水的电阻率和电导率

水的电阻率和电导率
水的电阻率是指某一温度下，边长为1cm正方体的水的相对两侧间的电阻，单位为Ω.cm （欧姆厘米）、MΩ.cm（兆欧姆厘米）。

电导率为电阻率的倒数，单位为S/cm（西门子每厘米）、μs/cm（微西门子每厘米）。

水的电阻率（或电导率）反映了水中离子含量的多少。

是水纯度的一个重要指标，水的纯度越高，离子含量越低，水的电阻率越大（电导率越小）。

水的电阻率（或电导率）受水的纯度、温度及测量中各种因素的影响，纯水电阻率（或电导率）的测量通常选择动态测量方式（又称在线检测），并采用温度补偿的方法将测量值换算成25℃的电阻率，以便于进行计量和比较。

在线测量电阻率或电导率时，将电导电极或测量装置与被测水系统管道相连接。

通水将管道测量装置与电导池（又称测量电极）中的气泡驱尽，调节水流速（一般不低于0.3m/s），通常电阻率仪或电导率仪都会带有温度测量的功能，可以直接显示补偿到25℃的电阻率、电导率值。

电阻率在1兆以下的纯水，也可以用离线式电导率仪检测，与在线检测误差基本一致，当检测电阻率大于1兆欧的高纯水或超纯水时，则必须采用在线检测的方法，因为离线检测受环境干扰会产生相当大的误差。

纯水水质指标,超纯水水质指标
水质指标推荐使用行业
电导率≤10μS/CM动物饮用纯水(医药)、普通化工原料配料用纯水、食品行业配料用纯水、普通电镀行业冲洗用去离子纯水、纺织印染用除硬脱盐纯纯水、聚脂切片用纯纯水、精细化工用纯水、民用饮用纯净纯水用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.
电导率≤4μS/CM电镀化学品生产用纯水、化工行业表面活性剂生产用纯水、医用纯化纯水、白酒生产用纯纯水、啤酒生产用纯纯水、民用饮用纯净纯水用纯水、普通化妆品生产用纯水、血透纯纯水机用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.
电阻率5~10MΩ.CM锂电池生产用纯水、蓄电池生产用纯水、化妆品生产用纯水、电厂锅炉用纯纯水、化工厂配料用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.
电阻率:10~15MΩ.CM动物实验室用纯水、玻壳镀膜冲洗用纯水、电镀用纯纯水、镀膜玻璃用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.
电阻率≥15 MΩ.CM医药生产用无菌纯水、口服液用纯水、高级化妆品生产用去离子纯水、电子行业镀膜用纯水、光学材料清洗用纯水、电子陶瓷行业用纯纯水、尖端磁性材料用纯纯水、其它有相同纯水质
要求的用纯水.
电阻率≥17 MΩ.CM磁性材料锅炉用软化纯水、敏感新材料用纯水、半导体材料生产用纯水、尖端金属
材料用纯水、防老化材料实验室用纯水、有色金属，贵金属冶炼用纯水、钠米级新材料生产用纯水、航空
新材料生产用纯水、太阳能电池生产用纯水、纯水晶片生产用纯水、超纯化学试剂生产用纯水、实验室用
高纯纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.
电阻率≥18 MΩ.CM ITO导电玻璃制造用纯水、化验室用纯水、电子级无尘布生产用纯水等其它有相同
纯水质要求的用纯水。

美国半导体工业用纯水指标
美国半导体工业用纯水指标
化学指标单位：μg/L
项目Ⅰ级Ⅱ级Ⅲ级Ⅳ级残渣，mg/L 0.1 0.3 0.3 0.5
TOC，mg/L 0.02 0.05 0.10 0.40
颗粒，粒/L 500 1000 2500 5000细菌数，个100mL 0 6 10 50 活性硅SiO2，μg/L 3 5 10 40 电阻率MΩ·cm18.3 17.9 17.5 17.0
阳离子，μg/L0.2 2.0 5.0 * 铝 Al3+ 0.2 2.0 5.0 *
铵 NH4+ 0.3 0.3 0.5 *
铬 Cr6+ 0.02 0.1 0.5 *
铁 Fe 3+ 0.02 0.1 0.2 *
铜 Cu 2+ 0.02 0.1 0.5 *
锰 Mn 2+ 0.05 0.5 1.0 *
钾 K + 0.1 0.3 1.0 4.0
钠 Na + 0.05 0.2 1.0 5.0
锌 Zn 2+ 0.03 0.1 0.5 * 阴离子，μg/L0.1 0.1 0.3 * 溴 Br - 0.1 0.1 0.3 *
氯 Cl - 0.05 0.2 0.8 * 亚硝酸根 NO2- 0.05 0.1 0.3 *
硝酸根 NO3- 0.1 0.1 0.5 *
磷酸根 PO43- 0.2 0.2 0.3 *
硫酸根 SO42- 0.05 0.3 1.0 * 工业纯水纯度指标
应用领域和指标要求参考
用途用水指标参考标准
单晶硅、多晶硅、太阳能电池、氧化铝坩埚、光伏玻璃等生产
电阻率15 ~18.25 MΩ.CM
我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997
美国半导体工业用纯水指标
单晶硅半导体集成电路块，显像管、玻壳、液晶显示器等制造工业
电阻率15 ~18.25 MΩ.CM
美国半导体工业用纯水指标
我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997
光学材料清洗用水、电子陶瓷行业用纯水、尖端磁性材料用纯水
电阻率10 ~17 MΩ.CM
我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997
美国半导体工业用纯水指标
蓄电池、锂电池、锌锰电池生产
电阻率5 ~10 MΩ.CM 我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997
有色金属、贵金属冶炼用水、纳米级新材料生产用水、航空新材料生产用水、ITO导电玻璃制造用水、电子级无尘布生产用水电阻率15 ~18.25 MΩ.CM
我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997
美国半导体工业用纯水指标
主要工艺流程和出水指标：
※预处理+反渗透+离子交换器（电阻率≥15MΩ.CM）
※预处理+二级反渗透+EDI（电阻率≥15MΩ.CM）
※预处理+二级反渗透+脱气膜+EDI +抛光混床（电阻率≥18.25MΩ.CM）
详细工艺需根据原水设计情况进行设计
纯水设备的主要特点
▼采用进口反渗透膜，脱盐率高，使用寿命长，运行成本低廉，产水水质高而稳定；
▼在线水质监测控制，实时监测水质变化，保障水质安全；
▼全自动电控程序，还可选配触摸屏操作，使用方便，操作简单、安全；
▼切合当地水质的个性化设计，设想周到的堆叠式设计，占地面积小，全方位满足需求。

▼运行费用及维修成本低，全自动运行，实现无人化管理操作。

应用领域和指标要求参考
主要工艺流程和出水指标：
※预处理+反渗透+离子交换器（电阻率≥15MΩ.CM）
※预处理+二级反渗透+EDI（电阻率≥15MΩ.CM）
※预处理+二级反渗透+脱气膜+EDI +抛光混床（电阻率≥18.25MΩ.CM）。