晶体电光调制实验讲义
晶体电光调制实验
2
•
l cos
2
(n"n' )
2
•
1 2
n03
s
in
2
2
(
1 ne2
1 )l
no2
其中,由于 o 光和 e 光的折射角相差很小,取2 为两束光的折射角的平均值。
干涉合成光强为:
Is I0 sin2 2(1 cos ) 2
I p I0[1 1 sin2 2(1 cos )] 2
图 3.晶体的锥光干涉图像
晶体加上偏压时呈现双轴锥光干涉图,如图 3 所示。由此可说明,单轴晶体在电场作用 下变成双轴晶体,即电致双折射现象。
3.测定铌酸锂的透过率曲线(T-U 曲线),求出半波电压和电光系数 22 。
取出镜头纸,光电三极管接收器对准激光光点,在起偏器前加减光片,加在晶体上的直 流电压从 0 开始,逐渐增大。晶体上只加直流电压,不加交流信号,把直流电压从小到大逐 渐改变,输出电流将出现极小值和极大值,两者分别对应的直流电压只差即为半波电压。整 个过程中,光强始终不超过 3.2。
记录晶体所加直流电压 u0 和光强 I,得到下表:
表1
u0 (V) I(cd) u0 (V) I(cd) u0 (V) I(cd) u0 (V) I(cd) u0 (V) I(cd) u0 (V) I(cd)
5
0.08 55 0.86 105 2.36 155 2.5 205 1.26 255 0.15
(四)测量电光调制后输出信号的带宽 调节直流电压,使经电光调制后的输出电压不失真,此时 u=40V,函数发生器输入信号
频率为 1kHz。调节函数发生器输入信号的频率,使得输出信号的幅度降为初始时的一半, 记下此时的频率。
电光调制试验
2π
V 1 3 l • ne − no + no r6 z E Z ,又 E Z = , d 2 λ
π l 3 • no r6 zV 。 λ λ d 上式前項與外加電壓無關,是由 KDP 自然雙折射效應所造成的相位移。其後項才是與外 加電場成正比的電光效應。因為 (ne − no ) 項的存在,使相位差 δ 對溫度極端敏感,故不可單 獨使用。 為了減少 45°-Z 切割 KDP 晶體的橫向效應中,自然雙折射的延遲現象,該種晶體在使用 時,經常成對出現,垂直偏極光與水平偏極光通過此晶體的相位延遲分別為
電光調制實驗-2
近代光學實驗
圖二
EOM 內部結構示意圖
2 2 設光通過 P1 後,強度為 2 AO (即 I in =2 AO ) ,當其通過 KDP 晶體後,依垂直與水平兩振
動方向,分成快慢兩個分量,二者間的相位差 δ =
2π
λ
•
l 3 • no r6 zV ,因 Vλ d
2
=
λd
2 ln 3 o r6 z
,則
δ=
V π ……(*) Vλ 2
落在檢偏鏡上的兩個光波,波方程式可分別表示如下: E Z = AO e iωt , EY ' = AO e i (ωt −δ ) 。設
通過 P2 後,光的振幅為 E P 2 ,是上述兩個電場在 P2 偏振軸上的分量和,則 E P 2 可表示為: EP2 = A 2 2 AO e iωt − AO e i (ωt −δ ) = o e iωt 1 − e iδ 。光感知器接收到的是光的強度 I out ,則 2 2 2
δ=
2π
•
l 的比值 , 大幅降低了橫向效應 Vλ 2 的驅動電壓。 d 又因外加電場方向恆與入射光方向垂直,晶體又不需要蒸鍍昂貴的透明電極,使得在實用上
3晶体的电光效应与电光调制_实验报告
晶体的电光效应与光电调制实验目的:1) 研究铌酸锂晶体的横向电光效应,观察锥光干涉图样,测量半波电压; 2) 学习电光调制的原理和试验方法,掌握调试技能; 3) 了解利用电光调制模拟音频通信的一种实验方法。
实验仪器:1) 晶体电光调制电源 2) 调制器 3) 接收放大器实验原理简述:某些晶体在外加电场的作用下,其折射率将随着外加电场的变化而变化,这种现象称为光电效应。
晶体外加电场后,如果折射率变化与外加电场的一次方成正比,则称为一次电光效应,如果折射率变化与外加电场的二次方成正比,则称为二次电光效应。
晶体的一次光电效应分为纵向电光效应和横向电光效应 1、 电光调制原理 1) 横向光电调制如图入射光经过起偏器后变为振动方向平行于x 轴的线偏振光,他在晶体感应轴x ’,y’上的投影的振幅和相位均相等,分别设为wt A e x cos 0'= wt A e y cos 0'=用复振幅表示,将位于晶体表面(z=0)的光波表示为A E x =)0(' A E y =)0(' 所以入射光的强度为 22'2'2)0()0(A E E E E I y x i =+=•∝ 当光通过长为l 的电光晶体后,x’,y’两分量之间产生相位差 A l E x =)(' δi y Ae l E -=)('通过检偏器出射的光,是这两个分量在y 轴上的投影之和()1245cos )()('0-=︒=-δδi i y y eA e l E E其对应的输出光强I t 可写为 ()()[]2sin 2*2200δA E E I y y t =•∝由以上可知光强透过率为2sin 2δ==i t I I T 相位差的表达式 ()dlVr n l n ny x 2230''22λπλπδ=-=当相位差为π时 ⎪⎭⎫ ⎝⎛=l d r n V n 22302λ由以上各式可将透过率改写为 ()wt V V V V VT m sin 2sin 2sin 022+==ππππ可以看出改变V0或Vm ,输出特性将相应变化。
