制备用于高分辨率光刻胶组合物的高玻璃化温度线型酚醛树脂的方法
光刻胶制备工艺技术手册
光刻胶制备⼯艺技术⼿册1 01141490.1 光刻胶⽤剥离液组合物2 02128219.6 光刻胶⽤剥离液和使⽤该剥离液的光刻胶剥离⽅法3 02142279.6 光刻胶⽤剥离液和使⽤该剥离液的光刻胶剥离⽅法4 02131624.4 反射防⽌膜的光学常数的决定⽅法和光刻胶图形的形成⽅法5 02142219.2 光刻胶组合物6 02148233.0 光刻胶组合物7 00816779.6 ⽤于深紫外线辐射的光刻胶组合物8 02145886.3 化学放⼤型正性光刻胶组合物9 00817637.X 检测光刻胶剥离过程终点的⽅法和装置10 01807989.X 化学增强光刻胶及⼀种光刻胶合成物11 02153815.8 光刻胶图案的形成⽅法和光刻胶层合体12 01808573.3 光刻胶剥离剂组合物13 02140154.3 光刻胶层中减⼩图案⼤⼩的⽅法14 01804796.3 具有酸反应性基团的新颖含氟聚合物以及使⽤这些材料的化学增幅型光刻胶组合物15 02141841.1 光刻胶⽤剥离液和使⽤该剥离液的光刻胶剥离⽅法16 01810235.2 光刻胶去除剂混合物17 01811264.1 负作⽤化学放⼤的光刻胶组合物18 02154275.9 环状锍和氧化锍及含有它们的光致酸⽣成剂和光刻胶19 01811577.2 感光性树脂组合物、使⽤它的感光性元件、光刻胶图案的制造⽅法及印刷电路板的制造⽅法20 03120076.1 光刻胶剥离组合物及清洗组合物21 02120076.9 ⽤于剥离光刻胶的组合物22 01812974.9 ⽤于深紫外线的光刻胶组合物及其⽅法23 03136946.4 ⽤于形成防反射膜的涂布液组合物、光刻胶层合体以及光刻胶图案的形成⽅法24 00819669.9 包括氟化铵的光刻胶去除剂组合物25 03109544.5 光刻胶剥离除去⽅法及装置26 01814891.3 ⽤于有机硅酸盐玻璃的低K蚀刻应⽤中的蚀刻后由氢进⾏的光刻胶剥离27 00819962.0 将⼲燥光刻胶膜层热层压到印刷电路板上的⽅法28 95192017.0 稳定的离聚物光刻胶乳状液及其制备⽅法和应⽤29 96114151.4 超强酸催化的⽆显影⽓相光刻胶30 96114150.6 有机碱催化的⽆显影⽓相光刻胶31 95196387.2 ⽤于微电⼦的⽆胺光刻胶粘接促进剂32 85100457 稀⼟顺式聚异戊⼆烯负型光刻原胶的制备33 87105308 含光刻胶的废液的处理34 88100287 彩⾊显象管荧光屏的形成⽅法和光刻胶的组合物35 89109246.3 彩⾊显象管荧光屏的光刻胶组合物36 90102772.3 在光刻胶中使⽤多⽀线型酚醛树酯的⽅法37 90110445.0 制备⽤于⾼分辨率光刻胶组合物的⾼玻璃化温度线型酚醛树脂的⽅法38 90109643.1 正向作⽤的光刻胶39 91104298.9 光刻胶和光学应⽤⽤的低光密度聚合物和共聚物的制备⽅法40 94113847.X 含有⾮离⼦氟代烃表⾯活性剂的⽔性光刻胶41 94118622.9 含有氨基丙烯酸酯中和的粘合剂的带⽔光刻胶42 94119237.7 光刻胶剥离液管理装置43 94120086.8 形成光刻胶图形的⽅法44 94116129.3 具有联合增稠剂的带⽔光刻胶45 95107005.3 正性光刻胶46 95107601.9 检测涂敷在晶⽚上的光刻胶膜微观厚度差的⽅法47 97110797.1 光刻胶剥离液管理装置48 