半导体的导电性

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半导体的导电能力

半导体的导电能力

半导体具有中等的导电能力,其导电率介于金属和绝缘体之间。

这是因为半导体中的电子和空穴的数量都很少。

在室温下,纯净的半导体材料的导电率通常比铜低几个数量级。

导电率可以通过掺杂少量其他元素来改变。

这种掺杂称为“掺杂”。

掺杂少量可以使半导体材料的导电率提高数十倍。

另外,半导体材料的导电率还可以通过提高温度来提高。

这是因为随着温度的升高,半导体中的电子和空穴的数量都会增加,从而提高导电率。

此外,半导体材料的导电率还可以通过电场,光照等方式来改变。

这种方式被称为电子注入或光电效应。

半导体材料可以被用来制造各种电子器件,如晶体管、光电子器件、太阳能电池、半导体照明等,这些器件的工作原理都是基于半导体材料的导电性能。

在半导体器件中,导电率是十分重要的,因为它直接关系到器件的效率。

因此,在半导体材料的研究和开发中,导电率是一个重要的指标。

半导体的导电性

半导体的导电性

当前研究的不足与挑战
半导体导电性的调控机制尚不完全清楚,需要进一步深入研究。
一些高性能的半导体材料和器件仍然依赖进口,需要加强自主创新和知识产权保护。
半导体产业的发展面临着技术、环境、资金等多方面的挑战,需要积极应对。
发展智能制造和绿色制造,提高半导体产业的核心竞争力。
加强基础研究和应用研究,推动半导体材料和器件的创新发展。
实现半导体材料和器件的全链条自主可控,保障国家安全和产业安全。
未来发展的趋势与展望
THANKS
谢谢您的观看
影响因素
迁移率与材料的晶体结构、杂质和温度等因素有关。
迁移率
载流子密度是衡量半导体材料中载流子数量的参数,定义为材料的电阻率与电阻率的乘积,即n=ρσ,其中ρ为电阻率。
定义
载流子密度与材料的纯度、晶体结构和掺杂等因素有关。
影响因素
载流子密度
03
半导体导电性的测量与实验技术
四探针电阻测量技术是一种非接触式测量方法,通过施加电流和测量电压来计算电阻率。
温度依赖Hall效应
通过测量不同温度下半导体内部的霍尔电压,研究温度对载流子浓度和迁移率的影响。
Hall效应测量
深能级瞬态谱技术
利用光脉冲激发半导体中的电子,并测量电子在各个时间点的分布情况,从而了解半导体中的缺陷、杂质等特性。
时间分辨深能级瞬态谱技术
通过使用超快激光脉冲,对半导体内部电子的动态行为进行高时间分辨率的测量,研究电子在半导体中的输运过程。
半导体导电性的基本概念
半导体导电主要通过自由电子和空穴两种载流子实现。
在半导体内部,自由电子和空穴的数量受温度、光照等因素影响。
当加电压时,自由电子和空穴的数量增加,从而导致电流增加。