实验21 电光调制
示波器
图 4 系统连接方法
-4-
图 5 信号源面板 其中,信号源面板如图 5 。在信号源面板上, “波形切换”开关用于选择输出正弦波或是方波, “信 号 输 出 ”口 用 于输 出 晶体 调 制 电压 , 若“ 高 压输 出 开 关” 拨 向上 为 打开 , 拨 向下 为 关闭 。 如果 拨 向 上 那么输出的调制电压上就会叠加一个直流偏压,用于改变晶体的调制曲线, “音频选择”开关用于选 择 调制信号为正弦波还是外接音频信号, “探测信号”口接光电探测器的输出,对探测器输入的微弱信 号 进行处理后通过“解调信号”口输出,连接至有源扬声器上。 在具体的连接中, “信号输出”的 CH1 与 CH2 输出的信号完全一样,将一个输出连接示波器,另一 个 输 出 连接 电 光调 制 器。 在 观 察电 光 调制 现 象时 , 需 要使 用 一个 带 衰减 的 探 头, 连 接时 , 探头 的 黑 色 鳄鱼夹连接至前面两根线的黑色鳄鱼夹,探针接红色鳄鱼夹(在测量时,探头应 10 倍衰减) 。硅光 电 探测器通过一根两端都是 BNC 头的连接线连接至示波器上。在进行音频实验时,则不需要示波器, 且 硅 光 电 探测 器 连接 至 信号 源 “ 探测 信 号” 口 , “解 调 信 号” 接 至有 源 音箱 。 “ 音频 输 入” 接 外加音 频 信 号。 2. 光路 准直 打 开 激 光 器电 源 ,调 节光 路 , 保 证光 线 沿光 轴通 过 。 在 光路 调 节过 程中 , 先 将 波片 , 起偏 器和 检 偏 器 移 走, 调 整激 光 管, 电 光 晶体 和 探测 器 三者 的 相 对位 置 ,使 激 光能 够 从 晶体 光 轴通 过 ;调 整 好 之 后 , 再 将波 片 ,起 偏 器和 检 偏 器放 回 原位 , 再调 节 它 们的 高 度, 因 为它 们 的 通光 孔 很大 , 调节 相 对 容 易。调节完毕后,锁紧滑动座和固定各部件。 3. 1/4 波片对调 制的影响 将 信 号 源 输出 的 正弦 波信 号 加 在 晶体 上 ,并 将探 测 器 输 出的 信 号接 到示 波 器 上 ,调 节 波片 ,观 察 输 出 信 号的 变 化, 记 下调 节 最 佳时 输 出信 号 的幅 值 ; 改变 信 号源 输 出信 号 的 幅值 与 频率 , 观察 探 测 器 输出信号的变化;去掉 1/4 波片,加上直流偏压,改变其大小,观察输出信号的变化,并与加波片 的 情况进行比较。 4. 静态 特性曲线测量 测量晶体的半波电压采用极值法,即晶体上只加直流电压,不加交流信号,把直流电压从小到大逐
晶体电光调制实验
晶体电光调制实验【实验目的】1. 掌握晶体电光调制的原理和实验方法。
2. 学会用简单的实验装置测量晶体半波电压、电光常数的实验方法。
3. 观察电光效应所引起的晶体光学特性的变化和会聚偏振光的干涉现象。
【实验仪器】晶体电光调制电源、铌酸锂(LiNbO 3)电光晶体、He-Ne 激光器及可调电源、可旋转偏振片、格兰棱镜、光电接收器、有源音响【实验原理】1.一次电光效应和晶体的折射率椭球当给晶体或液体加上电场后,该晶体或液体的折射率发生变化,这种现象成为电光效应。
电光效应在工程技术和科学研究中有许多重要应用,它有很短的响应时间(可以跟上频率为1010Hz 的电场变化),可以在高速摄影中作快门或在光速测量中作光束斩波器等。
在激光出现以后,电光效应的研究和应用得到迅速的发展,电光器件被广泛应用在激光通讯、激光测距、激光显示和光学数据处理等方面。
光在各向异性晶体中传播时,因光的传播方向不同或者是电矢量的振动方向不同,光的折射率也不同。
在主轴坐标中,折射率椭球及其方程为1232222212=++n z n y n x (1)式中n1、n2、n3为椭球三个主轴方向上的折射率,称为主折射率。
当晶体加上电场后,折射率椭球的形状、大小、方位都发生变化,椭球方程变成1222212213223233222222112=+++++n xy n xz n yz n z n y n x(2)晶体的一次电光效应分为纵向电光效应和横向电光效应两种。
纵向电光效应是加在晶体上的电场方向与光在晶体里传播的方向平行时产生的电光效应;横向电光效应是加在晶体上的电场方向与光在晶体里传播方向垂直时产生的电光效应,本实验研究铌酸锂晶体的一次电光效应。
铌酸锂晶体属于三角晶系,3m 晶类,主轴z 方向有一个三次旋转轴,光轴与z 轴重合,是单轴晶体,折射率椭球是旋转椭球,其表达式为1222022=++e n z n y x (3)式中n0和ne 分别为晶体的寻常光和非常光的折射率。
电光调制实实验讲义