97115414.7 光刻胶组合物49 97111875.2 在半导体器件上形成光刻胶膜的装置及其形成⽅法50 97119281.2 在半导体晶⽚上形成光刻胶图形的⽅法51 97109669.4 ⽤于在制造半导体过程中清洗光刻胶的清洗剂制品52 95113199.0 ⽤由假图形所形成的光刻胶掩模将层精确构图成⽬标图形的⽅法53 98100726.0 化学增强的光刻胶54 98100895.X 化学增强的光刻胶55 96198863.0 ⽆⾼温蒸馏酚醛清漆树脂分离法和光刻胶组合物56 96198607.7 通过螯合型离⼦交换树脂降低光刻胶组合物中的⾦属离⼦57 99107757.1 光刻胶正胶组合物58 97193958.6 包括具有酸不稳定侧基的多环聚合物的光刻胶组合物59 98124457.2 在化学敏感型光刻胶上形成图形的⽅法60 98125184.6 ⽤于准确地转换⾮均匀厚度光刻胶层中的潜像的⼯艺...............这⾥只列举了部分⽬录，需要联系我，给你最全⾯最新资料...............481 201010251766.9 适合⽤来除去光刻胶、光刻胶副产物和蚀刻残余物的组合物及其应⽤482 200910073198.5 凹模热压印中应⽤光刻胶整形改善填充和减少残胶的⽅法483 200880017184.5 活动硬掩模的等离⼦体刻蚀过程中的原地光刻胶剥离484 200810202117.2 去除光刻胶残留及刻蚀反应物颗粒的⽅法485 200810225785.7 百纳⽶级窄线宽多种形貌全息光栅光刻胶图样的制备⽅法486 200810228632.8 光刻胶收集杯的全⾃动清洗设备487 200810228633.2 光刻胶输送装置488 200810228795.6 ⼀种⾼精度光刻胶分配泵控制装置及其控制⽅法489 200810043986.5 光刻胶显影模拟的⽅法490 200810202184.4 ⼀种⽤于厚膜光刻胶的清洗剂491 200810202490.8 ⼀种厚膜光刻胶清洗剂492 200910211961.6 化合物及含有该化合物的化学增幅光刻胶组合物493 200810203714.7 ⼀种光刻胶清洗剂组合物494 200810203715.1 ⼀种光刻胶清洗剂组合物495 200810204103.4 ⼀种光刻胶清洗剂组合物496 200910253786.7 光刻胶剥离剂⽤组合物及薄膜晶体管阵列基板的制造⽅法497 200880023292.3 ⼀种光刻胶清洗剂498 200910249060.6 ⼀种电热驱动光刻胶微夹钳的制作⽅法499 200810207833.X 使⽤普通喷嘴实现降低阻胶消耗的光刻胶涂布⼯艺500 200810208048.6 光刻胶滴注系统、光刻胶喷嘴及其使⽤⽅法501 200810208070.0 光刻胶的去除⽅法及连接孔的制造⽅法502 201010120161.6 厚胶紫外光斜⼊射背⾯光刻⼯艺的光强分布模拟⽅法503 201010101998.6 ⽤于电⼦束光刻胶PMMA的显影液及其配制⽅法504 201010001541.8 光刻胶残留物去除⽤组合物505 201010121984.0 ⼀种利⽤正性光刻胶制作底栅型FED下板图形的⽅法506 201010102016.5 在电⼦束曝光前对涂有光刻胶的晶⽚进⾏聚焦调节的⽅法507 200910214063.6 超⽀化聚酯微光学光刻胶508 201010106316.0 厚胶介质补偿紫外光斜⼊射光刻⼯艺的光强分布模拟⽅法509 200780100584.8 