半导体的特性

半导体的特性

半导体的特性
半导体是一种具有介于导体和绝缘体之间的电导性能的材料。

其特
性包括:
1. 导电性:半导体具有介于导体和绝缘体之间的导电性能。

在绝缘
体中,电子无法自由移动,而在导体中,电子可以自由移动。

半导体
的特点是在常温下,其导电性由掺杂与温度控制。

2. 能带结构:半导体的原子排列形成了能带结构,其中包含导带和
价带。

绝缘体的导带与价带之间的能隙非常大,而导体几乎没有能隙。

半导体的能隙介于导体和绝缘体之间,通常为1-3电子伏特。

3. 温度对导电性的影响:与导体不同,半导体的电导性能与温度密
切相关。

随着温度的升高,半导体的电导性能也会增加。

4. 掺杂:通过在半导体晶体中掺入少量的杂质,可以显著地改变其
导电性质。

杂质的掺杂可以分为N型和P型。

N型掺杂引入一个附加
的自由电子,而P型掺杂引入一个附加的空穴。

5. PN结:将N型和P型的半导体材料接触在一起形成PN结。

PN
结具有整流作用,即在正向偏置时,电流可以流动,而在反向偏置时,电流被阻塞。

6. 半导体器件:半导体的特性使其成为制造各种电子器件的理想材料,如二极管、晶体管、场效应管和集成电路等。

总的来说,半导体的特性使其成为现代电子技术的基础,广泛应用于计算机、通信、光电等领域。

半导体的基本特征

半导体的基本特征

半导体的基本特征
半导体是一种介于导体和绝缘体之间的材料,具有一些独特的特征。

以下是半导体的基本特征:
1. 导电性能:半导体的导电性能介于导体和绝缘体之间。

在纯净的半
导体中,电子和空穴数量相等,因此电导率很低。

但是,通过掺杂或
施加电场等方法,可以增加半导体的导电性能。

2. 能带结构:半导体的能带结构是其特征之一。

半导体的能带结构由
价带和导带组成。

在纯净的半导体中,价带和导带之间存在能隙,电
子必须获得足够的能量才能跃迁到导带中。

3. 温度特性:半导体的电导率随温度的变化而变化。

在低温下,半导
体的电导率很低,但随着温度的升高,电导率会增加。

这是因为温度
升高会增加电子和空穴的数量,从而增加半导体的导电性能。

4. 光电特性:半导体具有光电效应,即当光照射到半导体上时,会产
生电子和空穴。

这种现象被广泛应用于太阳能电池和光电器件等领域。

5. PN结:PN结是半导体器件的基础。

PN结是由P型半导体和N型半导体组成的结构,具有整流和放大等功能。

6. 控制特性:半导体的电性能受到外部电场的控制。

通过施加电场,可以控制半导体中电子和空穴的数量和移动方向,从而实现对半导体器件的控制。

总之,半导体具有介于导体和绝缘体之间的导电性能,能带结构、温度特性、光电特性、PN结、控制特性等特征。

这些特征使得半导体在电子器件、光电器件、太阳能电池等领域得到广泛应用。

第四章-半导体的导电性

第四章-半导体的导电性

单位时间由于散射而失去的能量: 0v l0
单位时间由电场获得的能量: qvd | E|
稳态时两者应相等,即
qd
E
0
v l0
联立解得:v d
80
3
m n
------与电场无关
2、负微分电导
1)负微分电导
负阻效应产生条件:半导体能带结构中存在多能谷, 且能谷的曲率不同;载流子发生能谷间散射。
负微分电导的 产生机理:对GaAS而言,当电场 达到3×103 V/cm后,低能谷1 中的电子可从电 场中获得足够的能量而开始转移到高能谷2中, 发生能谷间的散射,并伴随发射或吸收一个光学 声子.进入能谷2的电子,有效质量大为增加, 迁移率大大降低,平均漂移速度减小,电导率下 降,产生负阻效应.
角频率为ωa的格波,能量是量子化的,只能是
(
n
1 2
)a
声子:晶格振动的能量量子。
根据统计计 算,格波的 平均能量为
1 2
a
exp(
1
a
)-1
a
k0T
包含平均声子 数为
晶格振动对 载流子的散 射可以看成 载流子与声 子的碰撞。
1 nq = exp( ωa )- 1
koT
k'-k q
E'-Ea
声学波散射概率:
d N t liN m t+ t- N t= P t - N
dt t 0 t
N( t)N = 0ex( p p- ) t
设N0为t=0时未遭散射的电子数。所以在t到t +dt时间内被散射的电子数为:
d= NN0Pepd t t
平均自由时间:
=1 N0
0N0Pte-pdt = t P 1

半导体和超导体的特点

半导体和超导体的特点

半导体和超导体的特点半导体和超导体是两种不同类型的材料,它们都在电子和能量传导方面具有很特殊的性质,下面详细介绍它们的特点。

一、半导体的特点1.导电特性:半导体能够在一定条件下表现出良好的导电性能,当半导体中的电子数目增加时,它的导电性能也会相应提升。

2.能带结构:半导体的能带结构独特,其中包含了价带和导带,两者之间有一个带隙。

在带隙范围内,半导体是难以导电的。

3.热激发:半导体可以通过热激发的方式将电子从价带中提取出来,然后进入导带中,使其导电。

4.杂质掺杂:通过掺杂一些杂质元素,可以使半导体导电性发生变化。

n型半导体是通过掺杂五价元素(如磷等)来实现,p型半导体是通过掺杂三价元素(如硼、铝等)来实现的。

5.少数载流子:与金属导电形式不同,半导体的导电是通过少数载流子来实现。

n型半导体电子是载流子,p型半导体空穴是载流子。

二、超导体的特点1.无电阻:超导体的最大特点就是展现出了无电阻状态,电流可以不受电阻和能量损失的限制自由流动。

2.零电阻带:当温度降到超导临界温度以下时,超导体可以形成一条零电阻带,这条带会对电磁波产生反射作用,并导致绕返波的出现。

3.鸣振波:超导体在过渡时通过鸣振波的形式来恢复电阻,当电流超管超过超导体的临界电流时,静态电场会引起振动,从而产生鸣振波。

4.磁场排斥作用:磁场对超导体具有排斥作用,在超导体中,磁场的介入会限制其超导性能。

5.临界温度:超导体的临界温度是它能够表现出超导性的最高温度。

对于高温超导体而言,它们的临界温度要高于-100°C,而对于低温超导体而言,它们的临界温度要低于-100°C。

总体而言,半导体和超导体都是一个致力于推动人类技术进步发挥重要作用的材料。

半导体广泛使用于半导体电子学、信息科技等领域,而超导体则在高速列车、轨道交通等领域有广泛的应用。

随着科技的不断进步,这些材料的应用前景也会更加广阔。

半导体导电性

半导体导电性

在电场和磁场作用下,半导体中的电子和空穴的运动会引起各种电荷的输运现象半导体的导电性强弱随温度和杂质的含量变化而变化。

1. 从能带角度理解半导体的导电性半导体在绝对零度时,被电子占据的最高能带为满带,上面临近的能带是空带,当有一定温度时,电子从满带激发到空带,原来的空带变为不满带,在电场作用下,电子的状态在布里渊区中的分布不再对称,半导体导电。

2. 从晶格角度理解半导体的导电性在一定温度下,共价键上的电子e 挣脱了价键的束缚,进入到晶格空间形成准自由电子,这个电子在外电场的作用下运动而形成电子电流。

在价键的电子进入晶格后留下空穴,当这个空穴被电子重新填充后,会在另一个位置产生新的空穴,这一过程为空穴电流3. 载流子的散射理想完整晶体中电子处于严格周期势场中,v (k )不变,实际晶体由于存在缺陷,相当于在原有严格周期性势场上叠加了附加势场,从而引起了载流子状态的改变成为载流子的散射连续两次散射间的平均自由时间,散射主要有晶格振动散射和电离杂质散射。