电光调制实验实验讲义一、实验背景电光效应在工程技术和科学研究中有许多重要应用。
尤其是激光出现以后,电光效应的研究和应用得到了迅速发展,电光器件被广泛应用在激光通信、激光测距、激光显示和光学数据处理等方面。
晶体电光调制实验可以模拟电光效应在激光通信中的应用,验证激光通信传输速度快,抗干扰能力强,保密性好等优点。
通过该实验可以加深对偏振光干涉、双折射、非线性光学等知识的理解,培养学生的动手能力,提高学生的工程意识。
实验系统结构简单,易于操作,实验效果理想。
二、实验目的1. 观察电光效应引起的晶体光学性质的变化(单轴晶体、双轴晶体的偏振干涉图)。
2. 观察直流偏压对输出特性的影响,记录数据并绘制输出特性曲线。
3 观察铌酸锂晶体交流调制输出特性。
4. 模拟光通信。
三、实验仪器图1 实验仪器实物图(双踪示波器自备) 1.半导体激光器及四维可调支架 2.起偏器 3.铌酸锂晶体 4.检偏器(及1/4波片) 5.光屏 6.导轨 7.电光调制电源箱 8.接受放大器四、实验原理晶体分各向同性晶体与各向异性晶体。
其中各向异性晶体会发生双折射,而各向同性晶体只会发生普通折射。
光束入射到各向异性的晶体,分解为o 光和e 光。
如果光束沿着光轴的方向传播不会发生双折射现象。
这里光轴并非指一条直线,而是一个特殊的方向。
晶体中o 光与光轴构成的平面叫o 光主平面,e 光与光轴构成的平面叫e 光主平面。
o 光振动方向垂直于o 光主平面,e 光的振动方向平行于e 光主截面。
一般情况下,o 光主平面与e 光主平面不重合,但是理论与实践均表明,当入射线在晶体主平面时o 光主平面与e 光主平面重合。
实用中一般均取入射线在晶体主截面内的情况。
各向异性晶体中o 光与e 光的传播速度一般不同。
速度e o v v >的晶体称为正晶体,e o v v <的晶体称为负晶体。
铌酸锂晶体是各向异性负晶体。
由于双折射现象,当入射光不沿光轴方向入射时,产生的o 光与e 光对应不同的折射率o n 与e n 。
电光调制实实验讲义
电光调制实验实验讲义一、实验背景电光效应在工程技术和科学研究中有许多重要应用。
尤其是激光出现以后,电光效应的研究和应用得到了迅速发展,电光器件被广泛应用在激光通信、激光测距、激光显示和光学数据处理等方面。
晶体电光调制实验可以模拟电光效应在激光通信中的应用,验证激光通信传输速度快,抗干扰能力强,保密性好等优点。
通过该实验可以加深对偏振光干涉、双折射、非线性光学等知识的理解,培养学生的动手能力,提高学生的工程意识。
实验系统结构简单,易于操作,实验效果理想。
二、实验目的1. 观察电光效应引起的晶体光学性质的变化(单轴晶体、双轴晶体的偏振干涉图)。
2. 观察直流偏压对输出特性的影响,记录数据并绘制输出特性曲线。
3 观察铌酸锂晶体交流调制输出特性。
4. 模拟光通信。
三、实验仪器图1 实验仪器实物图(双踪示波器自备) 1.半导体激光器及四维可调支架 2.起偏器 3.铌酸锂晶体 4.检偏器(及1/4波片) 5.光屏 6.导轨 7.电光调制电源箱 8.接受放大器四、实验原理晶体分各向同性晶体与各向异性晶体。
其中各向异性晶体会发生双折射,而各向同性晶体只会发生普通折射。
光束入射到各向异性的晶体,分解为o 光和e 光。
如果光束沿着光轴的方向传播不会发生双折射现象。
这里光轴并非指一条直线,而是一个特殊的方向。
晶体中o 光与光轴构成的平面叫o 光主平面,e 光与光轴构成的平面叫e 光主平面。
o 光振动方向垂直于o 光主平面,e 光的振动方向平行于e 光主截面。
一般情况下,o 光主平面与e 光主平面不重合,但是理论与实践均表明,当入射线在晶体主平面时o 光主平面与e 光主平面重合。
实用中一般均取入射线在晶体主截面内的情况。
各向异性晶体中o 光与e 光的传播速度一般不同。
速度e o v v >的晶体称为正晶体,e o v v <的晶体称为负晶体。
铌酸锂晶体是各向异性负晶体。
由于双折射现象,当入射光不沿光轴方向入射时,产生的o 光与e 光对应不同的折射率o n 与e n 。
晶体电光调制实验-实验讲义
晶体电光调制实验仪1.实验仪器1.晶体电光调制电源输出正弦波调制幅度:0~300V连续可调,频率1K输出直流偏置电压:0~600V ,连续可调2.铌酸锂(LiNbO3)电光晶体尺寸5×1.7×50mm 镀银电极3.He-Ne激光器及可调电源波长632.8nm,<1.5mW,电流连续可调4.可旋转偏振片最小刻度值1°5.光电接收器PIN光电池6.有源音响漫步者2.实验目的1.掌握晶体电光调制的原理和实验方法。
2.学会用简单的实验装置测量晶体半波电压、电光常数的实验方法。
3.观察电光效应所引起的晶体光学特性的变化和会聚偏振光的干涉现象。
3.实验原理当给晶体或液体加上电场后,该晶体或液体的折射率发生变化,这种现象称为电光效应。
电光效应在工程技术和科学研究中有许多重要应用,它有很短的响应时间(可以跟上频率为1010Hz的电场变化),可以在高速摄影中作快门或在光速测量中作光束斩波器等。
