单晶硅游离磨粒线切割技术研究
切割速度曲线对硅片翘曲度的影响
变速切割速度曲线对硅片翘曲度的影响马玉通(中国电子科技集团公司第四十六研究所天津300220)摘要:根据线切割机的工作原理,综合考虑了砂浆中磨料在磨削过程中的变化以及单晶直径的变化,确定了变速切割的工艺方法,同时考虑到5英寸单晶直径大,SiC磨削路线长,磨削发热量大,制定了包括线速度、耗线量、砂浆温度、砂浆流量以及各部分温度的工艺参数。
通过该工艺参数进行了切割实验,验证了该工艺参数下切割的晶片可以满足要求。
关键词:线切割;翘曲度;切割速度Effect of Slicing Speed Graphs on Warp of Silicon Sliced Wafers in Multi-Wire SlicingMa Yu-tong(46th Research Institute, Chinese Electronics and Technology GroupCompany,Tianjin,300220)Abstract:As the theory of the multi-wire slicing process, the silicon ingot would move down whilethe wire kept the same horizontal position during the slicing process, so the slicing speed would be changed with the relation between the wire and the ingot. With the diameter of the silicon ingot increased, the quantity of heat would be remarkably increased, so the slicing process would be determined including the wire speed, the abrasive temperature, the abrasive flow and the unit temperature. The article was addressed on the effect of the slicing speed graphs on warp of the silicon sliced wafers in the multi-wire slicing.Keywords:multi-wire slicing, warp, slicing speed1 引言随着IC制造技术的突飞猛进,硅底衬片几何参数对IC制造过程中的经济效益的发挥影响愈发明显。
金刚线切割单晶硅片工艺技术理论研究
金刚线切割单晶硅片工艺技术理论研究摘要:随着国内金刚线制造和应用技术的不断成熟,加之市场需求的快速增长不断的刺激金刚线制造技术发展迅速,金刚线切割工艺已成为行业内硅片制造技术发展趋势[1]。
如何通过有效的切割技术及现场控制,降低金刚线切割生产成本,就是硅片制造技术需要研究的重要方向。
本文主要针对金刚线切割技术及过程中切割异常分析进行分析。
关键词:金刚线细线切割;排线拉斜;排线间距1.引言目前光伏企业发展以“降本增效”为主旋律。
如何提高太阳能硅片切割效率、降低单片耗线成为近几年关注的问题。
影响硅片切割质量的因素主要有:金刚线品质、所用主辊(切割辅材)刻槽工艺、切割设备性能的稳定性、减少硅片切割单端钢线磨损度、控制硅片切割质量、降低切割异常。
2.金刚线切割技术的发展对于硅片切割来说,切片的加工技术和加工方式将对加工的质量和速度产生关键的影响。
因此,对于硅片加工工艺的基本原则是:成型精度高,平面度高,制件翘曲值低和厚度精度高[2];切割断面保证完整;提高加工效率,避免材料损耗。
在硅片切割技术中,多线切割技术以其生产量高,硅片直径适用范围广,翘曲值低,表面损伤浅,表面光洁度低等多项优势被广泛应用。
硅片多线切割技术包括砂浆切割工艺和金刚石线切割工艺。
3.金刚线切割种类及不同切割工艺简介3.1硅片切割种类、切割耗材的不同,可分为两类:a.砂浆切割技术。
砂浆切割方式是以游离式的切割模式,靠悬浮液的炫富碳化硅,再通过线网的带动,进行磨削切割。
其切割方式见图1。
图1 砂浆切割方式砂浆切割工艺是一种游离式切割方式。
该工艺以结构线为基体,莫氏硬度为9.5 的碳化硅( SiC)作为切割刃料,结构线在高速运动过程中带动切割液和碳化硅混合的砂浆进行摩擦,利用碳化硅的研磨作用达到切割效果。
随着国内光伏产业规模的扩张以及带来的利润降低,通过降低生产成本、提高生产效率来维持企业竞争力势在必行。
在过去的三到五年内,主要通过对切割砂浆的技术改进来实现成本的控制,但目前已无法实现进一步降本。
《单晶硅各向异性超精密切削仿真与实验研究》范文
《单晶硅各向异性超精密切削仿真与实验研究》篇一一、引言随着科技的发展,单晶硅作为现代电子器件的重要材料,其加工精度和表面质量的要求日益提高。
单晶硅的各向异性特性使得其切削过程具有复杂性和特殊性,因此,对单晶硅的切削仿真与实验研究显得尤为重要。
本文旨在通过仿真与实验相结合的方法,研究单晶硅各向异性的超精密切削过程,以期为实际生产提供理论依据和指导。
二、单晶硅的特性和切削过程分析单晶硅作为一种硬脆性材料,具有较高的硬度和较低的断裂韧性。
在切削过程中,单晶硅表现出显著的各向异性特点,不同方向的切削性能差异较大。
同时,超精密切削对刀具、工艺和设备等都有较高要求。
因此,深入研究单晶硅的各向异性超精密切削过程,对于提高切削效率和加工质量具有重要意义。
三、仿真研究(一)仿真模型建立本文采用有限元法建立单晶硅切削过程的仿真模型。
首先,根据单晶硅的物理性质和力学性能,设置材料参数。
其次,建立刀具与工件的相对运动模型,以及切削过程中的热力耦合模型。
最后,通过仿真软件对模型进行求解,得到切削过程中的应力、应变和温度等参数。
(二)仿真结果分析通过仿真研究,我们发现在单晶硅的切削过程中,不同方向的切削力、切削温度和表面形貌等均存在显著差异。
此外,切削速度、进给量和切削深度等工艺参数对切削过程的影响也较为明显。