(1)电离杂质原因是:电离杂质因为形成库仑场,附加在周期场上,局部破坏了周期势场。

散射几率:(2)晶格振动散射:晶体中格波氛围声学支和光学支。

声学支描述原胞的整体运动,光学支描述一个原胞内两个原子的相对运动。

一个原胞有n 个原子,则三维情况下总的格波数为3n ,其中3支声学波,3(n-1)支光学波。

①声学波散射原因:纵波的振动形式使原子形成疏密分布,半导体体积在疏处膨胀,密处压缩,使能带发生振动,产生附加势。

②光学波散射原因:原子的相对运动使电荷分布形成正电荷区和负电荷区,产生电场,形成附加势。

4. 载流子的漂移运动,迁移率(1) 在有外加电场存在时,载流子沿一定方向的有规则运动,称为漂移运动。

它是引起电荷流动的原因。

考虑平均,则电子和空穴的漂移速率分别为 ετ *-=n n n m q v 和 ετ *=pp p m q v ,*p m 和p τ分别为空穴的有效质量和弛豫时间。

半导体的导电特性课件

半导体的导电特性课件

动画1-1本征半导体的导电特性
动画1-2空穴的运动
3 杂质半导体:
N型半导体(电子型半导体)
——在本征半导体中掺入五价杂质元素, 例如磷,可形成 N型半导体,也称电子 型半导体。
因五价杂质原子中四 个价电子与周围四个 半导体原子中的价电 子形成共价键,多余 的一个价电子因无共 价键束缚而很容易形 成自由电子。
vi
RL vo
vo
t
例3:设二极管的导通电压忽略,已知
vi=10sinwt(V),E=5V,画vo的波形。
vi 10v
5v
R
t
D
vo
vi
E
vo
5v
t
例4:电路如下图,已知v=10sin(t)(V),
E=5V,试画出vo的波形
vi
解:
t
vD
t
例5:VA=3V, VB=0V,求VF (二极管的导 通电压忽略)
PN结区的少子在内电场的
作用下形成的漂移电流大
于扩散电流,可忽略扩散 电流,由于漂移电流是少子
外电场
形成的电流,故反向电流
非常小,PN结呈现高阻性。
在一定的温度条件下,由本征激发决定的 少子浓度是一定的,故少子形成的漂移电流 是恒定的,基本上与所加反向电压的大小无 关,这个电流也称为反向饱和电流。
•P型半导体中空穴数>>自由电子数
•自由电子为 P型半导体的少数载流子,空穴为 P型半 导体的多数载流子
P型半导体简化图
Si
B
Si
Si
Si
Si
4 杂质对半导体导电性的影响
掺入杂质对本征半导体的导电性有很大的影响。
一些典型的数据如下:
T=300 K室温下,本征硅的电子和空穴浓度: n = p =1.4×1010/cm3

半导体的导电性

半导体的导电性
热处理
通过升高温度,使半导体材料内部的缺陷和杂质激活,从而改变其导电性能。
退火工艺
将半导体材料加热到一定温度并保持一段时间,然后缓慢冷却。这种方法可以消 除材料内部的应力,并提高其导电性能。
外加电场与磁场的影响
外加电场
通过外加电场,可以改变半导体材料内部的载流子分布和运动状态,从而影响其导电性能。
测量方法
电导率的测量通常采用四 探针法,通过四个接触材 料表面的探针来直接测量 电流和电压。
应用
电导率的测量可用于研究 半导体材料的晶体结构、 缺陷和掺杂等微观性质。
电极化率的测量
概述
电极化率是衡量半导体材 料在电场作用下极化程度 的重要参数,它与材料的 介电常数密切相关。
测量方法
电极化率的测量通常采用 电容法,通过在材料两端 施加交变电场并测量电容 的变化来计算电极化率。
载流子的产生与复合
载流子的产生
半导体材料中的原子或分子受到外部能量的激发,会释放出电子和空穴。
载流子的复合
电子和空穴在运动过程中,可能会重新结合在一起,从而消失。这种过程称为 载流子的复合。
03
半导体材料的导电性测量与表征
电导率的测量
01
02
03
概述
电导率是衡量半导体材料 导电性能的重要参数,它 反映了材料中载流子的迁 移率。
日期:
半导体的导电性
汇报人:
目 录
• 半导体导电性概述 • 半导体材料的导电原理 • 半导体材料的导电性测量与表征 • 半导体材料的导电性调控 • 半导体导电性的应用
01
半导体导电性概述
半导体材料定义
• 半导体材料定义:半导体材料是一种在导电性能上处于绝缘体 和导体之间的材料,具有独特的电子和空穴导电性。它们通常 在一定的温度和光照条件下,能显著提高其导电性。

半导体物理第四章半导体的导电性

半导体物理第四章半导体的导电性

=
(−q)nvd S
J
=
I S
=
−nqvdx
欧姆定律的微分形式:
J=σE
Vd:平均漂移速度,和电场强度成正比
v=at=qE/ m* *t
半导体物理
5
迁移率-mobility
vd = μ E
μ = vd
E
迁移率:单位场强下的电子的平均漂移速度, 单位:m2/V·s, cm2/V·s
J = nqvdx = nqμE
半导体物理
37
Si, Ge:
电离杂质散射
μi
=
e m*
T 3/2 BN i
声学波散射
μa
=
e m*
1 AT 3/ 2
∴ μ= e
1
m*
AT
3/2
+
BN i T 3/2
半导体物理
ND>1017 cm-3
38
室温(300 K)下,高纯 Si、Ge、GaAs 的迁移率
Si Ge GaAs
μn (cm2/V⋅s)
P = PI + PII + PIII + ......
μi
=
e m*
T 3/2 BN i
μa
=
e m*
1 AT 3/ 2
e

m=* Ao (e kT − 1)
而 1 = P = 1 + 1 + 1 + ......
τ
τ I τ II τ III
1 = 1 + 1 + 1 + ......
μ μ I μ II μ III
光学波散射几率 Po ∝ [exp(hωo kBT ) − 1]−1 平均声子数

