【CN110095946A】投影光学系统、曝光装置以及物品的制造方法【专利】
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所述投影光学系统还具有： 第1旋转部，使所述第1透镜及所述第2透镜的一方绕与所述第1方向平行的第1轴旋转； 以及 第2旋转部，使所述第3透镜及所述第4透镜的一方绕与所述第1方向平行的第2轴旋转。 2 .根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于，还具有： 控制部，控制所述第1旋转部以及所述第2旋转部，以使得抵消通过利用所述第1光学系 统以及所述第2光学系统校正所述投影光学系统的倍率而产生的所述投影光学系统的像 散。 3 .根据权利要求2所述的投影光学系统，其特征在于， 所述控 制部控 制所述 第1旋转部以 及所述 第2旋转部 ，以 使得使所述 第1透镜以 及所述 第2透镜的一方和所述第3透镜以及所述第4透镜的一方同时旋转。 4 .根据权利要求2所述的投影光学系统，其特征在于， 所述控制部求出为了抵消通过利用所述第1光学系统以及所述第2光学系统将所述投 影光学系统的倍率校正为目标值而产生的所述投影光学系统的像散而所需的、所述第1透 镜及所述第2透镜的 一方以 及所述第3透镜及所述第4透镜的 一方的 各自的 旋转量 ，根据所 述旋转量控制所述第1旋转部以及所述第2旋转部。 5 .根据权利要求2所述的投影光学系统，其特征在于， 所述像散包括从所述第2方向以及所述第3方向旋转了45度的方向的像散。 6 .根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于， 所述第1轴和所述第2轴存在于同一直线上。 7 .根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于，还具有： 第3光学系统 ，该第3光学系统配置于所述物面与所述第1平面镜之间或者所述第2平面 镜与所述像面之间，在所述第2方向以及所述第3方向上以同一倍率校正所述投影光学系统 的倍率。 8 .根据权利要求7所述的投影光学系统，其特征在于， 所述第1透镜以及所述第2透镜能够变更所述第1方向上的间隔， 所述第3透镜以及所述第4透镜能够变更所述第1方向上的间隔， 所述第3光学系统包括能够变更所述第1方向上的间隔的平凸透镜以及平凹透镜， 所述投 影光学 系统 还具 有控 制部 ，该 控 制部以 使所述投 影光学 系统的 倍率成 为目 标
( 54 )发明 名称 投影光学系统、曝光装置以及物品的制造方
法 ( 57 )摘要
本发明提供投影光学系统、曝光装置及物品 的 制造方法。投影光学系统 ，具有 ：第1光学系统 ， 配置于物面与第1平面镜之间 ，校正与被定义为 铅直方向的第1方向正交的第2方向的投影光学 系统的 倍率 ；第2光学 系统 ，配置于第2平面镜与 像面之间 ，校正与第1方向 及第2方向正交的 第3 方向的 投影光学 系统的 倍率 ，第1光学 系统包括 沿着第1方向排列的在第2方向及第3方向具有不 同 光焦度的 第1透镜及第2透镜 ，第2光学 系统包 括沿第1方向排列的在第2方向及第3方向具有不 同光焦度的第3透镜及第4透镜，还具有：第1旋转 部 ，使第1透镜及第2透镜一方绕 与第1方向 平行 的 第1 轴旋转 ；第2旋转部 ，使第3透镜及第4透镜 一方绕与第1方向平行的第2轴旋转。
(74)专利代理机构 中国国际贸易促进委员会专 利商标事务所 11038
代理人 孙蕾
(51)Int .Cl . G03F 7/20(2006 .01) G02B 15/14(2006 .01) G02B 17/06(2006 .01)
(10)申请公布号 CN 110095946 A (43)申请公布日 2019.08.06
2
CN 110095946 A
权 利 要 求 书
2/4 页
值、且使所述投影光学系统的 像散成为目标值的方式 ，控制所述第1透镜与所述第2透镜在 所述第1方向上的间隔、所述第3透镜与所述第4透镜在所述第1方向上的间隔、所述平凸透 镜与所述平凹透镜在所述第1方向上的间隔、所述第1透镜及所述第2透镜的一方的旋转角 以及所述第3透镜及所述第4透镜的一方的旋转角。
第2光学 系统 ，配置于所述第2平面镜与所述像面之间 ，校正与所述第1方向 及所述第2 方向正交的第3方向上的所述投影光学系统的倍率，
所述第1光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第2方向以及所述第3方向上具 有不同的光焦度的第1透镜以及第2透镜，