在激光出现以后,电光效应的研究和应用得到迅速的发展,电光器件被广泛应用在激光通讯、激光测距、激光显示和光学数据处理等方面。
4.1 一次电光效应和晶体的折射率椭球由电场所引起的晶体折射率的变化,称为电光效应。
通常可将电场引起的折射率的变化用下式表示:n = n0 + aE0 +bE0^2+ (1)式中a和b为常数,n0为不加电场时晶体的折射率。
由一次项aE0引起折射率变化的效应,称为一次电光效应,也称线性电光效应或普克尔(Pokells)效应;由二次项引起折射率变化的效应,称为二次电光效应,也称平方电光效应或克尔(Kerr)效应。
一次电光效应只存在于不具有对称中心的晶体中,二次电光效应则可能存在于任何物质中,一次效应要比二次效应显著。
光在各向异性晶体中传播时,因光的传播方向不同或者是电矢量的振动方向不同,光的折射率也不同。
如图1,通常用折射率球来描述折射率与光的传播方向、振动方向的关系。
在主轴坐标中,折射率椭球及其方程为1232222212=++n zn yn x(2)式中n 1、n 2、n 3为椭球三个主轴方向上的折射率,称为主折射率。
晶体的电光调制
晶体的电光调制一、实验目的1.掌握晶体电光调制的原理和实验方法2.学会利用实验装置测量晶体的半波电压,计算晶体的电光系数3.观察晶体电光效应引起的晶体会聚偏振光的干涉现象(锥光干涉)二、实验原理某些晶体 ( 固体或液体 )在外加电场中,随着电场强度 E 的改变 , 晶体的折射率会发生改变 , 这种现象称为电光效应。
通常将电场引起的折射率的变化用下式表示:...2000+++=bE aE n n (1) 式中a 和b 为常数,0n 为0E =0时的折射率。
由一次项0aE 引起折射率变化的效应称为一次电光效应,也称线性电光效应或泡克尔电光效应;由二次项引起折射率变化的效应称为二次电光效应,也称平方电光效应或克尔效应。
光在各向异性晶体中传播时,因光的传播方向不同或者是电矢量的振动方向不同,光的折射率也不同。
通常用折射率椭球来描述折射率与光的传播方向、振动方向的关系,在主轴坐标中,折射率椭球方程为2222221231x y z n n n ++= (2) 椭球三个主轴方向上的折射率,称为主折射率。
从折射率椭球的坐标原点 O 出发,向任意方向作一直线OP, 令其代表光波的传播方向K。
然后,通过O垂直OP作椭圆球的中心截面,该截面是一个椭圆,其长短半轴的长度OA和OB分别等于波法线OP,电位移矢量振动方向分别与OA和OB平行的两个线偏振光的折射率n'和n''。
显然K,OA,OB 三者互相垂直,如果光波的传播方向K平行于x轴,则两个线偏光波的折射率等于n2和n3。
同样当K平行于y轴和z轴时,相应的光波折射率亦可知.本实验是通过激光通过起偏器、光电装置、检偏器等的调制从而在光屏上呈现出清晰的暗十字,然后撤去光屏和毛玻璃,晶体上直流电压和交流正弦信号同时加上,当直流电压调到输出光强出现极小值或极大值对应时,输出的交流信号出现倍频失真。
综上,光调制是利用晶体的双折射现象,将入射的线偏振光分解成o光和e光,利用晶体的电光效应有电信号改变晶体的折射率,从而控制两个振动分量形成的相差δ,再利用光的相干原理使两束光叠加,从而实现光强度的调制。
晶体电光声光磁光效应实验实验讲义
2
n12
y
2
2 n2
z
2
2 n3
1
(1-2)
图 1-1 折射率球 式中 n 1 、 n 2 、 n 3 为椭球三个主轴方向上的折射率,称为主折射率。当晶体加
联系方式: 电话:010-67889536/67887073/67872350 传真:010-67889536/67887073/67872350 转 881 邮箱:Sales@ 1 网址:
3.6 思考题 ........................................................................................................................ 20 参考文献 .................................................................................................................................. 21
北京杏林睿光科技有限公司光电实验产品实验讲义 RLE-ME06 晶体电光、声光、磁光效应实验 上电场后,折射率椭球的形状、大小、方位都发生变化,椭球方程变成
x
2 2 n11
y
2
2 n22
z
2
2 n33
2 yz
2 n23
2 xz
2 n13
2 xy
2 n12
1
(1-3)
晶体的一次电光效应分为纵向电光效应和横向电 光效应两种。纵向电光效应 是加在晶体上的电场方向与光在晶体里传播的方向平行时产生的电光效应;横向 电光效应是加在晶体上的电场方向与光在晶体里传播方向垂直时产生的电光效 应。通常 KD*P(磷酸二氘钾)类型的晶体用它的纵向电光效应,LiNbO3(铌酸锂)类型的晶体 用它的横向电光效应。本实验研究铌酸锂晶体的一次电光效应,用铌酸锂晶体的 横向调制装置测量铌酸锂晶体的半波电压及电光系数,并用两种方法改变调制器 的工作点,观察相应的输出特性的变化。 表 1-1 点群 对称性 3m 晶体材料 电光晶体(electro-optic crystals)的特性参数 折射率 波长 ( m ) 0.633 非零电光系数 ( 1012 m / V )