颜料分散组合物、⽤于彩⾊滤光⽚的包含其的光刻胶组合物、及使⽤其的彩⾊滤光⽚510 201010138150.0 全息凹⾯光栅负⼀级光刻胶监测系统511 200910046426.X 酯交换合成光刻胶单体碳刚性⾻架结构丙烯酸酯类化合物的⽅法512 200910146319.4 在边缘光刻胶去除过程中减少晶圆缺陷的⽅法及晶圆结构***************.X⼀种光刻胶清洗剂514 200880114601.8 ⽤于剥除光刻胶的化合物515 201010141540.3 曝光机台、阵列基板、图案化薄膜、光刻胶层及形成⽅法516 200910081225.3 以光刻胶为掩膜对⼆氧化硅进⾏深刻蚀的⽅法517 200910053241.1 双栅极氧化层制作⼯艺中光刻胶层的重做⼯艺518 200910053501.5 钝化光刻胶表⾯的⽅法以及光刻⽅法519 200910054019.3 改善快闪存储器制作⼯艺中光刻胶涂布缺陷的⽅法520 201010233738.4 与外涂光刻胶⼀起使⽤的涂料组合物521 201010233728.0 与外涂光刻胶⼀起使⽤的涂料组合物付款⽅式：1、本套技术资料230元2、资料都为电⼦版的，部分资料包括专利和科研成果资料，可以打印。
光刻胶用酚醛树脂的合成
光刻胶用酚醛树脂是一类用于半导体制造中的光刻工艺的树脂材料，它们通常具有高交联性、良好的热稳定性和化学稳定性。
酚醛树脂的合成过程涉及到酚醛与多元醇（如缩水甘油）的缩合反应，以及后续的交联和固化过程。
以下是一个简化的酚醛树脂合成过程：
1. 原料准备：首先准备好酚醛（如苯酚、间甲酚等）和多元醇（如缩水甘油、季戊四醇等）作为反应原料。
2. 预聚合：酚醛与多元醇在催化剂（如酸性催化剂或碱性催化剂）的作用下进行预聚合反应，生成低分子量的预聚体。
3. 交联：预聚体在一定条件下（如加热、紫外照射等）进行交联反应，形成三维网络结构的高分子量酚醛树脂。
这个过程中，酚醛与多元醇的羟基通过缩合反应形成交联点。
4. 固化：交联后的酚醛树脂在加热或使用化学固化剂（如酸酐、环氧化合物等）的作用下进一步固化，形成具有良好机械性能和热稳定性的树脂。
5. 后处理：固化的酚醛树脂可能需要经过洗涤、干燥、研磨等后处理步骤，以满足光刻胶的特定要求。
6. 性能测试：合成的酚醛树脂需要经过一系列的性能测试，如热稳定性测试、交联度测试、光刻性能测试等，以确保其满足光刻工艺的要求。
光刻胶用酚醛树脂的合成是一个复杂的化学过程，需要精确控制反应条件，以确保树脂的性能。
在实际应用中，酚醛树脂的配方和合成工艺可能会根据具体的光刻需求和性能要求进行调整。
酚醛树脂的合成生产工艺及流程2
酚醛树脂是由苯酚和甲醛在酸、碱触媒作用下合成的。
由于工艺不同可以制成液体酚醛树脂和粉状酚醛树脂两种。
1、制造酚醛树脂的原材料（1）苯酚苯酚又称石炭酸，纯白无色针状晶体，在空气中可氧化成浅粉色。
分子式C6H5OH分子量94.11比重1.0545g/cm3熔点40.8℃沸点182℃苯酚能溶于热水，溶于酒精，碱等。
有弱酸性，易渗入皮肤，引起过敏现象。
将2%左右的苯酚肥皂水溶液用于消毒，医用名称“来苏儿”。
表1 制造酚醛树脂用的苯酚的技术条件名称苯酚（又名石炭酸）分子式C6H5OH外观有特殊气味的无色结晶，在空气中显粉红色酸碱性呈弱酸性含量要求苯酚含量96%（2）甲醛甲醛为无色气体，用于制造酚醛树脂的是甲醛的水溶液。
甲醛分子式HCHO分子量30.03气体比重1.067 即比空气略重液体比重（-20℃）0.815熔点-92℃沸点-21℃甲醛溶于水和酒精，40%的水溶液医学上称“福尔马林”，做防腐剂使用。