这些结果为后续的实验研究提供了重要依据。
四、实验研究(一)实验设备与材料实验采用单晶硅材料,通过精密加工设备进行切削实验。
同时,我们还采用高速摄像机、表面轮廓仪等设备对切削过程中的表面形貌、切削力等进行实时监测和记录。
(二)实验方案与步骤根据仿真结果,我们设计了不同的切削工艺参数进行实验研究。
实验过程中,我们首先进行预处理,包括工件夹持、刀具准备等。
然后进行正式的切削实验,并记录相关数据。
最后对实验结果进行分析和比较。
(三)实验结果与讨论通过实验研究,我们得到了不同工艺参数下单晶硅的切削力、切削温度和表面形貌等数据。
游离磨粒超精加工机理和应用
游离磨粒超精加工机理和应用连峰(大连海事大学机电与材料工程学院,大连116026)摘要:利用游离磨粒进行超精密加工,可获得高的表面质量和小的加工损伤层,因此被广泛应用,且衍生出较多的加工方法。
从去除材料的机理角度,将游离磨粒超精加工分为:通过被加工材料的变形去除材料;通过磨粒与被加工材料的化学反应去除材料;通过加工液与被加工材料的化学反应去除材料。
并对各种材料去除机理相对应的典型加工方法进行了综述。
关键词:磨粒;超精加工;去除材料;变形;化学反应中图分类号:TH16 文献标识码:A 文章编号:1671 3133(2009)09 0146 06M echanis m and application of ultra-precisionmachi ni ng usi ng loose abrasive grai nsLI A N Feng(Co llege of E lectro m echanics and M ateria ls Eng ineeri n g,Dalian M ariti m e University,Dalian116026,L i a on i n g,C HN)Ab stract:T he s u rface pro cessed in the contex t o f u ltra-prec isi on using loose abrasive gra i ns are w ith h i gher qua lit y and s m a ller dam age,thus t he u ltra-prec isi on m ach i n i ng usi ng loose ab rasive g ra i n has been w i de l y used and induced many re lated processi ng m e t hods.H ow ev er,the m echanis m of t hese processi ng me t hods is no t c l ear.F rom the perspec tive of t he mechan i s m of m ater i a l re m ova,l div i des the ultra-precision m achi n i ng using l oose abrasi ve gra i ns i nto several categor i es.They are m et hod o f process-i ng through t he m a teria l defor m ation, m ethod o f processing t hrough the che m ica l reacti ons of abrasi ve g ra i ns and t he m ateria,l m e t hod o f process i ng through the che m ical reacti ons o fm achi n i ng fl u i d and the m ate ria.l A nd f urther rev ie w s the m ater i a l re-m ova lm echan is m co rrespondi ng t o each process i ng m ethod.K ey w ords:l oose abrasi ve gra i ns;u ltra-prec isi on m ach i n i ng;m ater i a l re m ov a;l defor m a tion;chem ical reacti on随着航空航天、高精密仪器仪表、光学和激光等技术的迅速发展和多领域的广泛应用,对各种高精度复杂零件、光学零件、高精度平面、曲面和复杂形状的加工需求日益迫切。
游离磨粒加工技术的研究现状及发展
体 。在受磁 场作用时 , 由于磁 性流体 中铁氧体 的强磁 粒法 向载荷能 划伤]件表面 , 变抛光依靠剪切模 : 磁流 性微细粒子 的作用 , 流体 显示出被吸 向高 磁场一 式 去除材料 , 磁性 磨粒在法 向方 向不受任何 力的作用 。 侧的性质 。如果 在磁性流体 中存有非 磁性体 , 在受磁
过楔形 间隙 , 这种抛光液在 接触区产生剪切压力并 去 除 工件表 面材 料。 由于去 除率和 流体 粘度有 关 ,因此 去除率是 很 稳定 的。通过 监测 和控制使 流体 粘度保 持在 ±%以 l 内。通过 改变砂 轮速度 , 在磁 流体中位置和 磁场 零件 强度来调 整去除率 , 产生光 滑无损伤表面 的同时得 到 相对较高 的稳定 的材料去除率 。不 同于传 统抛光 , 磨
场作 用时 , 磁性体 则与磁性 流体相 反 , 非 产生趋 向低 磁场— 0 象。 的现 研磨加 工通 常使用 的磨粒 是非磁性 体的 。 用这种磁 力悬 浮现象进行的研磨就 是磁力悬 应 压碎 , 研磨效率基 本上不变。 持续一段 时间后 , 由于磨 浮研磨法 。 它有 以下 几个托 : 由于磁悬浮力 的作 用 , 粒愈益细 化 , 具与工件 之间的 间隙变窄 , 屑堵 塞 使作用于研磨 面的磨粒数量增多 ; 研 切 由于磨粒 由流体支 于磨 粒之 间的缝隙 , 研磨效 率急剧 下降 , 工件 表面变 承 , 因此磨粒 的支承富有弹性 。 另外 , 加工压力是 由磁
