P型Si上电沉积Ni—W—P合金薄膜
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P型Si上电沉积Ni—W—P合金薄膜
姚素薇;王宏智
【期刊名称】《电镀与环保》
【年(卷),期】1997(017)003
【摘要】首次采用恒电流电沉积方式在Ｐ型Ｓｉ（１１１）上制备出Ｎｉ－Ｗ－Ｐ合金薄膜。
考察了电沉积条件对镀支组成的影响，确定了轩表面致密、具有良好的结合力的Ｎｉ－Ｗ－Ｐ合金薄膜的最工艺条件。
【总页数】3页(P7-9)
【作者】姚素薇;王宏智
【作者单位】天津大学应用化学系;天津大学应用化学系
【正文语种】中文
【中图分类】TQ153.19
【相关文献】
1.P—Si上电沉积非晶Ni—W—P薄膜的耐蚀性研究 [J], 李爱昌;张国庆
2.p型Si上Ni-Pd薄膜的电沉积及界面硅化物的研究 [J], 刘冰
3.p—Si上电沉积Ni—W合金薄膜 [J], 郭永;龚正烈
4.在P型硅上电沉积Ni-W-P合金薄膜 [J], 李爱昌
5.单晶硅上电沉积Ni-W-P合金薄膜 [J], 李爱昌;张国庆;张允什
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