长期存放的甲醛易聚合沉淀出白色块状物，加入8-12%的甲醇（CH3OH）可防聚合。
甲醛具有强烈的刺激性气味，能刺激眼睛和呼吸道粘膜，并引起皮肤过敏现象。
甲醛的技术条件见表2表2 甲醛的技术条件名称甲醛（水溶液）分子式HCHO分子量30.03溶解性能溶于水，最大浓度可达50%使用要求甲醛含量>34%，沉淀物<1%（3）催化剂①碱性催化剂氢氧化钠、氢氧化钡、氢氧化铵等都可以做合成酚醛树脂的催化剂生成液体酚醛树脂。
磨料磨具行业用的液体酚醛树脂通常是用氢氧化铵作催化剂，因氢氧化铵属于弱碱性。
对不耐碱地酚醛树脂影响不大。
残留部分在硬化加热时大部分挥发掉了，所以用氢氧化铵作催化剂的酚醛树脂具有较高的强度，耐水性较好。
氢氧化钡也是较好的催化剂；而氢氧化钠是一种强碱，残留在磨具的结合剂中对磨具有破坏作用，因此在磨具制造中很少使用氢氧化钠作催化剂的酚醛树脂。
苯酚与甲醛生成树脂的反应速度随催化剂的用量增多而加快，但是反应太快则不易控制，通常氢氧化铵的水溶液用量为苯酚的3-6%。
高分辨率Ⅰ-line正性光刻胶的制备及应用性能研究
高分辨率Ⅰ-line正性光刻胶的制备及应用性能研究曹昕【摘要】利用两种不同重均分子量的改性酚醛树脂(PF)与一种三个酯化度的四羟基二苯甲酮-重氮萘醌磺酸酯光敏剂(PAC)按比例配制,加入适量助剂优化感光性能,制备出一种应用于电子触屏加工领域的Ⅰ-line正性光刻胶,其具有刻蚀精度高、工艺性能优良、单位成本较低等优势特点.【期刊名称】《广州化学》【年(卷),期】2015(040)002【总页数】6页(P1-6)【关键词】酚醛树脂;重氮萘醌磺酸酯;Ⅰ-line;光刻胶【作者】曹昕【作者单位】中科院广州化学有限公司,广东广州510650【正文语种】中文【中图分类】TQ577.7高分辨率I-line正性光刻胶的制备及应用性能研究曹昕（中科院广州化学有限公司，广东广州 510650）摘要：利用两种不同重均分子量的改性酚醛树脂（PF）与一种三个酯化度的四羟基二苯甲酮―重氮萘醌磺酸酯光敏剂（PAC）按比例配制，加入适量助剂优化感光性能，制备出一种应用于电子触屏加工领域的I-line正性光刻胶，其具有刻蚀精度高、工艺性能优良、单位成本较低等优势特点。
关键词：酚醛树脂；重氮萘醌磺酸酯；I-line；光刻胶中图分类号：TQ577.7 文献标识码：A文章编号：1009-220X(2015)02-0001-06收稿日期：作者简介：曹昕（1987~），男，硕士，工程师；主要从事电子化学品研究和产业化的研究。
*************.cn光刻工艺是电子加工制造业中最重要的工艺步骤，其中关键的材料——光刻胶（Photoresist）是通过紫外光等光照或辐射后，使其曝光（或非曝光）部分降解并溶解于特定显影液的耐蚀刻薄膜材料。
光刻胶主要用于触控屏、平板显示器、集成电路的微细加工，同时在LED、倒扣封装、磁头及精密传感器等制作过程中也有着广泛的应用。
光刻胶成品一般由成膜树脂、光敏剂、溶剂和助剂组成。
I-line正性光刻胶体系采用“酚醛树脂―重氮萘醌”（PF-DNQ）的光化学反应原理。
酚醛树脂的制备
酚醛树脂的制备
酚醛树脂的制备主要通过酚和醛在催化剂的作用下进行缩聚反应。
具体步骤如下：
1.原料准备：通常使用的原料包括苯酚、甲醛、催化剂（如盐酸、
磷酸、草酸或氢氧化铵）等。
2.缩聚反应：在催化剂的催化下，苯酚和甲醛进行缩聚反应，生成
线型或体型的高分子树脂。
反应过程中，酚与醛的摩尔比会影响产物的类型和性能。
当摩尔比大于或等于1时，生成线型树脂；