所述第2光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第2方向以及所述第3方向上具 有不同的光焦度的第3透镜以及第4透镜，
9 .根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于， 在所述物面以及所述像面是远心的。 10 .根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于， 所述第1透镜、所述第2透镜、所述第3透镜以及所述第4透镜包括柱面透镜或者复曲面 透镜。 11 .一种投影光学系统，将来自物面的光按照第1平面镜、第1凹面镜、凸面镜、第2凹面 镜、第2平面镜的顺序反射而成像于像面，其特征在于，所述投影光学系统具有： 第1光学系统 ，配置于所述物面与所述第1平面镜之间 ，校正与被定义为铅直方向的 第1 方向正交的第2方向上的所述投影光学系统的倍率；以及 第2光学 系统 ，配置于所述第2平面镜与所述像面之间 ，校正与所述第1方向 及所述第2 方向正交的第3方向上的所述投影光学系统的倍率， 所述第1光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第1方向以及所述第2方向上具 有不同的光焦度的第1透镜以及第2透镜， 所述第2光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第1方向以及所述第2方向上具 有不同的光焦度的第3透镜以及第4透镜， 所述第1透镜以及所述第2透镜的一方按照从相互具有的所述光焦度的方向一致的基 准状态旋转后的状态配置、且所述第3透镜以及所述第4透镜的一方按照从相互具有的所述 光焦度的方向一致的基准状态旋转后的状态配置，以抵消通过利用所述第1光学系统以及 所述第2光学系统校正所述投影光学系统的倍率而产生的所述投影光学系统的像散。 12 .一种曝光装置，其特征在于，具有： 照明光学系统，用来自光源的光对掩模进行照明；以及 投影光学系统，将所述掩模的图案的像投影到基板， 所述投影光学系统将来自所述掩模的光按照第1平面镜、第1凹面镜、凸面镜、第2凹面 镜、第2平面镜的顺序反射而成像于所述基板， 所述投影光学系统具有： 第1光学系统 ，配置于所述掩模与所述第1平面镜之间 ，校正与被定义为铅直方向的 第1 方向正交的第2方向上的所述投影光学系统的倍率；以及 第2光学 系统 ，配置于所述第2平面镜与所述基板之间 ，校正与所述第1方向 及所述第2 方向正交的第3方向上的所述投影光学系统的倍率， 所述第1光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第2方向以及所述第3方向上具 有不同的光焦度的第1透镜以及第2透镜， 所述第2光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第2方向以及所述第3方向上具 有不同的光焦度的第3透镜以及第4透镜， 所述投影光学系统还具有： 第1旋转部，使所述第1透镜及所述第2透镜的一方绕与所述第1方向平行的第1轴旋转；
权利要求书4页 说明书10页 附图6页
CN 110095946 A
CN 110095946 .一种投影光学系统 ，将来自物面的光按照第1平面镜、第1凹面镜、凸面镜、第2凹面 镜、第2平面镜的顺序反射而成像于像面，其特征在于，所述投影光学系统具有：
第1光学系统 ，配置于所述物面与所述第1平面镜之间 ，校正与被定义为铅直方向的 第1 方向正交的第2方向上的所述投影光学系统的倍率；以及
( 19 )中华人民 共和国国家知识产权局
( 12 )发明专利申请
(21)申请号 201910065482 .1
(22)申请日 2019 .01 .24
( 30 )优先权数据 2018-012947 2018 .01 .29 JP
(71)申请人 佳能株式会社 地址 日本东京
(72)发明人 池本尚司
( 54 )发明 名称 投影光学系统、曝光装置以及物品的制造方
法 ( 57 )摘要
本发明提供投影光学系统、曝光装置及物品 的 制造方法。投影光学系统 ，具有 ：第1光学系统 ， 配置于物面与第1平面镜之间 ，校正与被定义为 铅直方向的第1方向正交的第2方向的投影光学 系统的 倍率 ；第2光学 系统 ，配置于第2平面镜与 像面之间 ，校正与第1方向 及第2方向正交的 第3 方向的 投影光学 系统的 倍率 ，第1光学 系统包括 沿着第1方向排列的在第2方向及第3方向具有不 同 光焦度的 第1透镜及第2透镜 ，第2光学 系统包 括沿第1方向排列的在第2方向及第3方向具有不 同光焦度的第3透镜及第4透镜，还具有：第1旋转 部 ，使第1透镜及第2透镜一方绕 与第1方向 平行 的 第1 轴旋转 ；第2旋转部 ，使第3透镜及第4透镜 一方绕与第1方向平行的第2轴旋转。