实验四 电光调制
实验四 电光调制实验日期:2011.09.08 实验者:黄键彬(082232034)朱俊杰(082232035)一、实验目的1、 掌握晶体电光调制的原理和实验方法;2、 学会用简单的实验装置测量晶体半波电压;3、 实现模拟光通讯。
二、实验仪器和主要参数可调半导体激光器(λ=650nm )、DGT-I 型电光调制电源箱(0~350V 连续可调)、铌酸锂晶体(50mm ×6mm ×1.7mm )、二维调整架、接收器、起偏器、小孔光阑、检偏器及1/4波片等。
三、实验原理1、半波电压根据电光晶体上所加电场方向的不同,将电光调制分为横向电光调制和纵向电光调制。
由于横向电光调制系统具有半波电压低、工艺简单等优点,所以本实验采用的是横向电光调制系统方案。
横向电光调制是以电光调制晶体X 轴加电场,Z 轴通光工作的,图4-1为本实验所采用的横向电光调制方案示意图。
图4-1横向电光调制示意图图4-1中起偏器的偏振方向平行于电光晶体的X 轴,检偏器的偏振方向平行于Y 轴。
当在晶体X 方向加上电场时,折射率椭球绕Z 轴转了45角,其感应轴为x ',y '。
此时,入射光束经起偏器后,以与x 轴平行的线偏振光进入晶体,并分解成沿x ',y '轴的两个相位和振幅均分别相等的分量,即)2c o s (45cos )(z n A z E x X ''⋅'=λπ)2c o s (45s i n )(y z n z y ''⋅A '=E λπ入射光在晶体表面(Z=0)处的光波表示为:AA y x =E =E '')0()0(设入射光强为0I ,则输入光强为:22202)0()0(A EEI y x =E +E =∞''*当光通过长度为l 的晶体后,在输出面l z =处,设x '和y '分量之间产生的相位差为δ∆,不考虑公共的相位因子,则有:δ∆-''=E =E i y x Ael A l )()(先不考虑插入4λ玻片,这样从检偏器出射的光)(l x 'E 和)(l E y '在Y 轴上的分量之和为:()12-A =∆-δi y eE )(设此时对应的输出光强为I ,则有:()()[]()()[]2s i n2112222δδδ∆=--=∞∆∆-*A eeAE E I i i yy电光的透过率T 可表示为: 2s i n2δ∆=I I T外加点成所引起位相差δ∆为:()d lUn l n n y x 223022γλπλπδ=-=∆''其中,d 为外加电场方向上(即X 方向)的晶体厚度,U 为加在晶体X 方向上的电压,d UE x =。
晶体电光调制实验-实验讲义
晶体电光调制实验仪1.实验仪器1.晶体电光调制电源输出正弦波调制幅度:0~300V连续可调,频率1K输出直流偏置电压:0~600V ,连续可调2.铌酸锂(LiNbO3)电光晶体尺寸5×1.7×50mm 镀银电极3.He-Ne激光器及可调电源波长632.8nm,<1.5mW,电流连续可调4.可旋转偏振片最小刻度值1°5.光电接收器PIN光电池6.有源音响漫步者2.实验目的1.掌握晶体电光调制的原理和实验方法。
2.学会用简单的实验装置测量晶体半波电压、电光常数的实验方法。
3.观察电光效应所引起的晶体光学特性的变化和会聚偏振光的干涉现象。
3.实验原理当给晶体或液体加上电场后,该晶体或液体的折射率发生变化,这种现象称为电光效应。
电光效应在工程技术和科学研究中有许多重要应用,它有很短的响应时间(可以跟上频率为1010Hz的电场变化),可以在高速摄影中作快门或在光速测量中作光束斩波器等。
在激光出现以后,电光效应的研究和应用得到迅速的发展,电光器件被广泛应用在激光通讯、激光测距、激光显示和光学数据处理等方面。
4.1 一次电光效应和晶体的折射率椭球由电场所引起的晶体折射率的变化,称为电光效应。
通常可将电场引起的折射率的变化用下式表示:n = n0 + aE0 +bE02+ (1)式中a 和b 为常数,n 0为不加电场时晶体的折射率。
由一次项aE 0引起折射率变化的效应,称为一次电光效应,也称线性电光效应或普克尔(Pokells )效应;由二次项bE 02引起折射率变化的效应,称为二次电光效应,也称平方电光效应或克尔(Kerr )效应。
一次电光效应只存在于不具有对称中心的晶体中,二次电光效应则可能存在于任何物质中,一次效应要比二次效应显著。
光在各向异性晶体中传播时,因光的传播方向不同或者是电矢量的振动方向不同,光的折射率也不同。
如图1,通常用折射率球来描述折射率与光的传播方向、振动方向的关系。
最新电光调制实验实验报告
最新电光调制实验实验报告实验目的:本实验旨在探究电光调制器的工作原理及其在光通信中的应用。
通过实验,我们将了解电光效应的基本理论,并观察电光调制器如何根据外加电压的变化调制光信号。