得非 常光滑。
悬 浮力所赋予 , 作用于每个磨粒 的加工压力与磨 粒 故 抛 光也和研磨一 样 ,是将研 磨剂擦 抹在抛 光器 的数量无 关 ; 由于磁性 流体 的热 传导 率很大 , 可 因此 上 对丁件进行抛光加工 。 是, 但 抛光使用 的磨 粒是 I 以控制加 工点 的温升 ; 越接 近磁铁 , 作用 于磨粒 的磁 以下 的微细磨粒 , 而抛光器 则需使用沥青 、 石蜡 、 合成 悬 浮力越大 。因此 , 对工件形状还有 修正效果 。 树脂 和人造 革等软质材料制成 , 即使抛光硬脆材料 也 簖 垃光整加工 能加1 出一点裂纹也没有 的镜面 。 二 所 谓磁粒光 整加工 ( ant baieFns— M g ecA rs ii i v h 2 2浴法抛光 ig简 称 MA ) n, F , 利用磁 场通过 强磁 性介 质产 生 就是 浴法 抛光 ( o l e d P l hn ) B w - e o sig 早在 六 十年代 的磁 作用力作用到磁粒上 , F i 使磁粒对工 件进 行微切 削 就 已出现 , 当时美 国为发展 深紫外 波段 的光 学 , 要 加工 的方法。图 2 需 为圆柱表 面磁 粒光整加 工原理图 , 平面度 和粗糙 度很好的光学元件 。 采用这种方法在熔 将 工件放 置在 由电 磁铁 N极和 S极构 成 的磁场 中 ,
硅单晶切割的初步探索
d wDE T硅单晶棒主轴旋转刀刃径向进给1概述随着全球经济的发展,世界各国都倡导节能环保、在此大环境下,近些年半导体产业飞速发展,从而对硅材料的需求量大幅增长,硅片市场在供需两端逐渐呈现出不平衡的态势。
硅片的切割加工效率、表面切割质量和切割最大尺寸以及后续加工等因素对硅片的加工生产起着制约作用,而我国急需突破这一制约。
硅片切割的主要方法是外圆切割、内圆切割和线切割和电火花切割切割等。
外圆切割和内圆切割发展较早,在瑞士、德国、日本、美国等发达国家已生产出先进的加工设备应用于生产加工中,与此同时,电火花近年的发展也相当不错,已达到很高的工艺水平,根据其加工特点应该能加工出更薄的硅片。
从近几十年发展的多线切割也逐步显示其优越的加工优势,能切割大直径硅片、提高切片生产效率、适用于大批量的硅片切割,本文将对这四种切割方式和加工工艺进行论述。
2外圆切割外圆切割是早期最常见的切割方式。
因为硅单晶与金刚石晶格相似,晶体不仅脆而且硬,普通的加工工具根本无法完成,于是便采用了金刚石磨粒来完成切割加工。
因为金刚石在各方面的因素比较合适,比如硬度、耐磨性、抗压强度、热导率、摩擦系数等方面,并且夹具比较容易生产,切割速度快,所以早期应用较广。
此工艺与砂轮外圆磨削类似,把薄的金刚石锯片夹持在主轴上,经主轴高速旋转利用外径上的金刚石磨粒来完成加工。
如图1所示。
外圆切割工作原理是通过主轴的高速旋转带动锯片从而切割,虽然不仅可以单刀而且采用多刀来提高效率,但其切割质量不高。
所以,就目前而言,在硅片切割中,外圆切割方法采用较少,其主要的适用于定向切割晶向偏转大的长晶体及整形切割大尺寸材料[1]。
3内圆切割内圆切割与外圆切割原理相似,其区别在于锯片的固定位置不同,内圆切割机是将内圆锯片的外缘部分固定在鼓型旋转体上,如图2,图3所示,然后用机械张紧力来张紧外圆,给内圆均匀的张紧力来维持内圆圆度。
切割时,刀片在主轴的带动下高速旋转,同时沿工件直径方向进给来完成切割。
单晶硅的磨削辅助电火花线切割机理研究
单晶硅的磨削辅助电火花线切割机理研究
贾祯;李淑娟;麻高领;邵伟;乔畅;张晨
【期刊名称】《中国机械工程》
【年(卷),期】2022(33)20
【摘要】针对目前磨削辅助电火花线切割(A-WEDM)微观切割机理尚不明确的问题,以单晶硅为加工对象,通过设计电路对最大放电间隙进行了测量。
通过采集和分析加工中的放电波形、观测加工后工件表面形貌同时比较磨粒出刃高度与放电间隙的大小,研究了A-WEDM材料去除机理。
考察了4个因素(脉冲宽度、占空比、进给速度和线锯速度)对A-WEDM切割单晶硅的材料去除率和表面粗糙度的影响。
实验结果表明,A-WEDM切割单晶硅的最大放电间隙为57μm,在加工的初始阶段先产生放电腐蚀作用;当加工处于稳定阶段时,在每个脉冲宽度内,工件材料在放电腐蚀与金刚石颗粒磨削的耦合作用下被去除;而在每个脉冲间隔内,放电腐蚀作用停止,金刚石颗粒的磨削作用仍然存在,从而去除了放电产生的部分重铸层与电蚀坑。
【总页数】10页(P2459-2467)
【作者】贾祯;李淑娟;麻高领;邵伟;乔畅;张晨
【作者单位】西安理工大学机械与精密仪器工程学院
【正文语种】中文
【中图分类】TG661
【相关文献】
1.单晶硅高速走丝电火花线切割试验研究
2.电火花线切割单晶硅变质层与裂纹分析
3.单晶硅的电火花线切割过程建模与优化研究
4.单晶硅电火花铣削维持电压测定及蚀除机理研究
5.基于响应曲面法与改进非支配遗传算法电火花线切割单晶硅工艺优化
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游离磨料线切割硅晶体中的磨粒力学行为研究综述
a r sv rtit h i c n c sa ,h d o y a c mo e f r lig a r sv n t e su r n h p eo ma in b a ie gi n o t e sl o r t l y rd n mi d lo oln b a i e i h l ry a d c i d f r to i y
M e h nis r s a c i a a i e b ha i r e s n c a c e e r h O l br sv e v o s wh n u i g
f e - b a i e wie s w o i c n c y t lsii g r e a r sv r a f r sl o r sa l n i c
s wi g mo e .Be i e ,Th ril e e aie h c a is smulto n x rme tlr s a e n t i e d a n d1 sd s e atc e g n rlz s t e me h n c i ain a d e pei n a e e rh i h sf l i