有关半导体的概念和特征

有关半导体的概念和特征

有关半导体的概念和特征半导体是一种介于导体和绝缘体之间的物质,具有一些独特的特征和性质。

下面将详细介绍半导体的概念和特征。

一、概念半导体是指在一定条件下,其电阻介于导体和绝缘体之间的物质。

与导体相比,半导体的电子能带结构介于能量带隙较小的导带和价带之间,使得它具有在一定条件下既能导电又能阻止电流通过的特性。

半导体材料广泛应用于电子器件、集成电路等领域。

二、特征1. 导电性:半导体既能导电又能阻止电流通过,这是半导体的最基本特征之一。

当半导体中加上外加电压时,导电性取决于半导体中的载流子浓度和电荷运动的能量。

2. 元素组成:常见的半导体材料包括硅(Si)和锗(Ge)等元素,它们的能带结构适合用于制造电子器件。

此外,还有一些化合物半导体,如氮化镓(GaN)、碳化硅(SiC)等。

3. 能带结构:半导体的电子能带结构具有导带和价带,二者之间存在能量带隙,这是半导体的一个重要特征。

它决定了载流子的行为和光学性质。

4. 控制载流子浓度:半导体的导电性质可以通过控制载流子浓度来实现。

掺杂是一种常用的方式,通过在半导体晶体中掺入杂质,可以改变其导电性能。

5. 二极管特性:半导体具有二极管特性,即只允许电流沿一个方向流动。

当半导体中的n型区域和p型区域相接触时,形成pn结,当施加正向偏置时,电流可以流动;当施加反向偏置时,由于内建电场的作用,电流很难通过。

6. 温度特性:半导体的电导率随温度变化而变化。

在绝对零度时,半导体成为绝缘体,随着温度的升高,半导体的电导率也逐渐增加。

7. 光电效应:半导体具有很好的光电效应,即能够将光信号转换为电信号。

这使得半导体能够广泛应用于光电器件和太阳能电池等领域。

8. 高纯度要求:制造半导体器件需要高纯度的材料,包括高纯度的硅原料和掺杂材料。

杂质的存在会影响半导体的性能。

总结起来,半导体具有导电性、能带结构、载流子控制、二极管特性、高纯度要求等特征。

这些特征使得半导体在现代通信、计算机、电子等领域有着广泛的应用。

半导体的导电特性

半导体的导电特性

半导体的导电特性半导体是一种介于导体和绝缘体之间的物质。

它的导电特性与其他材料有所不同,因此对于理解和应用半导体的各种电子器件至关重要。

本文将深入探讨半导体的导电特性,包括本征导电、掺杂与载流子浓度、载流子迁移率以及PN结的导电特性等。

1. 本征导电半导体材料的本征导电是指在纯净无杂质状态下,通过自由载流子实现的导电现象。

半导体晶体中的自由电子和空穴是通过热激发或光激发的方式生成的。

具体而言,半导体中的自由电子主要来自于价带的电子跃迁,而空穴则是通过连带效应产生的。

在本征导电状态下,半导体的导电能力较弱。

2. 掺杂与载流子浓度为了提高半导体的导电性能,常常会对其进行掺杂。

掺杂是向半导体中加入少量杂质原子,以改变半导体的导电特性。

根据掺杂杂质的电性,可以将掺杂分为N型和P型两种。

N型半导体中掺入少量五价元素,如磷或砷,这些杂质原子提供了额外的自由电子,因此N型半导体中的导电能力增强。

P型半导体中掺入少量三价元素,如硼或铝,这些杂质原子提供了额外的空穴,因此P型半导体中的导电能力提高。

掺杂后的半导体中,载流子浓度变得非常高,因为掺杂引入了大量的自由电子或空穴。

这种载流子浓度的增加极大地改善了半导体的导电性能。

3. 载流子迁移率除了载流子浓度,载流子的迁移率也是决定半导体导电特性的重要因素之一。

载流子迁移率指的是自由载流子在半导体中运动时的移动速度。

迁移率取决于材料的特性以及杂质的种类和浓度。

在半导体晶体结构中,载流子的运动受到晶格缺陷、杂质和温度等因素的影响。

晶格缺陷会散射载流子,从而降低其迁移率。

而杂质的种类和浓度也会影响载流子的迁移率,高浓度的杂质会增加散射,降低迁移率。

此外,温度的升高也会导致晶格振动增加,进而增加自由载流子的散射,降低迁移率。

4. PN结的导电特性PN结是半导体中最基本的器件之一,其导电特性在电子学和光电子学领域有广泛应用。

PN结由N型半导体和P型半导体通过正向或反向偏置连接而成。

第四章_半导体的导电性

第四章_半导体的导电性

设有N个电子以速度v沿某方向运动,N(t)表示在t时刻尚
未遭到散射的电子数。则 t 到 t+△t 时间内被散射的电 子数为N(t) P△t,即:
N (t ) N (t t ) N (t ) Pt
当△t很小时,可以写为:
dN t N t+t -N t lim =- PN t t 0 dt t
30
4.2.2 载流子的散射
3)其他散射机构
a. 中性杂质散射:在温度很低时,未电离的杂质(中性杂质)的数目
比电离杂质的数目大得多,这种中性杂质也对周期性势场有一定 的微扰作用而引起散射.但它只在重掺杂半导体中,当温度很低,
晶格振动散射和电离杂质散射都很微弱的情况下,才起主要的散
射作用. b. 位错散射:位错线上的不饱和键具有受主中心作用,俘获电子后
h l 3 2 1 f h l P0 1 2 nq
k0T
k 0T
n q=
exph a k0T 1
1
γl为声子频率, nq为平均声子数 ,f h γ k0T 为T的缓缓变函
l
பைடு நூலகம்