实验原理:电光效应是指某些晶体材料在外加电场作用下,其折射率发生变化的现象。
这种变化可以通过改变通过晶体的光波的相位或强度来实现对光信号的调制。
在本实验中,我们将使用液晶材料作为电光调制器,通过改变施加在其上的电压来控制光的透过率。
实验设备:1. 激光源(如氦氖激光器)2. 电光调制器(液晶调制器)3. 光电探测器(如光电二极管)4. 电源及电压调节器5. 光束准直器和光束分析仪6. 数据采集系统实验步骤:1. 搭建实验装置,确保激光源发出的光束经过电光调制器,并被光电探测器接收。
2. 调整激光源,使其发出稳定的光束,并保证光束完全通过电光调制器。
3. 将光电探测器连接到数据采集系统,以便记录光强度的变化。
4. 打开电源,逐渐增加施加在电光调制器上的电压,并记录不同电压下光电探测器的输出信号。
5. 分析数据,绘制电压与光强度之间的关系曲线,观察电光调制效果。
6. 通过改变激光的波长,重复步骤4和5,研究波长对电光调制效果的影响。
实验结果:实验数据显示,随着施加电压的增加,光电探测器接收到的光强度呈现出周期性变化,这与电光调制器的调制特性相符。
在特定电压下,光强度达到最小值,表明此时调制器对光信号实现了有效调制。
通过改变激光波长,发现不同波长的光在相同的电压下表现出不同的调制深度,这与液晶材料的光谱特性有关。
结论:通过本次实验,我们成功验证了电光调制器的工作原理,并观察到了外加电压对光信号调制的影响。
实验结果表明,电光调制器可以作为一种有效的光通信工具,用于控制和调节光信号的传输。
此外,实验还揭示了不同波长光在电光调制中的性能差异,为未来调制器的设计和应用提供了重要参考。
电光实验--谷开慧
晶体电光调制实验是利用晶体的双折射现象,将入射的线偏振光分解成振动 方向垂直、传播速度不同的两个振动分量,利用晶体的电光效应由电信号改 变晶体的折射率,从而控制两个振动分量间的位相差,再利用光的相干原理 使两束光叠加,从而实现光强度的调制。
T
I sin I
t i
2
2
1 1 sin V V0 Vm sin t 2
O光 e光
光轴
晶体的截面
光学 光学
晶体
(2)电光效应的分类
a、纵向电光效应(光∥ 电)
缺点:1、电极需要安装在通光面上,为不影响光传播,电极需要做成特 殊的形状。
电光晶体
b、横向电光效应(光⊥电)
缺点:对温度敏感。
电光晶体
电光振幅调制 利用电光效应,使入射光在电光晶体两主轴方向的分量产生相 位延迟,经线偏振器后输出光的振幅(或光强)与外加电场强度有关,即将 输入电压信号转换为光强信号输出,实现对光振幅(或强度)的调制。 电光调制在光通信中的应用 本系统是用光波传递声音信息,由激光器产生的 激光经起偏器后成为线偏振光,再经过λ/4波片变成圆偏振光,使得2个偏振 分量(o光和e光)在进入电光晶体之前产生π/2的相位差,使调制器工作在近 似线性区域。在激光通过电光晶体的同时,给电光晶体加一个外加电压,此 电压是需要传输的声音信号。当给电光晶体加上电压后,晶体的折射率及其 他光学性能发生变化,改变了光波的偏振状态,因此,圆偏振光变成椭圆偏 振光,再经检偏器又成为线偏振光,光强被调制。此时的光波载有声音信息 并在自由空间传播,在接收地用光电探测器接收被调制的光信号,然后进行 电路转换,将光信号转换成电信号,用解调器将声音信号还原,最终完成声 音信号的光传输。外加电压为被传输的声音信号,此信号可以是收录机的输 出或磁带机输出,实际上就是一个随时间变化的电压信号。
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晶体电光调制实验讲义引言激光是一种光频电磁波,具有良好的相干性,与无线电波相似,可用来作为传递信息的载波。
激光具有很高的频率(约13151010Hz ),可供利用的频带很宽,故传递信息的容量很大。
再有,光具有极短的波长和极快的传递速度,加上光波的独立传播特性,可以借助光学系统把一个面上的二维信息以很高的分辨率瞬间传递到另一个面上,为二位并行光信息处理提供条件。
所以激光是传递信息的一种很理想的光源。
电光效应在工程技术和科学研究中有许多重要应用,它有很短的响应时间(可以跟上1010HZ 的电场变化),可以在高速摄影中作快门或在光速测量中作光束斩波器等。
在激光出现以后,电光效应的研究和应用得到迅速的发展,电光器件被广泛应用在激光通讯,激光测距,激光显示和光学数据处理等方面。
要用激光作为信息的载体,就必须解决如何将信息加到激光上去的问题。
例如激光电话,就需要将语言信息加在与激光,由激光“携带”信息通过一定的传输通道送到接收器,再由光接收器鉴别并还原成原来的信息。
这种将信息加在与激光的过程称之为调制,到达目的地后,经光电转换从中分离出原信号的过程称之为解调。
其中激光称为载波,起控制作用的信号称之为调制信号。
与无线电波相似的特性,激光调制按性质分,可以采用连续的调幅、调频、调相以及脉冲调制等形式。
但常采用强度调制。
强度调制是根据光载波电场振幅的平方比例于调制信号,使输出的激光辐射强度按照调制信号的规律变化。