小于1时，生成多羟甲基酚衍生物。
3.反应条件：反应通常在70-100℃的温度下进行，反应时间一般为
2-6小时。
催化剂的加入方式会影响反应的速率和产物的性质。
例如，使用盐酸、磷酸、草酸作催化剂时，反应介质pH为0.5～1.5，有利于线型树脂的生成。
4.脱水过程：反应完成后，需要进行脱水处理。
脱水可以在常压或
减压下进行，最终脱水温度为140～160℃，树脂分子量为500～900。
5.醇溶性酚醛树脂的制备：在特定的配方和工艺条件下，苯酚与甲
醛反应生成醇溶性酚醛树脂。
例如，将熔化的苯酚加入反应釜中，加入甲醛溶液和催化剂，然后在特定的温度下进行反应，最终得到醇溶性酚醛树脂。
6.其他改性酚醛树脂：除了醇溶性酚醛树脂，还有聚乙烯醇改性酚
醛树脂、三聚氰胺改性酚醛树脂等，这些改性树脂具有不同的性能和用途。
7.需要注意的是，实验过程中使用的苯酚和甲醛的量应严格控制，
以避免反应过度或不足。
此外，实验结束后，反应容器需要清洗，以去除残留的化学物质。
酚醛树脂合成及应用
高分子科学概论课程论文论文题目：酚醛树脂的合成及应用学院：化学与材料科学学院专业：应用化学班级： 1 班姓名：陈涵学号：20100635指导老师：董静酚醛树脂的合成及应用摘要：酚醛树脂是一种最经典的人工合成树脂，有近百年的使用史。
由于酚醛树脂原料易得，价格低廉，生产工艺和设备简单，而且制品具有优异的机械性能，耐热性、耐寒性、电绝性、尺寸稳定性、成型加工型、阻燃性及低烟雾性。
成为工业部门不可缺少的材料，被广泛应用于固结磨具、涂附磨具、摩擦材料、耐火材料以及电木粉、烟花爆竹、铸造等各个领域。
本文主要介绍了酚醛树脂的合成及研究，并简单的阐述了酚醛树脂的应用和未来发展趋势。
关键词：酚醛树脂；合成；应用。
1872年德国化学家拜尔（A. Baeyer)首先合成了酚醛树脂，1907年比利时裔美国人贝克兰提出酚醛树脂加热固化法，使酚醛树脂实现工业化生产，1910年德国柏林建成世界第一家合成酚醛树脂的工厂，开创了人类合成高分子化合物的纪元。
由于采用酚、醛的种类、催化剂类别、酚与醛的摩尔比的不同可生产出多种多样的酚醛树脂，它包括：线型酚醛树脂、热固性酚醛树脂和油溶性酚醛树脂、水溶性酚醛树脂。
主要用于生产压塑粉、层压塑料；制造清漆或绝缘、耐腐蚀涂料；制造日用品、装饰品；制造隔音、隔热材料、人造板、铸造、耐火材料等。
酚醛树脂是世界最早人工合成和工业化生产的一类合成树脂，其原料易得，生产工艺简单，综合性能优良，应用非常广泛，因此研究酚醛树脂的制备方法，具有很高的社会意义和经济价值。
近年来科研人员对酚醛树脂本身的脆性和力学性能进行改进，在下游产品应用新工艺，使酚醛树脂基复合材料有了更大的发展。
随着电子产业的迅速成长，高纯度及改性酚醛树脂也在半导体封装材料、印制电路基板材料和光刻胶领域发挥着越来越重要的作用。
现代酚醛泡沫反应机理和生产工艺的不断创新，使酚醛泡沫材料应用于民用建筑、采矿等新领域。
各种改性酚醛树脂作为增粘、增硬、补强材料，也不断地应用于橡胶工艺的改进中。
高分子化学实验 线性酚醛树脂的制备
13高分子材料与工程2班 林夏洁 1314171014 覃秋桦 1314171027线性酚醛树脂的制备一、实验目的1、了解反应物的配比和反应条件对酚醛树脂结构的影响，合成线性酚醛树脂；2、进一步掌握不同预聚体的交联方法。
二、实验原理缩聚反应是缩合聚合反应的简称，是指带有官能团的单体经过许多次的重复缩合反应而逐步形成聚合物的反应。
酚醛树脂也叫电木，又称电木粉，有颗粒、粉末状。