其值值0.6变化到1.0
散射几率随温度的变化主要取决于 平均声子数,其随温度按指数上升:
14
4.2.1 漂移运动
迁移率与电导率
总漂移电流密度为:
J nqn +pqp E
与欧姆定律微分形式比较得
到半导体电导率表示式为:
nq n +pq p
电子和空穴的漂移运动
15
4.2.1 漂移运动
迁移率与电导率
对于n型半导体(n>>p),电导率为
nqn
对于p型半导体(p>>n),电导率为:

半导体的导电性及掺杂

半导体的导电性及掺杂

半导体的导电性及掺杂半导体材料是一类介于导体和绝缘体之间的材料,具有特殊的导电性质。

本文将探讨半导体的导电性以及如何通过掺杂来改变其导电性。

一、半导体材料的导电性质半导体的导电性质是由其特殊的能带结构决定的。

在半导体中,存在着价带和导带之间的禁带。

价带是指电子处于低能量状态时所占据的能带,而导带则是指电子处于高能量状态时所占据的能带。

禁带是二者之间的能量间隔。

在固体材料中,原子核和价带中的电子形成了共价键,这些价带中的电子都是成对出现的,无法自由移动。

而在半导体中,由于禁带的存在,价带中的电子无法跃迁到导带中,导致半导体无法导电。

二、本征半导体和掺杂半导体半导体可以分为本征半导体和掺杂半导体两种类型。

本征半导体是指未经过任何掺杂的纯净半导体材料。

在本征半导体中,导带中的电子数量很少,因此导电性较差。

通常情况下,本征半导体的导电性取决于其材料的温度。

掺杂半导体是指通过掺杂过程向半导体材料中引入其他杂质元素,从而改变其导电性质的半导体材料。

常见的掺杂元素有硼、磷、砷等。

掺杂的过程会使得半导体材料中的导电性质发生显著改变,从而使电子或空穴数量增加,提高导电能力。

三、掺杂对半导体导电性的影响掺杂的类型和浓度决定了半导体材料的导电性质。

1. N型半导体N型半导体是指通过向半导体中引入电子供体杂质元素,如磷或砷,使得电子数量增多的材料。

在N型半导体中,杂质原子释放的额外电子进入导带,从而增加了导电性能。

这些额外的电子被称为自由电子,它们能够自由地在半导体中移动并参与导电过程。

2. P型半导体P型半导体是指通过向半导体中引入电子受体杂质元素,如硼,使得空穴数量增多的材料。

在P型半导体中,杂质原子缺少一个电子,形成了一个空穴。

空穴可以看作是正电荷的移动载流子。

空穴在半导体中移动,从而参与了导电过程。

通过掺杂N型半导体和P型半导体,可以制造出PN结。

PN结是一种广泛应用于半导体器件中的结构,如二极管和晶体管等。

PN结的导电性质由P区和N区的不同导电性决定,使得半导体器件具有特殊的电子控制功能。

半导体的导电性

半导体的导电性
电阻率
表征半导体材料电阻的参数,由材料的电学性质决定。电阻率与材料的载流 子浓度和迁移率有关,可通过测量材料的电导率计算得到。
霍尔效应与载流子浓度
霍尔效应
在半导体材料中通入电流并施加磁场,由于洛伦兹力的作用,会产生横向的电压 ,称为霍尔电压。霍尔效应可用于测量半导体材料中的载流子浓度和载流子类型 。
本征半导体
没有杂质和缺陷,主要靠半导体内部电子的导电能力。
非本征半导体
含有杂质或缺陷,导电性主要靠杂质或缺陷辅助电子导电。
杂质半导体与导电性
杂质半导体
在半导体内部掺入其他元素或杂质,形成杂质能级,增强电子导电能力。
导电性增强
杂质能级上的电子导电能力较弱,但是可以提供额外的自由电子,增强半导体的 导电性。
半导体器件
半导体器件是利用半导体材料特性实现特定功能的电子器件 ,包括二极管、晶体管、场效应管、晶体振荡器等,广泛应 用于信号处理、功率放大、开关电路、传感器等领域。
太阳能电池与光伏效应
太阳能电池
利用半导体材料的光伏效应制成的太阳能电池,可将太阳能转化为电能,广 泛应用于太阳能电站、卫星通信、便携式电源等领域。
碳纳米管
具有高导电性和高强度,可用于制造高效能电子器件和复合材料 。
石墨烯纳米带
具有高导电性和高热导率,可为新一代电子器件的制造提供新途 径。
THANKS
半导体照明技术
利用半导体材料制成的LED照明技术具有节能、环保、长寿命等优点,相比于传 统照明技术更加高效、节能、环保。
05
代表性半导体材料及其导电性
硅和锗的导电性
硅和锗是常见的半导体材料,其导电 性介于导体和绝缘体之间。
在常温下,硅和锗的导电性较弱,但随着 温度的升高,自由电子数量增多,导电性 增强。