激光之所以常采用强度调制形式,主要是因为光接收器(探测器)一般都是直接地响应其所接收的光强度变化的缘故。
一 实验目的1. 掌握晶体电光调制的原理和实验方法2. 学会利用实验装置测量晶体的半波电压,计算晶体的电光系数3. 观察晶体电光效应引起的晶体会聚偏振光的干涉现象 二 实验仪器铌酸锂晶体,电光调制电源,半导体激光器,偏振器,四分之一波片,接收放大器,双踪示波器 激光光源:半导体激光器, 激光波长:650~680nm , 激光功率:0~2.5mW 连续可调, 偏置电压:±0~400V 连续可调, 调制方式: 横向调制; 调制晶体:铌酸锂晶体 50mm ×6mm ×1.7mm ; 调制波形:1KHz 正弦波或其他波形;三 实验原理某些晶体(固体或液体)在外加电场中,随着电场强度E 的改变,晶体的折射率会发生改变,这种现象称为电光效应。
通常将电场引起的折射率的变化用下式表示:0200n n aE bE =+++⋅⋅⋅⋅⋅⋅ , (1)式中a 和b 为常数,0n 为E 0=0时的折射率。
由一次项aE 0引起折射率变化的效应,称为一次电光效应,也称线性电光效应或普克尔电光效应(pokells );由二次项引起折射率变化的效应,称为二次电光效应,也称平方电光效应或克尔效应(kerr )。
由(1)式可知,一次电光效应只存在于不具有对称中心的晶体中,二次电光效应则可能存在于任何物质中,一次效应要比二次效应显著。
光在各向异性晶体中传播时,因光的传播方向不同或者是电矢量的振动方向不同,光的折射率也不同。
通常用折射率椭球来描述折射率与光的传播方向、振动方向的关系,在主轴坐标中,折射率椭球方程为1232222212=++n z n y n x , (2)式中1n ,2n , 3n 为椭球三个主轴方向上的折射率,称为主折射率。
如图一所示,从折射率椭球的坐标原点O 出发,向任意方向作一直线OP ,令其代表光波的传播方向K 。
然后,通过O 垂直OP 作椭圆球的中心截面,该截面是一个椭圆,其长短半轴的长度OA 和OB 分别等于波法线沿OP ,电位移矢量振动方向分别与OA 和OB 平行的两个线偏振光的折射率n '和n ''。
显然K , OA ,OB 三者互相垂直,如果光波的传播方向K 平行于x 轴,则两个线偏光波的折射率等于2n 和3n 。
同样当K 平行于y 轴和z 轴时,相应的光波折射率亦可知。
当晶体上加上电场后,折射率椭球的形状、大小、方位都发生变化,椭球的方程变为2222222221122332313122221x y z yz xz xy n n n n n n +++++= , (3) 只考虑一次电光效应,上式与式(2)相应项的系数之差和电场强度的一次方成正比。
由于晶体的各向异性,电场在x 、y 、z 各个方向上的分量对椭球方程的各个系数的影响是不同的,我们用下列形式表示:1112132211121222322222313233223334142432235152532136********111111111x y zx y zx y Zx y z x y z x y z E E E n n E E E n n E E E n n E E En E E En E E En γγγγγγγγγγγγγγγγγγ⎧-=++⎪⎪⎪-=++⎪⎪⎪-=++⎪⎪⎨⎪=++⎪⎪⎪=++⎪⎪⎪=++⎪⎩ , (4)上式是晶体一次电光效应的普遍表达式,式中ij γ叫做电光系数 (i=1,2,…6;j=1,2,3),共有18个,E X 、E Y 、E Z 是电场E 在x 、y 、z 方向上的分量。
式(4)可写成矩阵形式:图一 晶体折射率椭球221112211121322221222322333313233414243223515253616163213212111111111X Y Z n n n n E n n E E n n n γγγγγγγγγγγγγγγγγγ⎛⎫- ⎪ ⎪ ⎪- ⎪⎡⎤ ⎪⎢⎥ ⎪⎢⎥-⎡⎤ ⎪⎢⎥⎢⎥⎪=⎢⎥⎢⎥⎪⎢⎥⎢⎥ ⎪⎣⎦⎢⎥ ⎪⎢⎥ ⎪⎢⎥⎣⎦⎪ ⎪ ⎪ ⎪ ⎪⎝⎭, (5)电光效应根据施加的电场方向与通光方向相对关系,可分为纵向电光效应和横向电光效应。
利用纵向电光效应的调制,叫做纵向电光调制;利用横向电光效应的调制,叫做横向电光调制。
晶体的一次电光效应分为纵向电光效应和横向电光效应两种。
把加在晶体上的电场方向与光在晶体中的传播方向平行时产生的电光效应,称为纵向电光效应,通常以KD P *类型晶体为代表。
加在晶体上的电场方向与光在晶体里传播方向垂直时产生的电光效应,称为横向电光效应 ,以3LiNbo 晶体为代表。
这次实验中,我们只做3LiNbo 晶体的横向电光强度调制实验。
3LiNbo 晶体属于三角晶系,3m 晶类,主轴Z 方向有一个三次旋转轴,光轴与Z 轴重合,是单轴晶体,折射率椭球是旋转椭球,其表达式为:1222022=++en z n y x , (6)式中o n 和e n 分别为晶体的寻常光和非寻常光的折射率。