Di n W ei n ng Yi Xi
( aut o ca i l n l t nc n i ei F cl Meh nc dEe r i E gn r g, yf aa co e n
G a g og U i r t o cnl y u n zo 1 0 6, hn ) u n d n nv sy f T h o g ,G a gh u5 0 C ia e i e o 0
验 研 究方 面对磨 粒 的加 工状 态和锯切 力研 究进 行 了总 结 。本 文 的研 究成 果 对 于推 动 游 离磨料 线 切 割技
单晶硅游离磨粒线切割技术研究
高的要求 。
半导体硅晶圆的加工是集成电路制造中的重要
环节 ,而有效的硅片切割技术是获得高面型精度和 表面质量硅晶圆的基本保证 。采用传统的金刚石内
圆切割时 ,随着晶圆直径的不断增大 ,刀片的基体厚 度 、刃口厚度以及刀片张紧难度随之增加 ,切割时切 口材料损耗和刀片磨耗增加 、硅片质量下降 ,难以进 行大直径晶片的切割 。游离磨料多线切割技术始于
院 ,333001 江西省景德镇 First Author :Chen Tao ,Master ,College of Mechanical & Elec2
trical Engineering ,Jingdezhen Ceramic Institute ,Jingdezhen ,Jiangxi 333001 ,China
5 结语
叶片加工过程中 ,随着材料的去除 ,整个工艺系 统的刚度和阻尼发生变化 ,从而导致叶片的模态频 率不断降低 ,同时阻尼比也不断降低 。
研究加工过程中的模态变化对于薄壁悬臂零件
———叶片而言非常重要 ,尤其是在采用高速加工工 艺进行叶片加工时 ,随着材料的不断去除 ,更需要对 模态的变化进行研究 ,从而有针对性的采取综合措 施 ,使得加工激励避开产品的共振区域 ,保证产品的 加工质量 。
Keywords :free abrasive slicing technology using wiresaw , sawing wire , single silicon crystal
1 引言
随着半导体技术的快速发展 ,为了增加芯片产
3 广东省自然科学基金资助项目 (项目编号. :5001807) 广东省科技计划资助项目 (项目编号 :2005B10201019) 收稿日期 :2008 年 6 月
不同接触尺度下单晶硅的摩擦磨损性能研究的开题报告
不同接触尺度下单晶硅的摩擦磨损性能研究的开题
报告
摩擦磨损是现代工程领域中一个普遍的问题,对于单晶硅材料具有重要意义。
单晶硅是目前半导体微电子行业广泛使用的材料,其性能对微电子器件的制造和性能有很大的影响,因此研究单晶硅的摩擦磨损性能对于提高微电子器件的稳定性和寿命具有重要的实际应用价值。
本课题旨在研究不同接触尺度下单晶硅的摩擦磨损性能,并探讨其结构特性和力学性能。
具体研究内容如下:
1. 研究不同接触尺度下单晶硅的摩擦磨损行为
通过设计不同接触点的装置,控制摩擦负荷、滑动速度等参数,研究单晶硅在微观尺度下的摩擦磨损行为,从而探究其微观机制。
2. 探究单晶硅结构特性对摩擦磨损性能的影响
通过对单晶硅材料的晶格结构、缺陷分布等进行分析,探究单晶硅结构特性对摩擦磨损性能的影响,并分析这种影响机制。
3. 研究单晶硅力学性能对摩擦磨损的响应
通过对单晶硅力学性能的测试和分析,探究单晶硅在不同摩擦磨损状态下的力学响应特性,并研究其与结构特性之间的联系。
4. 建立单晶硅摩擦磨损的理论模型
基于实验结果,建立单晶硅摩擦磨损的理论模型,以提高对单晶硅摩擦磨损行为的理解和预测能力。
本研究将为深入理解单晶硅材料摩擦磨损的机理,进一步提高微电子器件的稳定性和寿命提供科学依据和技术支持。
单晶硅自由磨料线锯切片过程中的流体动压效应
H y o y m i to n t e Fr e Ab a i e M o o r s a ln dr d na c Ac i n i h e r sv n c y t li e S lc n S i i g Usn i e a i o l n i g a W r s w i c
桑
{ }
波
葛培琪
候志坚
高玉飞
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( 东 大学 机 械 工 程 学 院 山 东 济 南 2 06 ) 山 50 1
摘要 :基于流体动压理论 ,研究了单晶硅 自由磨料线锯切片过程中的流体动压效应。通过 自柔顺系数来体现锯丝各
节点 受 径 向力 作用 下 所 产生 位 移 的差 异 ,并 以此 建立 了油膜 厚 度 方程 。运 用 有 限差 分 法求 解 二维 R yo s en l 方程 ,得 到 了 d
S n o Ge P ii H UZ i n Ga ue a gB eq O h i j a oY fi
(h c ol f ca i l nier gS a dn nvri , nnS ad n 50 1 C ia T eSho o Mehnc g ei ,hn ogU ie t J a h n og 0 6 , hn ) aE
硅片为衬底 的 I C集成 度越来 越 高 ,目前正 进入甚 大 规模集 成 电路 ( L I U S )时代 ,与之相 应 的单 晶硅 片 直径也越来越 大 ,目前 已达到 30 ml 0 i,预计 到 20 l 08 年可望达到 40 ml 5 i…。线锯 切片技 术 由于能够 满足 l
维普资讯
20 0 6年 l 0月
润滑与密封
L UBRI CATI ON ENGI NEERI NG
游离磨粒线切割硅片过程切割线张紧力及线磨损机理研究
游离磨粒线切割硅片过程切割线张紧力及线磨损机理研究广东工业大学硕士学位论文游离磨粒线切割硅片过程切割线张紧力及线磨损机理研究姓名:***申请学位级别:硕士专业:机械制造及自动化指导教师:***20090601第一章绪论虑多磨粒对工件压痕和接触效应的影响,仿真分析了游离磨粒多磨粒压痕效应。
