附着所需要的物理或 者化学结合力。
⑤薄膜电阻、薄膜电容、薄膜阻容网络与混合集成 电路
⑥薄膜太阳能电池 特别是非晶硅、CuInSe2和 CdSe薄膜太阳能电池。
⑦平板显示器件 液晶显示、等离子体显示和电致 发光显示三大类平板显示器件所用的透明电极 (氧化铟锡薄膜)。特别是薄膜电致发光屏是一 种多层功能薄膜(包括氧化铟锡透明导电膜, Y2O3、Ta2O5等介质膜,ZnS:Mn等发光膜,Al 电极膜等)组成的全固态平板显示器件。
• 采用各种PVD 法沉积薄膜时, 提高基体温度有利于薄膜和 基体原子的相互扩散, 而且会加速化学反应, 从而有利于形 成扩散附着和化学键附着力, 使附着性增加。
• 相对而言,荷能沉积,如离子束辅助蒸发、 磁控溅射、离子束溅射、激光蒸发等方法 获得的同种薄膜与衬底的结合力高于简单 热蒸发获得的薄膜。原因是荷能束有利于 去除衬底表面吸附层、活化衬底表面、促 进薄膜与衬底间的互扩散。
③光电子器件中使用的功能薄膜 特别是近年来 开发研究成功的GaAs/GaAlAs、HgTe/CdTe、aSi:H、a-SiGe:H、a-SiC:H、a-SiN:H、a-Si/a-SiC 等一系列晶态与非晶态超晶格薄膜。
④薄膜敏感元件与固态传感器 例如SnO2薄膜可 燃性气体传感器、ZrO2薄膜氧敏传感器、薄膜 应变电阻与压力传感器、Pt、Ni等金属薄膜与 Co-Mn-Ni等氧化物薄膜及SiC薄膜的热敏电 阻和Si3N4、Ta2O5薄膜的离子敏传感器等。
该基片和薄膜属于不同种物质,附着现象所考虑的对象是二 者间的边界和界面。
二者之间的相互作用就是附着能,附着能可看成是界面能的 一种。附着能对基片-薄膜间的距离微分,微分最大值就是 附着力。
•影响附着力的因素 主要有衬底材料的种类、衬底表面状态、衬底温度、沉积方式、沉积速
率、沉积气氛等。 衬底材料种类主要影响薄膜与衬底间的化学键。 不同的薄膜/衬底材料的组合对附着力有重要的影响。膜与基体之间的
1 薄膜的几种定义
一、定义1(狭义):
由单个的原子、离
Vacuum
子、原子团无规则地入
射到基板表面,经表面 Thin Film 附着、迁徙、凝结、成
核、核生长等过程而形
成的一薄层固态物质。
Atom Substrate
定义1的特点:
●强调了薄膜生长的机理与过程 ●仅仅适用于薄膜的气相生长方法,而不适用于液相法 ●也不能描述扩散、注入方法 ●强调了薄膜的生长必须依附基板
(5)装饰膜
(6)包装膜
1.3 薄膜材料的特殊性
(1)表面能级很大 由于薄膜表面积与体积之比很大,致使薄膜材料的 表面效应十分突出。 表面效应是指纳米粒子的表面原子数与总原子数之 比随粒子尺寸的减小而大幅度地增加(对于直径为 10nm的粒子,表面原子所占百分数为20%;直径为 1nm的粒子,表面原子所占百分数为100%),粒 子的表面能和表面张力随之增加,材料的光、电、 化学性质发生变化。
(b)研究该薄膜具有哪些新的特性(包括光、 热、电、磁、力等方面),研究这些特性 的物理本质;
(c)如何把这些薄膜材料应用于各个领域, 尤其是用于高新科技领域。
1.2 薄膜材料的分类
电学——超导、导电、半导体、电阻、绝缘、电介质 功能薄膜,如光电、压电、铁电、热释电、 磁敏、热敏、化学敏
光学——增透、反射、减反、光存储、红外 磁学——磁记录和磁头薄膜
⑧用ZnO、 Ta2O5 、AlN等薄膜制成的声表面滤波 器件。
⑨磁记录薄膜与薄膜磁头 如用于高质量录音和录 像的磁性材料薄膜录音带与录像带;用于计算机数 据储存的CoCrTa、CoCrNi等的薄膜软盘和硬盘; 用于垂直磁记录中FeSiAl薄膜磁头等。
⑩静电复印鼓用的Se-Te、SeTeAs合金膜及非晶硅 薄膜。
涂层
薄膜
厚膜
说明: 溶胶-凝胶(Sol-Gel)、金属有机物热分解 (MOD)、喷雾热解和喷雾水解等属于薄膜方法,
但从原理上更接近厚膜方法。
SAPPHIRE, Al2O3
Silicon-On-Sapphire Wafers
Substrate for III-V Nitride Epitaxy.