加上电场后折射率椭球发生畸变,对于3m 类晶体,由于晶体的对称性,电光系数矩阵形式为⎥⎥⎥⎥⎥⎥⎥⎥⎦⎤⎢⎢⎢⎢⎢⎢⎢⎢⎣⎡---=00000000002251513313221322γγγγγγγγγij , (7)当X 轴方向加电场,光沿Z 轴方向传播时,晶体由单轴晶体变为双轴晶体,垂直于光轴Z 方向折射率椭球截面由圆变为椭圆,此椭圆方程为1211222222022220=-⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛++⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛-xy E y E n x Ex n x x γγγ , (8)进行主轴变换后得到:111222202'2220=⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛++⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛-y E n x Ex n x γγ , (9) 考虑到x E n 2220γ<<1,经化简得到xx E n n n 2230021,γ+= ,xy E n n n 2230021,γ-= , (10)当 X 轴方向加电场时,新折射率椭球绕 Z 轴转动45。
图三为典型的利用3LiNbo 晶体横向电光效应原理的激光强度调制器。
图二 晶体横向电光效应原理图其中起偏器的偏振方向平行于电光晶体的X 轴,检偏器的偏振方向平行于Y 轴。
因此入射光经起偏器后变为振动方向平行于X 轴的线偏振光,它在晶体的感应轴'X 和'Y 轴上的投影的振幅和位相均相等,设分别为tA e t A e y x ωωcos cos 00''== , (11)或用复振幅的表示方法,将位于晶体表面(z=0)的光波表示为AE AE y x ==)0()0('' , (12)所以,入射光的强度是2222)0()0('A E E E E I y x =+=∙∝* , (13)当光通过长为l 的电光晶体后, X ′和Y ′两分量之间就产生位相差δ,即δi y x Ae l E Al E -==)()('' , (14)通过检偏器出射的光,是这两分量在Y 轴上的投影之和())1(2-=δi y e A E , (15)其对应的输出光强1I ,可写成()()()()222100112sin 22i i y y A I E E e e A δδδ*-⎡⎤⎡⎤∝=--=⎣⎦⎢⎥⎣⎦ , (16) 由(13)、(16)式,光强透过率T 为2sin 21δ==i I I T , (17)''2()x y n n πδλ=-30222ll n Vd πγλ=, (18)由此可见,δ和V 有关,当电压增加到某一值时,X ’、Y ’方向的偏振光经过晶体后产生2λ的光程差,位相差00,100T δπ==,这一电压叫半波电压,通常用V π或2V λ表示。
V π是描述晶体电光效应的重要参数,在实验中,这个电压越小越好,如果V π小,需要的调制信号电压也小,根据半波电压值,我们可以估计出电光效应控制透过强度所需电压。
由(18)式⎪⎭⎫⎝⎛=l d n V 22302γλπ , (19)其中d 和l 分别为晶体的厚度和长度。
由(18)、(19)式ππδV V= , (20)因此,将(17)式改写成()t V V V V V T m ωππππsin 2sin 2sin 022+== , (21)其中0V 是直流偏压,sin m V t ω是交流调制信号,m V 是其振幅,ω是调制频率,从(21)式可以看出,改变0V 或m V 输出特性,透过率将相应的发生变化。
由于对单色光,3022n πγλ为常数,因而T 将仅随晶体上所加电压变化,如图四所示,T 与V 的关系是非线性的,若工作点选择不适合,会使输出信号发生畸变。
但在2V π附近有一近似直线部分,这一直线部分称作线性工作区,由上式可以看出:当12V V π=时,00,502T πδ==。
图三 T 与V 的关系曲线图1. 改变直流偏压选择工作点对输出特性的影响 (1)当02V V ∏=,m V V ∏〈〈时, 将工作点选定在线性工作区的中心处,此时,可获得较高频率的线性调制,把02mV V =代入(16)式,得 ⎥⎦⎤⎢⎣⎡⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛+=⎥⎦⎤⎢⎣⎡⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛+-=⎥⎦⎤⎢⎣⎡⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛+=t V V t V V t V V T m m mωπωππωπππππsin sin 121sin 2cos 121sin 24sin 2 , (22)当m V V ∏〈〈时⎥⎦⎤⎢⎣⎡⎪⎪⎭⎫⎝⎛+≈t V V T mωππsin 121 , (23)即sin m T V t ω∝。