半导体的导电性

半导体的导电性
在一定温度下,本征半导体中的原子获得足够的能量,释放出电子,形成自由电子 和空穴,从而产生导电性。
本征半导体的导电性受温度影响较大,温度升高,电子和空穴的浓度增加,导电性 增强。
非本征半导体
非本征半导体是指掺杂了其他元 素或存在缺陷的半导体。其导电 性主要受掺杂元素和缺陷的影响

掺杂元素可以提供额外的载流子 ,增强半导体的导电性。缺陷则 可以作为载流子的陷阱,降低半
半导体的导电性
汇报人: 2023-12-26
目录
• 半导体简介 • 半导体的导电性 • 影响半导体导电性的因素 • 半导体的光电效应 • 半导体材料的发展趋势
01
半导体简介
半导体的定义
总结词
半导体是指介于导体和绝缘体之间的材料,具有导电能力,但导电能力较导体 弱,较绝缘体强。
详细描述
半导体材料中,电子和空穴是主要的载流子,它们在电场的作用下可以自由移 动,形成电流。与金属导体不同,半导体的导电能力受到温度、光照、杂质等 因素的影响。
实验结果
通过实验验证了光电效应的存在, 并测定了物质的光电阈值等参数。
05
半导体材料的发展趋势
新型半导体材料的研发
01 02
新型半导体材料
随着科技的发展,新型半导体材料如碳化硅、氮化镓等正在被广泛研究 和应用。这些材料具有更高的电子迁移率和耐高温特性,适用于高频率 、高温和高功率的电子器件。
新型半导体材料的优势
风力发电
半导体材料在风力发电领域的应用主要涉及到风力发电机组的控制系统和能源转换系统。 通过优化半导体材料的性能,可以提高风能利用率和发电效率。
新能源汽车
半导体材料在新能源汽车中发挥着关键作用,如电池管理系统、电机控制器和车载充电装 置等。高性能的半导体材料可以提高新能源汽车的能效和安全性。