该模拟分析假定磨粒具有一个相当锐利的圆锥形刃尖,在工件加工表面上产生一个0.2p.m的压痕,并认为游离磨粒线切割过程中材料的接触效应主要受压痕载荷、压痕间距两个参数影响。
研究结果发现,在一定的压入深度条件下,磨粒滚动压痕载荷与磨粒间距成正比例关系(见图1—7),并且:(1)磨粒压痕间距减小,压痕载荷增大,滚动压痕深度会加深(见图卜8),材料去除量从而增加;(2)磨粒压痕间距减小,卸载后工件表面的弹性恢复率提高,加工表面的横向裂纹扩展加剧,材料去除率从而提高;(3)磨粒压痕间距减小,加工表面的凹坑数目增加,磨粒与工件表面间的摩擦减少,切割效率提高。
图1-7压深与载荷睦线伽Fig.1-7Load-depthcurvefordifferentspacings‘引1.2.1.3弹性一流体动压效应模型图1-8间距与压深曲线阳1Fig.1-8Indentationprofilesfordifferentspacings‘耵M.Bhagavatt¨们等人应用有限元方法对游离磨粒线切割晶片过程中的流体动压效应进行分析,给出切割区流体动压力和膜厚分布曲线图。
研究结果表明,加工区域具有切割线进口油膜压力大于出口油膜压力,线接触处油膜中间薄、两边厚的分布特点,并指出油膜厚度随走丝速度和切割液粘度增大而增加,随切割线弓角增大而减小;油膜压力随走丝速度和切割液粘度增大而减小,随切割线弓角增大而增大。
磨粒悬浮于切割液中,材料去除是靠油膜压力和切割线运动共同促使磨粒在/JnT表面滚压——嵌入作用实现的。
在油膜厚度适中和走丝速度尽可能高(15m/s左右)的条件下,控制切割线弓角在4---6。
向游离磨料砂浆切割工艺
向游离磨料砂浆切割工艺
游离磨料砂浆切割工艺是一种常用于混凝土、砖石、石材等材料切割的高效工艺,它采用了游离磨料作为砂浆的主要切割工具,具有切割速度快、效率高、切割面光滑等特点。
该工艺可广泛应用于建筑、装饰、石材加工等领域。
游离磨料切割工艺的核心是磨料与材料的磨损作用。
磨料在高速旋转的情况下与材料表面磨擦,形成高温和高压区域,使材料表面产生热熔和变形,最终被切割。
因此,游离磨料砂浆切割工艺的效率和质量与磨料的选择、砂浆的制备、切割参数的控制等因素密切相关。
在磨料的选择方面,应根据材料的性质和切割要求来选用适当的磨料。
一般而言,直径较大的磨料适用于切割较硬的材料,直径较小的磨料适用于切割较软的材料。
同时,应注意磨料的硬度、形状、密度等因素的影响,以获得最佳的切割效果。
在砂浆的制备方面,应根据磨料的特点和切割要求来制备具有适当硬度和粘着力的砂浆。
一般而言,砂浆的硬度与磨料的硬度相对应,粘着力则应根据材料的性质和切割方式来选择。
在切割参数的控制方面,应根据材料的性质、磨料的特点和切割要求来调整磨料转速、砂浆流量、切割压力等参数,以获得最佳的切割效果。
总之,游离磨料砂浆切割工艺具有广泛的应用前景和发展潜力,在实际应用中应注意磨料、砂浆和切割参数的选择和控制,以
获得最佳的切割效果。
游离磨料线切割硅晶体中的磨粒力学行为研究综述
2011年2月 第1期第31卷 总第181期金刚石与磨料磨具工程D ia m ond&A brasives Eng i nee ri ngFeb.2011N o.1 V o.l31 Seria.l181文章编号:1006-852X(2011)06-0047-06游离磨料线切割硅晶体中的磨粒力学行为研究综述*丁 寅 魏 昕(广东工业大学机电工程学院,广州510006)摘要 游离磨料线切割具有切割效率高、切口材料损耗小、表面损伤程度浅、厚度小、切割噪声小等优点而广泛应用于半导体和光伏产业。
本文阐述了游离磨料线切割的原理,对游离磨料线切割过程中磨粒力学行为的理论模型研究进行了综述,主要包括磨粒压入力学模型、流体动压滚动力学模型、切削变形力学模型。
此外,还从多磨粒的压入效应、切割液的运动方式上对加工中磨粒力学行为仿真进行了归纳,在实验研究方面对磨粒的加工状态和锯切力研究进行了总结。
本文的研究成果对于推动游离磨料线切割技术的深入研究和推广应用具有较好的参考意义。
关键词 游离磨料,线切割,力学行为,硅片加工中图分类号 TG66 文献标识码 A DO I编码 10.3969/.j issn.1006-852X.2011.01.012M echanics research on abrasive behaviors when usi ngfree abrasi ve w ire sa w for silicon crystal slici ngD ing Y i n We i Xi n(Faculty of M echanical and E lectronic Engineering,Guangdong University of T echnology,Guangzhou510006,China)Abstract The free abrasi v e slic i n g techno l o gy is w ide l y used in se m iconductor and photovo ltaic i n dustr y because of its h i g h pr oduction,l o w kerf loss,lo w substrate da m age for producing very th i n w afers fro m lar ge silicon crystals.This article i n troduces the pri n ciple of the w ire sa w i n g techno logy and summ arizes the theory research stat u s o fm echanics behav i o r of the abrasi v e grits during free abrasive slicing,i n cluding indenting model of si n g le abrasive grit i n to the silicon crysta,l hydrodyna