纳米压印图章技术

纳米压印图章
NIL Technology (NILT) 是一家以制作并经销纳米压印光刻模版为主，集压印服务、生产以及咨询为一体的专业技术公司。

NILT同时还致力于拓展纳米结构的新兴应用领域，并取得了卓越的成就。

我们的模版可以根据客户对所刻图案的样式和材料的具体要求进行特别加工。

•模版的图案尺寸可在20nm以下
•大至150nm的圆形或方形模版
•模版材料：硅，石英，镍等
•适用于各种纳米压印版式的模版
我们的模版可以广泛应用于不同的领域（但不仅限于以下领域），例如：•可再生能源
•微流体、纳流体
•发光二极管和激光器
•生命科学，如芯片实验室系统
•光学
•射频元器件
•数据存储
•安全系统
•半导体
纳米压印模版
NILT根据客户订单的要求来生产模版。

我们致力于为客户提供最高质量的纳米压印模版。

我们的模版可用于热压印和紫外压印，并适用于所有压印版式，其结构尺寸可在20 nm以下。

NILT为您提供：
•最小结构尺寸可在20 nm以下
•结构周期尺寸可在40nm以上（取决于结构尺寸）
•结构高度（典型宽高比为2：1）
•模版半径大至150nm
•凸起和凹陷图型模板
•模版材料：硅，石英，镍等
NILT 所在的生产车间可以用任何净室所兼容的材料来制作纳米压印模版。

其中以硅、石英和镍为材料比较典型，但是我们也可以根据您的要求适用其他不同的材料。

例如：
• 晶片，匀胶铬版等
• 二氧化硅 • 氮化硅
• 金属 ( 如：金，钛，铝，铬，银，镍，铂 ) •
SU-8 或其他交联聚合物
NILT 的模版基于其专利的微机电的模版基于其专利的微机电系统技术系统技术系统技术，，从而在最大程度上确保模版压印的均一性从而在最大程度上确保模版压印的均一性。

• 模版设计方面：聚合物流动，模版图型，模版图型密度，模版图型高度，模版材
料等
• 压印聚合物选取方面：流动特性， 结构刻蚀的选择性 ， Lift-off 过程的特性 ，
聚合物系统的可用性 ，加工的时间等
• 压印参量：压印温度，压印压力，压印时间等 • 压印工序的选择
NILT 标准模版
在 2 英尺范围内设有 9 个图案区域，其中每个图案区域又划分为 16 个小型区域（每个小型区域的间隙为 200 µm ），上面刻有尺寸为 250 nm, 200 nm, 150 nm 甚至小到 100 nm 的各种图案，如方格、十字形槽、直线和点。

模版半径选择范围一般是 2 英寸（ 50 mm ）、 3 英寸（ 75 mm ）和 4 英寸（ 100 mm ）。

最适宜的测试有：
•
热纳米压印
• 透明基底的紫外纳米压印
• 适用于（紫外）软纳米压印（透明）聚合物模版的铸造
模版规格：
•
模版材料：镍 ( 模版厚度为 300 µm)
• 模版可为半径是 2 英寸 (50 mm) 或 4 英寸 (100 mm) 的圆形设计，或是
任一标准设计的矩形尺寸
•结构尺寸： 250 nm, 200 nm, 150 nm 和 100 nm
•结构高度： 105nm（对于直线、点和方格形图案，x=100 nm ，高度为 65nm ）纳米压印光刻
纳米压印光刻是一种经济快速的生产纳米结构的技术。

纳米压印的突出优势在于它具有电子束光刻才能达到的精度（20nm以下），同时又是一种大面积平行快速加工的方法，克服了电子束光刻生产效率的问题。

电子束光刻是一种很耗时的系列工序，用于纳米结构模版的制造。

电子束光刻可用来制造模版，由此就可以应用快速的压印工序将模版图案复制到基底上的高分子聚合物薄膜上。

通过运用这种方法，就不必使用耗时的电子束光刻而获得高精度结构的复制品了。

纳米压印是一种批量生产纳米结构尺寸图案的技术。

一般而言，有两种纳米压印方式可被采用：热纳米压印 和 紫外纳米压印 。

纳米结构的使用可以归结为以下三个范畴：
1.应用纳米压印光刻技术缩减目前一些结构器件的结构尺寸，例如：电脑芯片和
硬盘，它们里面晶体管和蓄电池的密度会随着尺寸的降低而增加
2.纳米技术新的应用领域，例如：由于纳米结构尺寸的变化而导致其物理特性的
变化，像表面能的控制取决于表面上纳米尺寸的图型
3.批量复制用电子束制作的图型
热纳米压印
热压印所用的聚合物使用旋涂的方法沉积在基底的表面。

模版、基底和聚合物一起被加热到玻璃化转变温度以上，并且模版被压到聚合物里。

在此之后，再将模版和基底的温度降到聚合物的玻璃化转变温度以下，分离模板和基底 。

从而，模版的反向图案被复制在了聚合物上。

A. 将模版和涂有热纳米压印聚合物的基底准备好
B. 模版和基底被加热到聚合物的玻璃化转变温度以上，并且模版被压印到聚合物里
C. 当模版被填充到聚合物且模版和基底的温度下降以后，将进行脱模（模版与压印好
的 聚合物相分离）
D. 聚合物残留层被祛除
紫外纳米压印
在紫外纳米压印过程中，使用透明模板和紫外光敏感聚合物压印胶。

模版先被压印到聚合物里，然后对紫外光敏感的压印胶被通过透明模板的紫外光固化。

在紫外压印过程中，压印胶可以通过旋涂的方法沉积在整个基底表面，也可以是分别滴在每一个压印区域上。

A. 将模版、基底和涂有可以通过紫外光照射固化的聚合物准备好
B. 模版被压印到聚合物里
C. 当模版被填充到聚合物里以后，紫外光透过模板固化聚合物
D. 将模版与基底分离
E. 聚合物残留层被祛除
纳米压印后处理
压印好的聚合物一般可以被用做以下三个方面：
•蚀刻掩模版
•Lift-off的模板
•用作器件，比如基于聚合物的微流体或者光学器件
蚀刻工序流程：
G1.压印好的聚合物被用作蚀刻掩模版
G2.聚合物被溶解
Lift-off工序流程：
F1.金属物被沉积在基底/聚合物上
F2.聚合物被溶解，和压印模板一样的金属图形被留在了基底上面
常见问题解答
若您需要我们向您提供产品报价，则请您将以下几点告知我们：
•模版规格（如：模版是圆形还是方形，或是适用您压印设备的其他技术参量需要）
•模版材料（如硅，石英，镍等）
•模版图案（对于较为简单的设计，文字描述即可；至于比较复杂的设计，请您将附有详细模版图案的文件以gds格式发送给我们）
•结构高度。