耐酸性和弱碱，遇强酸会发生腐蚀。
不溶于水，溶于丙酮，酒精等有机溶剂中。
线性酚醛树脂是甲醛和苯酚聚合得到的，常以草酸为催化剂，加热回流，聚合反应得以完成。
由于加入的甲醛的量少，只能生成低分子线性聚合物。
反应混合物在高温脱水、冷却后粉碎，混入5%-15%的六亚甲基四胺，加热即可迅速发生交联。
酚醛树脂塑料是第一个商品化的人工合成聚合物，具有高强度和尺寸稳定性好、抗冲击、抗蠕变、抗溶剂和耐湿气性能良好等优点。
大多数酚醛树脂都需要加填料增强，通用级酚醛树脂常用粘土、矿物质粉和短纤维来增强，工程级酚醛级则要用玻璃纤维、石墨及聚四氟乙烯来增强使用温度可达150℃-170℃。
酚醛聚合物可作为粘合剂，应用于胶合板、纤维板和砂轮，还可作为涂料，例如酚醛清漆。
含有酚醛树脂的复合材料可以用于航空飞行器，它还可以做成开关、插座及机壳等。
本实验在草酸存在下进行苯酚和甲醛的聚合。
实验原理：CHHO H +CH HHO +OHOHCH 2OHOHOHH 2COHCHH O OH+n nOHH 2Cnn +H 2O三、化学试剂和仪器实验试剂：苯酚、甲醛水溶液、草酸（催化剂）、六亚甲基四胺 实验仪器：三颈瓶、球形冷凝管、机械搅拌器、温度计、恒温水浴锅、烧杯、搅拌棒、玻璃棒、铁架台 实验装置图：五、实验步骤现象及分析六、实验注意事项1.要将原料加完之后再升温，以保证原料有充分的时间去溶解；2.在转入苯酚和甲醛水溶液时尽量要快；七、实验结果及分析八、思考题1.苯酚、甲醛、水和草酸的添加顺序？答：依次加入苯酚、蒸馏水、甲醛水溶液、最后再加草酸。
半导体级酚醛树脂
半导体级酚醛树脂半导体级酚醛树脂是一种高分子化合物，由苯酚和甲醛两种重要原料通过缩聚反应而成。
在半导体工业中，酚醛树脂具有很好的耐热性、耐酸性和耐氧化性，因此被广泛应用于半导体器件和组件中，如导电油、光导纤维、电解电容器等。
本文将从合成方法、应用领域以及发展趋势等方面对半导体级酚醛树脂进行介绍。
一、合成方法1.原料选择在合成酚醛树脂时，苯酚和甲醛是两种常用的原料。
它们都具有很好的溶解性和挥发性，可以通过煤油或丙酮等有机溶剂进行提取。
为了获得更高纯度的原料，我们需要使用纯度较高的硫酸铵或硫酸铜进行提取，以保证反应物的纯度。
2.合成路线目前，最常见的合成酚醛树脂的方法是由苯酚和甲醛合成。
具体合成路线有直接苯酚法、间歇法等多种。
其中，直接苯酚法具有工艺简单、原料易得等优点，但产物收率较低；间歇法则具有产物收率高、分子量分布均匀等优点，但操作过程较复杂。
3.反应条件控制为了获得具有良好性能的酚醛树脂，我们需要控制反应条件，如反应温度、反应时间、反应压力等。
通常情况下，反应温度在120℃～180℃之间，反应时间为1～4小时。
在实际生产中，反应条件的变化会直接影响产物的性能。
二、应用领域1.光电子器件在光电子器件中，半导体级酚醛树脂具有很好的耐热性、耐酸性和耐氧化性，因此被广泛应用于光导纤维、光电子开关、光电二极管等器件中。
它可以用于对光信号进行传输和处理，同时还可以对光信号进行衰减，保证光信号传输的质量和稳定性。
2.半导体器件在半导体器件中，半导体级酚醛树脂同样具有重要作用。
如导电油、电解电容器、绝缘油等，可以用于保护器件、降低器件的摩擦系数等，以提高器件的性能和可靠性。
3.电解电容器在电解电容器中，半导体级酚醛树脂可以作为绝缘层，用于隔离电容器正负极之间的空间，以提高电解电容器的绝缘性能和电容值。
此外，还可以作为电容层，用于制作动态电容器等。
三、发展趋势随着科学技术的不断发展，半导体级酚醛树脂在材料性能和应用领域也在不断拓展。