m ic model of rolli n g abrasi v e i n the sl u rry and ch i p defor m ati o n sa w ing mode.l Besi d es,The article generalizes the m echan ics si m ulation and experi m ental research i n th is field.The si m u lati o n reasearch is focused on the effect of m ultiple si m ultaneous i n dentati o n and the sl u rry m ode of m otion,wh ile the experi m ents research is focused on t h e abrasi v e m achi n i n g status and the c utti n g forces.The research resu lts are of so m e sign ificant reference to the further research and application o f the techno logy.Keywords free abrasi v e;w ire sa w ing;m echn ical behav iors;silicon wa fer m anufacturi n g*国家自然科学基金项目(NO.U0734008)广东省自然科学基金项目(No.815009001000048,No.10151009001000036);广东省科技计划项目(N o.2005B10201019)资助金刚石与磨料磨具工程总第181期0 引言半导体和光伏产业特别是太阳能电池行业的高速发展,使硅片朝着大径化、薄片化方向发展(见表1)[1],对大直径硅片的切割精度、切割质量和生产成本要求也越来越高。
单晶硅线切割技术及切削液的分析研究
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直径 15 ) 7 u 怎样从一 m 图1 是线切割技术工艺过程的示意图, 图中示意了一根单线 ( 载线器”的一种储线设备 个线轮到另一个线轮缠绕的情况。在中间部分,切割线从称为 “
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20 年 1 月 05 1
第十四届全国半导体集成电路、 硅材料学术会议
破损 。
()冷却作用 2 切削剂的冷却作用是通过液体气化的对流, 汽化将切削产生的热量迅速从切削区带走 来实现的。从对切削冷却过程试验发现, 冷却效果与切削剂的导热系数, 汽化所吸收的热 量、比热、 汽化速度、液体流量、流速等密切有关。 而流速与液体粘度、压力有关。由于 水的导热系数和比热大、流速快、汽化吸收的热量多 ( 见表 10 ) 表 1水基类 油类性质的对 比表
需定期更换线锯及排线轮。
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现在的线切割设备可以 在从四个方向同时加工四根硅棒。 这样相比于内径切割, 线切 害技术大大提高了生产量。由于切割线很细,因此使用线切割所造成的切削损耗很小。 J 此 外,线切割非常适用于未来的大直径硅片加工,因为,线切割的加工能力对硅棒直径要求 的限制不是很明显,而仅取决于切割线网及整个传导系统中导线轴的间距。 线切割的成功率要求很高, 一旦发生断线, 会浪费整根单晶硅棒。 且线切割成本较高,
li t nl y in e c o n Su y w i e一aw sc g h o g ad td o r s n sc g ifr cn li f d si in l o i o u l
单晶硅片的电化学-固结-游离磨料复合加工表面完整性
单晶硅片的电化学-固结-游离磨料复合加工表面完整性
黄宸;黄丹丹;王剑;孙业荣;鲍官培
【期刊名称】《半导体技术》
【年(卷),期】2024(49)6
【摘要】为解决金刚线固结磨料切割硅片中表面线痕较深等问题,提出了电化学-固结-游离磨料复合加工技术。
通过实验对比固结磨料线锯切割和复合切割后硅片的表面形貌、表面平均粗糙度(Ra)和表面平整度(即总厚度变化(TTV)),评估复合加工对单晶硅片切割质量的影响。
实验结果表明,复合加工技术的固结磨料刻滑-游离磨料剥落-电化学氧化材料去除复合机制使硅片表面的线痕明显减少。
Ra和TTV也得到了明显改善,表面粗糙度曲线峰谷差从12.09μm降至4.21μm,Ra从1.20μm 降至0.65μm,TTV从8.24μm降至6.46μm。
基于本实验系统进一步开展电参数对比实验得出复合加工的最优电压为20 V。
该复合加工方法能够有效改善切割硅片的表面质量,降低后续制绒工序的减薄量,进而降低生产成本。
【总页数】7页(P549-554)
【作者】黄宸;黄丹丹;王剑;孙业荣;鲍官培
【作者单位】安徽科技学院机械工程学院
【正文语种】中文
【中图分类】TN305.1
【相关文献】
1.固结磨料加工硅片的技术进展
2.游离磨料和固结磨料研磨后亚表面裂纹层深度研究
3.低电阻率单晶硅电火花/电解复合切割加工表面完整性研究
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5.太阳能硅片游离磨料电解磨削多线切割表面完整性研究
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游离磨料多股线线锯切割实验研究