半导体的导电性质与PN结的应用

半导体的导电性质与PN结的应用

半导体的导电性质与PN结的应用半导体是一类电子导电性介于导体与绝缘体之间的材料。

它的导电性质与其内部结构及杂质掺入情况密切相关。

在半导体中,导电主要依靠载流子的运动,而载流子分为带负电的电子和带正电的空穴。

本文将探讨半导体的导电性质以及PN结的应用。

一、半导体的导电性质半导体的导电性质与其能带结构密切相关。

能带是指材料中电子能量的分布情况。

半导体中常见的能带有价带和导带。

价带上的电子几乎全部被占据,而导带则几乎没有电子。

两者之间的能量间隙称为禁带宽度。

当材料处于室温时,通常情况下,半导体的禁带宽度为0.5到2.5电子伏特。

在纯净的半导体中,导电主要是通过热激发产生的。

在室温下,一小部分由于热运动而获得足够能量的电子可以从价带跃迁到导带中,形成载流子。

这些载流子在晶格中自由移动,从而导致了半导体的导电性。

此时,半导体的导电性主要是由自由电子和自由空穴的运动贡献的。

二、PN结的应用PN结是由P型半导体和N型半导体通过熔化或扩散等方式形成的结构。

PN结的形成不仅改变了半导体的导电性质,还引发了许多重要的应用。

1. 整流器PN结具有整流特性,即在外加正向电压下,电流可以顺利通过;而在反向电压下,电流几乎无法通过。

这使得PN结成为整流器的关键组件。

利用这一特性,我们可以将交流电转换为直流电,满足各种电子设备的需求。

2. 发光二极管(LED)发光二极管是一种重要的光电器件,广泛应用于照明、指示和显示等领域。

LED利用PN结中的电流-电压特性,使得电流通过时,电子与空穴结合,从而产生光辐射。

通过选择不同的材料和控制电流,可以实现不同颜色和亮度的光发射。

3. 太阳能电池太阳能电池利用光的能量将其转换为电能的装置。

其中,PN结起到了关键作用。

在太阳能电池中,N型半导体与P型半导体之间形成的PN结承担了光吸收和电荷分离的功能。

当光照射到PN结上时,光子的能量被吸收,并促使电子从价带跃迁到导带,形成电流。

4. 反向恒流源PN结的反向击穿特性使得它可以用作反向恒流源。

半导体的导电特性

半导体的导电特性

半导体的导电特性
半导体的导电特性:热敏性:当环境温度升高时,导电能力显著增强(可做成温度敏感元件,如热敏电阻)。

光敏性:当受到光照时,导电能力明显变化(可做成各种光敏元件,如光敏电阻、光敏二极管、光敏三极管等)。

掺杂性:往纯净的半导体中掺入某些杂质,导电能力明显改变(可做成各种不同用途的半导体器件,如二极管、三极管和晶闸管等)。

1、本征半导体完全纯净的、具有晶体结构的半导体,称为本征半导体。

共价键中的两个电子,称为价电子。

本征半导体的导电机理价电子在获得一定能量(温度升高或受光照)后,即可挣脱原子核的束缚,成为自由电子(带负电),同时共价键中留下一个空位,称为空穴(带正电)。

这一现象称为本征激发。

温度愈高,晶体中产生的自由电子便愈多。

在外电场的作用下,空穴吸引相邻原子的价电子来填补,而在该原子中出现一个空穴,其结果相当于空穴的运动(相当于正电荷的移动)。

当半导体两端加上外电压时,在半导体中将出现两部分电流(1)自由电子作定向运动?电子电流(2)价电子递补空穴?空穴电流自由电子和空穴都称为载流子。

自由电子和空穴成对地产生的同时,又不断复合。

在一定温度下,载流子的产生和复合达到动态平衡,半导体中载流子便维持一定的数目。

注意:(1) 本征半导体中载流子数目极少, 其导电性能很差;(2) 温度
愈高,载流子的数目愈多,半导体的导电性能也就愈好。

所以,温度对半导体器件性能影响很大。

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第四章半导体的导电性本章重点1.迁移率2.载流子的散射3.电导率4.迁移率和电阻率与杂质浓度和温度的关系§ 4.1 载流子的漂移运动迁移率4.1.1 欧姆定律S E S E S l l E R V I σρρ====/为电导率,单位:西门子/米, 西门子/厘米ρσ1=mm c ⋅Ω⋅Ω,的单位电阻率ρ欧姆定律的微分形式EJ σ=4.1.2 漂移速度和迁移率载流子在电场力作用下作定向运动叫漂移运动,平均漂移速度。

dv −(2)d J nq v −=−E v d ×1sAO 电子浓度为n 的导体,电子漂移运动形成电流1d I nq v s−=−××−−==dv nq J E J 又增大电流密度随电场增加而,σ/(3)d d v Ev E μμ−−==Enq J μ=)4(μσnq =为电子迁移率,表示单位电场下电子的平均漂移速度。

描述载流子在电场中漂移运动的难易程度。

单位:(m 2/V.s 或cm 2/V.s )μ漂移电流示意图电场方向4.1.3 半导体的电导率和迁移率复杂性:电子和空穴两种载流子,且其浓度随温度、掺杂而变化。

空穴漂移方向电子电流空穴电流电子漂移方向电子& 空穴的电流方向均与电场方向相同半导体中电流EE pq nq J J J p n p n σμμ=+=+=)(半导体中电导率与载流子浓度和迁移率的关系:pn pq nq μμσ+=导带中电子自由运动形成电流,大。

n μ价带空穴导电,实际共价键上的电子在价键间运动形成电流,小。

p μn nq σμ=对N 型半导体n>>pppq σμ=对P 型半导体p>>n 对本征半导体p =n =n i()i n p n q σμμ=+电子迁移率大于空穴迁移率,高速开关器件主要依靠电子导电。

电导率主要取决于多子§ 4.2 载流子的散射J E σ=,电场一定,电流密度恒定应不断增加,,载流子受电场力加速J v nq J d −−=矛盾的两方面:原因所在:载流子与晶格原子或电离杂质等发生碰撞而交换能量,从而改变载流子速度的大小和方向4.2.1 载流子散射与漂移运动1、载流子的散射——改变速度的方向和大小处在外电场中的载流子运动:散射+漂移运动。

散射:运动的载流子与热振动的晶格原子/电离/载流子的杂质离子发生碰撞,并改变载流子速度的大小和方向的过程。

平均自由程:连续两次散射间自由运动的平均路程。

平均自由时间τ:连续两次散射间自由运动的平均时间。

−l 散射几率P:单位时间内一个载流子被散射的几率。

2、载流子的漂移运动外场作用下,载流子的两种运动:受晶格、杂质和缺陷向各个方向散射,速度大小和方向变化d v −两种运动结果:电场一定, J 恒定电场力下的定向运动,速度增加——漂移运动4.2.2 半导体的主要散射机构散射的根本原因:周期性势场遭到破坏,产生了附加势场。

附加势场使能带中载流子在不同k 状态间跃迁。

只有当附加场的线度具有电子波长的量级才能有效地散射电子(室温下电子的波长为100Å量级。

)电子+电离杂质中心空穴-电离杂质中心空穴+电离杂质中心电子速度小速度大电子1、电离杂质散射库仑散射¾电离杂质N i 越大,载流子受散射的机会越多;¾电离杂质散射几率。

23−∝TN P i i ¾温度越高,载流子热运动的平均速度越大,可很快掠过,散射几率小。

散射几率¾A D i A D i N N N n n N +=+=−+杂质全电离,,2、晶格振动的散射(1)声学波和光学波声学波——频率低,含一支纵波和两支横波。

光学波——频率高,3×(n-1)支.格波中纵波和横波比例1:2。

格波波矢数目=晶体中原胞数目N每一波矢对应的格波数=3×n (原胞内原子数目)2q πλ=晶格中原子的振动是由若干基本波按叠加原理组合而成,这些基本波称为格波。

格波波矢q金刚石晶格振动沿[110]方向传播的格波的频率与波矢的关系αϖq光学波声学波纵纵横横长波横波:原子位移方向和波传播方向垂直。

纵波:原子位移方向和波传播方向平行。

长光学波中2个原子向相反方向振动,代表原胞中原子的相对运动,其频率近似为常数。

长声学波中2个原子向同一方向振动,代表原胞质心的运动,频率与波数成正比,弹性波。

Cq =⇒=∝λϖλϖαα1声学波横波光学波横波纵长光学波的极化电场产生极化势场++++++++++++++++--------EE纵长声学波的畸变势E CE v禁带宽度随原子间距的变化能量EE VE C导带价带原子间距(平衡位置)(电子能带)2p 2sE g导带价带E g =7eV在平衡位置附近,间距增大,E g 减小;间距减小,Eg 增大;()αααϖϖϖ===⎟⎟⎠⎞⎜⎜⎝⎛−+1exp 1210T k αϖ=)21(+n 频率为的一格波,其能量是量子化的:αϖ频率为的一格波,平均能量:αϖ平均声子数()1exp 10−=−T k n q αϖ=把格波的能量子称为声子,声子的引入便于描述晶格与物质的相互作用αϖ=电子与声子的碰撞遵守正号对应吸收声子,负号表示发射声子。

