rena清洗制绒设备培训

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Button bar / 按钮栏

Operation modes of the machine / 机器的操作模式 1.Mode Off / Off 模式 The background color of the status display is blue. The module is switched off and no outputs are switched on./该模式下状态的背景颜色是蓝 色,所有模块是关闭的,没有任何输出。 2. Mode Manual / 手动模式 The background color of the status display is yellow. The module is in the manual mode. /该模式下状态的背景颜色是黄色,模块处 于手动模式。 3.Mode Service / 维护模式 The background color of the status display is red. The module is in the service mode. /该模式下状态的背景颜色是红色,模块处 于维护模式。 4.Mode Auto / 自动模式 The background color of the status display is green . The module is in the automatic operation mode. /该模式下状态的背景颜色是绿色,模块处于自 动模式。
Software interface of RENA InTex RENA InTex 的软件界面
Software interface of RENA InOxSide RENA InOxSide 的软件界面
Status boxes and info box 状态框和信息框
第一个显示区域:模 块操作模式。 第二个显示区域:错 误指示。 第三个显示区域:模 块状态显示。 信息框,附加的显示 区域,显示模块的一 些重要的过程值。
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Operator Process engineer (process) Service Administrator
操作工 工艺工程师 维护人员 管理员
Part 3 operating system/操作系统
3.1 Main screen module overview / 主界面模块概观 In the main screen, a machine overview is shown.The main screen is divided into three areas. Info bar ,Button bar , main screen. 在主界面下,显示了机器的概观。主界面被分成3个 区域:信息栏,按钮栏 ,主界面 Conveyor modules: / 传送带模块(滚轮模块) • Conveyor 1 • Conveyor 2 • Conveyor 3
Working process /工作流程
Intex
Input station Etch bath Dryer 1 Rinse 1 Alkaline Rinse
Output station
ACD
Rinse 3
Acidic Rinse
Rinse 2
InOxSide
Input station Etch bath Rinse 1 Alkaline Rinse Rinse 2
Hot air system 热风系统
General information / 概述
InTex Purpose: washing the speck and etch a suede on the surface of the wafers. /目的: 清洗硅片表面的污 渍,并在硅片表面刻蚀出绒面。 InOxSide Purpose : remove the phosphor glass and the phosphor endowed silicon film from the bottom surface and the edges of the wafers. /目的 : 去除硅 片表面的磷硅玻璃;去掉背面及四周的P-N结。
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• Station 1 - Etch bath: The wafers are etched with an acid mixture. / 槽 1 – 制绒槽 : 用酸液在硅片表面刻蚀出绒面。 • Station 2 - Rinse 1: The wafers are exempt from the media of the previous station. /槽 2 – 漂洗槽1: 去除来自上一个槽子的化学品。 • Station 3 - Alkaline clean bath: The wafers will be alkaline rinsed to avoid specking./槽 3 – 碱洗槽 : 用碱液清洗硅片表面的污渍。 • Station 4 - Rinse 2: The wafers are exempt from the media of the previous station. /槽 4 – 漂洗槽2: 去除来自上一个槽子的化学品。 • Station 5 - Acidic clean bath: The wafers surface will be treated with an acid mixture. /槽 5 – 酸洗槽 : 用酸液清洗硅片表面。 • Station 6 - Rinse 3: The wafers are exempt from the media of the previous station. /槽 6 – 漂洗槽 3: 去除来自上一个槽子的化学品。 • Station 7 – Air Channel Dryer: In the last step the wafers are air dried on both sides. /槽 7 –空气干燥槽: 在最后一步中,硅片的两面 使用热空气吹风干燥.
Part 1 Components of the RENA RENA清洗机的组件
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• 1 InTex. / InTex 1 台 • 2 intermediate transports (input station/output station). /进料台、出料台各1个 • 1 chiller. /冷却器1个 • 1 electrical cabinet. /电器柜1个
Training For RENA
RENA培训
2011-5-1
Overview

/ 概述
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Part 1:components of the rena /第一部分:RENA清洗 机的组件 Part 2:turn on the rena /第二部分:RENA的开机 Part 3:operating system /第三部分:操作系统 Part 4:turn off the rena /第四部分:RENA的关机
Turn on the RENA / login RENA的开机 / 登陆
User management / 用户组管理
Dependent on the user group, various functions are enabled or disabled. (10.6.1) 不同的用户组,拥有各种不同的权限。
Info bar / 信息栏
In the info bar, the following information is displayed: / 在信息栏中,以下信息被显示 : 1. Time / 时间 2. Date / 日期 3. Operating mode: / 操作模式 - Current operating mode (OM) of the complete machine. / 当前机器的操作模式。 4. Operating mode request: / 操作模式请求 - If an operation mode change-over is performed, this is always a request. The controller checks if the requested operating mode is feasible. Decisive for this is the status of the individual modules. An OM change can take place only when all modules are available for the new OM. - 在操作模式改变之前,都会发送一个请求给控制器。控制器再逐一检查请求的操作模 式是否可执行,只有当所有的模块都准备好在新模式下运行之后,操作模式的改变才会 成功。 5. Login name: / 登陆名 - Name of the current user logged in the system. / 当前登陆系统的用户名字
• 1 InOxSide. /InOxSide 1 台 • 2 intermediate transports (input station/output station). /进料台、出料台各1个 • 1 chiller. /冷却器1个 • 1 electrical cabinet. /电器柜1个
Button bar / 按钮栏
Sign off from the System / 从系统中退出 Help file for currently visible main screen / 当前 界面的帮助文件 User management / 用户管理 To the main screen media supplies / 进入材料供应界面 Back from media supplies / 从材料供应界面返回主界面 Return back to the main screen from all other screens / 从其他界面返回主界面
Output station
ACD
Rinse 3
Acidic Rinse
工作流程
Intex
上料台 制绒槽 吹 干 漂洗 1# 碱 洗
下料台
干 燥
漂洗 3#
酸 洗
漂洗 2#
InOxSide
上料台 刻蚀槽 漂洗 1# 碱 洗 漂洗 2#
下料台
干 燥
漂洗 3#
酸 洗
Stations
/ 各槽子位置图
Stations
InOxSide
Checking before power on/开机前检查
CDA
Checking before power on/开机前检查
Cold-water
Cold water
Turn on the RENA / RENA 开机
Step 2. power on ,the switch is located at electrical cabinet . /第二步:开机,开关位于电器柜上 Step 3. turn on the displayer;wait a moment. /第三步 :打开显示器,等待,直至主界面出现。 Step 4. Login 。Click the “Login” button at the main screen,enter the login name and the password at the message window,click “Login” . / 第四步:登陆。点击 Login 进入登陆界面,输入用户名及密码,点击Login 进入。
Part 2 Turn on the RENA 第二部分 RENA 的开机
Step 1. Check the media supply such as DI-water、CDA、HF 、 HNO3、 HCl、KOH and so on. / 检查气、水和化学品的外部供应。例如DIwater、CDA、HF 、HNO3、 HCl、KOH 等等.
intex / inOxSide
Chiller(冷却器)
Electrical Cabinet (电器柜)
Electrical Cabinet Inside 电器柜内部图
Chemical pipes and exhaust pipes 化学品供应管和排风管
CDA and DI-water pipes 压缩空气和screen module overview 主界面模块概观
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Process modules: / 过程模块 • Etch bath • Dryer etch bath • Rinse 1 • Alkaline clean bath • Rinse 2 • Acidic clean bath • Rinse 3 • Air Channel Dryer
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