游离磨料多股线线锯切割实验研究王金生;姚春燕;彭伟;金鑫;陈世杰【摘要】游离磨料线锯切割是将磨浆中的磨粒通过一定速度的细钢丝线带入切割区域,达到去除工件材料的目的.多股线由多根细金属线绕制而成,表面具有很多凹槽,与钢丝线光滑表面相比,可以输送更多的磨粒进入切割区域,从而提高切割效率.应用矱0.25 mm的多股线和矱0.25 mm的钢丝线对光学玻璃K9进行切割对比实验,结果表明,在相同工艺条件下,多股线的切割效率和表面粗糙度均优于钢丝线,但切缝宽度大于钢丝线.【期刊名称】《中国工程科学》【年(卷),期】2012(000)011【总页数】5页(P94-98)【关键词】线锯;游离磨料加工;切割效率【作者】王金生;姚春燕;彭伟;金鑫;陈世杰【作者单位】浙江工业大学机械制造及自动化教育部重点实验室,杭州 310032;浙江工业大学机械制造及自动化教育部重点实验室,杭州 310032;浙江工业大学机械制造及自动化教育部重点实验室,杭州 310032;浙江工业大学机械制造及自动化教育部重点实验室,杭州 310032;浙江工业大学机械制造及自动化教育部重点实验室,杭州 310032【正文语种】中文【中图分类】TQ1641 前言目前,游离磨料线锯切割技术广泛应用于半导体材料的切割,尤其在光伏和微电子工业上。
它是将一根钢丝线绕在具有张紧力的装置上,然后来回绕过带有凹槽的导轮,形成一排线网,在导轮带动下,以几米或十几米每秒的速度将含有SiC磨粒的浆料带入工件切割区域,从而产生切割作用[1,2],其原理如图1所示。
图1 游离磨料多线切割原理图Fig.1 Schematic of multi-wires sawing大多学者都认为游离磨料线锯切割的机理是“滚压”去除,如 Kao等学者[3,4]认为磨料线锯切割过程构成一个三体磨粒磨损环境,磨粒作为第三体,在锯丝的作用下对工件表面产生“滚压”作用,从而去除工件材料。
Mölle等学者[5,6]认为磨浆中的磨粒在工作时处于两种状态:一种是磨粒同时与线和硅直接接触的状态,称之为“半接触状态”,另一种是既不和线接触也不和硅接触,称之为“非接触状态”。
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2009年第43卷Nol单晶硅游离磨粒线切割技术研究*31舒继千魏昕袁艳蕊广东工业大学摘要:游离磨料多线切割技术具有切割效率高、切口材料损耗小、表面损伤程度浅、切割噪声小等优点,能满足晶圆大直径化发展的加丁需求。
但游离磨料线切割技术发展历史短,目前还缺乏对游离磨料线切割过程材料的去除本征规律的充分认识和系统研究。
本文介绍了游离磨料线切割方法的r1:作原理,综合分析了游离磨料线切割硅片的材料去除机理、切割线振动模型、切割温度及其影响因素等方面的研究结果,以期为游离磨料多线切割技术的深入研究和推广应用提供基础。
关键词:游离磨粒线切割,切割线,单晶硅ResearchonFreeAbrasiveSlicingSingleSiliconCrystalIngotUsingaWiresawShuJiqianWeiXinYuanYanmiAbstract:Thebeeabrasiveslicingtechnologyusingwiresawhastheadvantagesofhighmachiningefficiency,smallcrystalwastage,thinsu而cedamagelayer,andlowmachiningnoise,etc.Itadaptsespeciallytoslicelargesizesiliconcrystalingot.’n地wi:resawslicingproce鹤anditsmaterialremovalmechanismhavenotbeenknownverywellatthemoment.Thisarticleintroduces硒enytheworkingprlncipieofh傥abrasiveslicingtechnologyusing诵res跏,andsummarizesandanalysestheresearchprogressonthematerialremovalmechanisms,vibrationmodelingofwiresawinmmmfjcturingprocess,temperaturevariationinthebeingslicedwafer,and80orltoprovidethebasicinformationforthefurtherresearchandapplication011.thistechnology.Keywords:freeabrasiveslicingtechnologyusingwi.resaW,鲫wiI唱wire,singlesiliconcrystal1引言随着半导体技术的快速发展,为了增加芯片产‘广东省自然科学基金资助项目(项目编号.:5001807)广东省科技计划资助项目(项目编号:2005810201019)收稿日期:2008年6月量、降低芯片制造成本、提高芯片性能,以硅片为主的半导体基片正朝着大尺寸、芯片高集成度和超薄化方向发展。
目前直径200ram的硅片成为主流产品,直径450mm的硅片也已问世。
美国的Intcl和AMD公司在2007年相继出现了制程45nm的300ram图8叶尖部的表面纹理根据试验结果,我们在生产实际中采用变速切削的方法,避开了共振区域,生产出了合格的叶轮产品。
具体方法是:在加工的初始阶段,将转速降低到16000r/min;当切削深度达到10ram以后,再将加工转速提高到18000r/min(如图6中虚线所示)。
经过切削方案的改进,叶轮生产得以顺利进行,叶片加工质量一直保持稳定。
5结语叶片力n-r_过程中,随着材料的去除,整个工艺系统的刚度和阻尼发生变化,从而导致叶片的模态频率不断降低,同时阻尼比也不断降低。
研究加工过程中的模态变化对于薄壁悬臂零件——叶片而言非常重要,尤其是在采用高速加工工艺进行叶片加工时,随着材料的不断去除,更需要对模态的变化进行研究,从而有针对性的采取综合措施,使得加工激励避开产品的共振区域,保证产品的加工质量。