αϖ=±=−±=−−−−E E q h k h k h ''和能量分别表示声子的准动量和αϖ=−q h '−k −k,分别表示电子散射前后的波矢电子声子)2/sin()/(22*'θϖv u v m quE E E n a =±=±=−=Δ==kk ’θ∟q)2sin(2θk q =v m k n*==(对电子)假定散射前后电子的波矢近似大小相等对长声学波,为弹性波,,u 为声子速度qu =αϖ对单极值能带,声学波散射主要是长纵声学波散射mv m h k v m k h nn8**10//1−−−−===⇒=λ电子热运动速度105m/s,估算电子波波长为由准动量守恒,声子动量应与电子在同一数量级或更低。

格波波长应为10-8m 或更低,故长声学波起主要作用。

长声学波散射,弹性散射,,极小0≈ΔE v u 光学波散射,声子很大,非弹性散射αϖ=纵声学波运动时原子疏密变化,产生附加势场。

(2) 声学波散射纵长声学波的畸变势E CE vv c εε和:为形变势常数,单位体变引起导带底的变化。

能带变化:V V E V VE vv cc Δ=ΔΔ=Δεε声学波散射几率32*23/204216()c n s k T m P v T h uπερ=∝对具有多极值、旋转椭球等能面的Si 、Ge ,取状态密度有效质量*n m 横声学波不起原子疏密变化,但对多极值、旋转椭球等能面,会引起切应变,从而引起散射。

对非极性半导体,纵声学散射非常重要。

光学波散射离子晶体极性光学波散射原子晶体光学波形变势散射(3)光学波散射纵长光学波的极化电场产生极化势场++++++++++++++++--------EE离子晶体中极化电场引起光学波散射10]1)/[exp(−−∝T k p l o ϖ=¾随温度降低,迅速减小,P o 也迅速降低,故光学波在低温时几乎不起作用;也说明有声子才能发生吸收声子的散射。

¾常温下,GaAs 中长纵光学波散射起作用。

¾较高温度时,Si 、Ge 中,光学波散射有一定的作用。

光学波散射几率:()1exp 10−=−T k n q αϖ=q n −低温时,谷间散射很小。

(1) 等同的能谷间散射极值能量相同的能谷,称为等同的能谷。

电子在等同能谷中分布相同。

电子在等同能谷间发生散射,称为等同的能谷间散射。

发生该散射时k 值和准动量发生较大变化,故为非弹性散射。

1/21/211Re 1q q E EP n n h h ααγγ−−⎛⎞⎛⎞⎛⎞∝+++−⎜⎟⎜⎟⎜⎟⎝⎠⎝⎠⎝⎠吸收声子发射声子3、其他因素引起的散射散射几率:1/21/211Re 1q q E E P n n h h ααγγ−−⎛⎞⎛⎞⎛⎞∝+++−⎜⎟⎜⎟⎜⎟⎝⎠⎝⎠⎝⎠吸收声子发射声子低温时,电子的平均能量为,P e 为0很小;,a a k h T P /)(0ν<<a h E T k ν<,230低温时,谷间散射很小。

(2) 中性杂质散射低温下,杂质未全电离,晶格散射和电离杂质散射微弱,此时重掺杂半导体中中性杂质散射显著发生。

(3) 位错散射位错密度大于104cm -2时,较为显著。

此散射各向异性。

(4) 合金散射是混合晶体特有的散射,主要是两种同族原子无序排列的混合晶体。

(5)载流子间的散射强简并时显著。

§ 4.3 迁移率与杂质浓度和温度的关系4.3.1 平均自由时间和散射几率的关系)()()(t t N t N t P t N Δ+−=Δ)(t N 在遭到散射的电子数:为t 时刻未受散射的电子浓度t t t Δ+-N 0是t=0时未受到散射的电子数。

ptt e N t N t PN t t N t t N dt t dN −→Δ=⇒−=Δ−Δ+=⇒00)()()()(lim)(散射几率P:单位时间内一个载流子被散射的几率。

如有多种散射机制同时存在,则:PtdtPe N N dtPe N tdt Pe N n ax n axan dx e x Pta dx e Pt Pt 110!0010000010=⇒⎯⎯⎯⎯⎯→⎯∫=⎯⎯⎯⎯→⎯∫=∫∫∫∞=−=∞−∞−∞+−∞−ττ∑∑===iiii P P ττ11(2)4.3.2 电导率、迁移率与平均自由时间的关系0**0pt x x x nnq E q Ev v tPe dt v mm τ−−−−∞−=−⇒=−∫对单个电子,散射后的初始速度v x 0,经t 时间,再次散射前的速度v x0*x x nq Ev v tm =−采用统计方法,对大量电子而言,平均漂移速度*/nn n m q τμ=电子的迁移率*/pp p m q τμ=空穴的迁移率*nq Ex m v τ−=−Ev x −=μ混合型电导率2*2*//n p n n p pnq pq nq m nq m σμμττ=+=+n 型电导率2*/p p p ppq pq m σμτ==p 型电导率2*/n n nnq nq m σμτ==Si 导带的等能面是6个旋转椭球面,电流由6个能谷中的电子贡献:1231231233331()31()3x x x x x x c x c n n nJ q E q E q E nq E J nq E μμμμμμμμμμμ=++=++=⇒++令=[100][001][010]xyzE xtn lnm q m q τμμτμ===321]001[]010[,]100[能谷,和能谷,沿x 方向,利用:μc 称为电导迁移率。

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