(2)薄膜和基片的粘附性
在薄膜材料中, 由于薄膜与基体材料属于完全不 同的材料, 因此就存在着薄膜材料与衬底之间的 附着力问题。例如, 磁控溅射沉积TiN 涂层是典 型的摩擦学涂层, 可显著改善被处理工件的耐磨 性, 而其中涂层和基体的界面结合强度是影响其 质量的最重要的一种因素。
• 基体的表面状态对附着力有很大影响。薄 膜之所以能附着在基体上, 是范德瓦尔斯力、 扩散附着、机械锁合、静电引力、化学键
(2)光学薄膜
①减反射膜 例如照相机、幻灯机、投影仪、电影 放映机、望远镜、瞄准镜以及各种光学仪器透镜和 棱镜上所镀的单层MgF2薄膜和双层或多层(SiO2、 ZrO2、Al2O3、TiO2等)薄膜组成的宽带减反射膜; 野视仪和红外设备的镜头上所用的ZnS、CeO2、 SiO、Y2O3等红外减反射膜。 ②反射膜 例如用于民用镜和太阳灶中抛物面太阳 能接收器的镀铝膜;用于大型天文仪器和精密光学 仪器中的镀膜反射镜;用于各类激光器的高反射率 的膜(反射率可达99%以上)等等。
第一章 薄膜及其特性
1.1 薄膜的概念
• (1)薄膜的定义
• 薄膜(thin film)是附着于基体上而与基体在组分或 结构上存在差异的物质,是不同于其它物态(气态、 液态、固体和等离子态)的一种新的凝聚态。顾名思 义,薄膜就是薄层材料。
• 薄膜材料是相对于体材料而言的,绝不是将块体材料 压薄而成的,而是通过特殊方法(如物理气相沉积 PVD、化学气相沉积CVD)制备的。人们常常是用 厚度对薄膜加以描述,通常是把膜层无基片 (substrate free)而能独立成形的厚度作为薄膜厚 度的一个大致的标准,规定其厚度约在1mm左右。
●强调制备方法; ——区分薄膜与厚膜,厚度不是区分的关键 通常厚度: 薄膜 < 1μm 厚膜>10μm
来自百度文库
●薄膜(thin film):由物理气相沉积(PVD)、化学 气相沉积(CVD)、溶液镀膜法等薄膜技术制备的薄 层。
●厚膜(thick film):由涂覆在基板表面的悬浮液、 膏状物经干燥、煅烧而形成。 主要方法:丝网印刷(Print)、热喷涂(Spray) 历史:陶瓷表面上釉
• 由于一般膜层都很薄, 所以基体表面的粗糙不平整会导致 难以形成均匀连续的膜层, 影响其性能。所以, 在镀膜前一 般要对基体进行机械抛光及严格的清洗, 去油、去污、去 氧化物等, 还可用超声波清洗以增加清洗效果。
• 较高的衬底温度有利于薄膜与衬底间的互扩散,形成牢固 的扩散附着。但是过高的衬底温度会造成薄膜晶粒粗大, 热应力增高,从其他方面劣化薄膜性能,需要做适当的取 舍。
• 这一厚度也是采用常规方法所制薄膜膜厚 的上限。随着科技工作的不断发展和深入, 薄膜领域也在不断扩展,不同的应用领域 对薄膜的厚度有不同要求。所以有时把厚 度为几十微米的膜层也称为薄膜。通常是 几个纳米到几十个微米,这也就是薄膜物 理所研究的范围。
• 它可以理解为气体薄膜,如吸附在固体表面 的气体薄膜。也可以理解为液体薄膜,如附 着在液体或固体表面的油膜。我们这里所指 的薄膜是固体薄膜(solid thin films),即使 是固体薄膜,也可以分为薄膜单体和附着在 某种基体上的另一种材料的固体薄膜,这里 所指的薄膜属后者。即附着于基体(又称衬 底)上而与基体在组分或结构等方面存在着 差异的薄层物质称为薄膜。
匹配性不好, 例如弹性模量或热膨胀系数差别过大, 会使膜层内应力过高 而引起脱落。 键合类型差别较大, 浸润性能较差的物质之间不易形成较强的键合, 比如 A元u素在之S间iO可2 以衬形底成上较的强附的着附力着就力较,差如。A互u 溶就性可好以或在可Cu以基形底成上界形面成化良合好物的的 附着。 如金和玻璃之间的结合力较差,是由于金的化学稳定性强,不能与玻璃 间形成氧化物结合,而和铂、镍、铬、钛等金属之间可以形成金属键, 附着力良好,因此可以首先在玻璃表面镀制铬等薄膜作为中间层以增强 附着力。所以选择合适的衬底材料或者在衬底表面形成中间层,有助于 获得附着牢固的薄膜。
二、定义2(广义):
夹在两个平行平面间的薄层。 上平面:空气 固体膜、液体膜
下平面:固体表面、液体表面、空气
缺点:不能区分薄膜、厚膜、涂层、金属箔、层等概念。 thick film coating foil layer
三、定义3:
采用特定的制备方法在基板表面上生长得到的 一薄层固态物质 。
●强调基板必不可少; ——区分薄膜与金属箔、塑料薄膜
力等的综合作用。基体表面的不清洁将使 薄膜不能和基体直接接触, 范德瓦尔力大大 减弱, 扩散附着也不可能, 会使附着性能极 差。
附着:既然薄膜是在基片之上生成的,基片和薄膜之间就会 存在着一定的相互作用。这种相互作用通常的表现形式是附 着(adhesion)。
薄膜的一个面附着在基片上并受到约束作用,因此薄膜内容 易产生应变。若考虑与薄膜面垂直的任一断面,断面两侧就 会产生相互作用力,这种相互作用力称为内应力(internal stress)。附着和内应力是薄膜极为重要的固有特征。
③分光镜和滤光片 例如彩色扩印与放大设备中所用红、 绿、蓝三原色滤光片上镀的多层膜。
④照明光源中所用的反热镜与冷光镜薄膜。
⑤建筑物、汽车等交通工具所用的镀膜玻璃 包括用于热 带地区的太阳能控制膜(Cr、Ti、不锈钢、Ag等)和用 于寒带地区的低辐射率薄膜(TiO2-Ag-TiO2、ITO膜 等)。