参考文献1张锦,刘晓平等.叶轮机振动模态分析理论及数值方法.北京:国防工业出版社.20012郭继忠.模态分析理论与试验.北京:北京理工大学出版社,20013李亮,查文伟.薄壁零件高速铣削的振动问题分析.盐城工学院学报(自然科学版),2006,2:9—134李亮.薄壁零件的加工振动分析与加工工艺研究[博士学位论文].南京航空航天大学,2(D55汪通悦,何宁,李亮.薄壁零件的高速铣削振动研究.TransactionsofNanjingUniversity0fAeronautics&Astronau-tics,2007,24(2):112—117第一作者:陈涛,硕士,讲师,景德镇陶瓷学院机电学院,333001江西省景德镇FirstAuthor:ChenTao,Master,CollegeofMechanical&Elec-tricedEngineering,JingdezhenCeramicInstitute,Jingdezhen,Jiangxi333001,China万方数据32晶圆,将晶圆电路集成度进一步提升到8.2亿个晶体管,比65nm晶圆多容纳2.4亿个晶体管,在数量增加40%的同时晶圆尺寸缩小了25%之多。
预计未来的三至五年内将出现32nm制程的450mm晶圆…。
由此可见,半导体技术的快速发展对基片加工效率、加工精度和表面质量等已经提出了越来越高的要求。
半导体硅晶圆的加工是集成电路制造中的重要环节,而有效的硅片切割技术是获得高面型精度和表面质量硅晶圆的基本保证。
采用传统的金刚石内圆切割时,随着晶圆直径的不断增大,刀片的基体厚度、刃口厚度以及刀片张紧难度随之增加,切割时切口材料损耗和刀片磨耗增加、硅片质量下降,难以进行大直径晶片的切割。
游离磨料多线切割技术始于上世纪九十年代初期,与传统的金刚石内圆切割技术相比,具有切割效率高、切El材料损耗小、表面损伤程度浅、切割噪声小等优点(见表1)[2],能满足晶圆大直径化发展的加工需求。
近年来,国内外研究者越来越重视游离磨料线切割技术的研究,在游离磨料线切割过程材料去除机理、切割线振动、切割温度等方面开展了研究。
游离磨料线切割加工过程是切割线、磨削液中的磨粒、工件三者相互接触的复杂过程。
由于游离磨料线切割技术发展历史短,目前还缺乏对游离磨料线切割过程材料去除本征规律的充分认识和系统深入研究。
本文介绍了游离磨料线切割方法的工作原理,综合分析了游离磨料线切割硅片的材料去除机理、切割线的振动模型、切割温度及其影响因素等方面的研究结果。
表1游离磨料多线切割与金刚石内圆切割性能之比较【2)性能参数游离磨料多线切割金刚石内圆切割切割方法研磨磨削切割表面特征线痕破碎、开裂损伤深度(vm)lO—1520~30生产效率(in2/h)300~2000200一4003200(与同时参加工作单程硅片切割数(片)l的切割数量有关)切缝损失(胛)200~300300~500硅片的最小厚度(/an)低至200300最大切割直径(mm)300达2002游离磨料线切割基本原理应用于晶体材料的游离磨料多线切割技术不同于普通的线切割技术,其加工原理属研磨加工范畴。
游离磨料多线切割方法的基本工作原理如图l所工具技术示。
将直径约150~170/nn的不锈钢丝(切割线)分别缠绕在两个不同的线轴上,其间经过一系列的导轮和检测装置,最终缠绕在三个或四个加工辊上形成均布平行线网,并相对于固定在工作台上的单晶硅工件做往复运动。
悬浮于磨削液中的磨粒在高速运动的金属切割线的带动下进入加工区域,在切割线和工件加工表面间的液体薄膜中滚动,在切割线的压力作用下压人工件使工件表面产生破碎和裂纹,继而结合磨粒的滚动将碎片剥离工件,实现材料的去除。
在该过程中,切割线并不进行切削加工,而是主要起着将磨削液高速带入切割区并对磨料施加载荷的作用。
图1多线切割机走丝系统原理图[3】3游离磨料线切割的材料去除机理研究国内外对游离磨料线切割过程材料去除机理的研究主要集中在磨料和切割线与工件作用模型、磨削液作用模型等方面,目前提出的去除机理模型包括:单颗磨粒滚动——压痕模型、多磨粒压痕效应模型以及弹性一流体动压效应模型等。
3.1单颗磨粒滚动——压痕模型IK一4“J等人认为,在游离磨料多线切割方法切割过程中,存在于工件和切割线之间磨削液中的磨粒在工件加工区域进行滚动一压痕作用或者刮擦一压痕作用,实现材料的去除(如图2所示)。
JLiL5J等人建立的游离磨粒的滚动一压痕加工模型,其实质就是将单颗磨粒视为一个圆锥体,在高速运动的切割线的带动下与切削区域的加工表面产生相对滚动,并在油膜压力作用下嵌入工件材料加工表面,使材料表面产生破碎和裂纹,从而实现材料的去除(见图3)。
在该模型的基础七,Jk等进一步分析加工过程中单颗磨粒所受的法向作用力和切向作用力在边界条件下所产生的应力,并建立了应力分析模型。
研究结果表明,最大法向应力出现在磨粒的压入点万方数据2009年第43卷Nol位置,而最大剪应力出现在接触点表面下方。
该模型可以在一定程度上预测一定的加工条件下材料的去除率,有助于确定优化磨粒的几何参数从而更利于线切割的加工。
3.2多磨粒压痕效应模型为了进一步了解游离磨粒线切割过程材料的去除机理,SBhagavat[7]等人考虑多磨粒对工件压痕和接触效应的影响,仿真分析了游离磨粒多磨粒压痕效应。
该模拟分析假定磨粒具有一个相当锐利的圆锥形刃尖,在工件加工表面上产生一个O.2tma的压痕,并认为游离磨料线切割过程中材料的接触效应主要受压痕载荷、压痕间距两个参数影响。
研究结果发现,在一定的压人深度条件下,磨粒滚动压痕载荷与磨粒间距成正比例关系,并且:(1)磨粒压痕间距减小,或压痕载荷增大,滚动压痕深度会提高,从而使材料去除量增加;(2)磨粒压痕间距减小,卸载后工件表面的弹性恢复率提高,加工表面的横向裂纹扩展加剧,材料去除率提高;(3)磨粒压痕间距减小,加工表面的凹坑数目增加,磨粒与工件表面间的摩擦减少,切割效率提高。
图2游离磨料多线切割加工机理示意图【4】图3磨粒切割模型[5】区3.3弹性一流体动压效应模型MBhagavat[8j等人应用有限元方法对游离磨料线切割晶片过程中的流体动压效应进行分析,给出切割区流体动压力和膜厚分布曲线图。
研究结果表明,加工区域具有切割线进口油膜压力大于出口油膜压力、线接触处油膜中间薄两边厚的分布特点,并指出油膜厚度随走丝速度和磨削液粘度增大而增加,随切割线弓角增大而减小;油膜压力随走丝速度和磨削液粘度增大而减小,随切割线弓角增大而增大。
磨粒悬浮于磨削液中,材料去除是靠油膜压力33和切割线运动共同促使磨粒在加工表面滚压一嵌入作用实现的。