(74)专利代理机构 中国国际贸易促进委员会专 利商标事务所 11038
代理人 孙蕾
(51)Int .Cl . G03F 7/20(2006 .01) G02B 15/14(2006 .01) G02B 17/06(2006 .01)
(10)申请公布号 CN 110095946 A (43)申请公布日 2019.08.06
2
CN 110095946 A
权 利 要 求 书
2/4 页
值、且使所述投影光学系统的 像散成为目标值的方式 ，控制所述第1透镜与所述第2透镜在 所述第1方向上的间隔、所述第3透镜与所述第4透镜在所述第1方向上的间隔、所述平凸透 镜与所述平凹透镜在所述第1方向上的间隔、所述第1透镜及所述第2透镜的一方的旋转角 以及所述第3透镜及所述第4透镜的一方的旋转角。
第2光学 系统 ，配置于所述第2平面镜与所述像面之间 ，校正与所述第1方向 及所述第2 方向正交的第3方向上的所述投影光学系统的倍率，
所述第1光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第2方向以及所述第3方向上具 有不同的光焦度的第1透镜以及第2透镜，
所述第2光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第2方向以及所述第3方向上具 有不同的光焦度的第3透镜以及第4透镜，
9 .根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于， 在所述物面以及所述像面是远心的。 10 .根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于， 所述第1透镜、所述第2透镜、所述第3透镜以及所述第4透镜包括柱面透镜或者复曲面 透镜。 11 .一种投影光学系统，将来自物面的光按照第1平面镜、第1凹面镜、凸面镜、第2凹面 镜、第2平面镜的顺序反射而成像于像面，其特征在于，所述投影光学系统具有： 第1光学系统 ，配置于所述物面与所述第1平面镜之间 ，校正与被定义为铅直方向的 第1 方向正交的第2方向上的所述投影光学系统的倍率；以及 第2光学 系统 ，配置于所述第2平面镜与所述像面之间 ，校正与所述第1方向 及所述第2 方向正交的第3方向上的所述投影光学系统的倍率， 所述第1光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第1方向以及所述第2方向上具 有不同的光焦度的第1透镜以及第2透镜， 所述第2光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第1方向以及所述第2方向上具 有不同的光焦度的第3透镜以及第4透镜， 所述第1透镜以及所述第2透镜的一方按照从相互具有的所述光焦度的方向一致的基 准状态旋转后的状态配置、且所述第3透镜以及所述第4透镜的一方按照从相互具有的所述 光焦度的方向一致的基准状态旋转后的状态配置，以抵消通过利用所述第1光学系统以及 所述第2光学系统校正所述投影光学系统的倍率而产生的所述投影光学系统的像散。 12 .一种曝光装置，其特征在于，具有： 照明光学系统，用来自光源的光对掩模进行照明；以及 投影光学系统，将所述掩模的图案的像投影到基板， 所述投影光学系统将来自所述掩模的光按照第1平面镜、第1凹面镜、凸面镜、第2凹面 镜、第2平面镜的顺序反射而成像于所述基板， 所述投影光学系统具有： 第1光学系统 ，配置于所述掩模与所述第1平面镜之间 ，校正与被定义为铅直方向的 第1 方向正交的第2方向上的所述投影光学系统的倍率；以及 第2光学 系统 ，配置于所述第2平面镜与所述基板之间 ，校正与所述第1方向 及所述第2 方向正交的第3方向上的所述投影光学系统的倍率， 所述第1光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第2方向以及所述第3方向上具 有不同的光焦度的第1透镜以及第2透镜， 所述第2光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第2方向以及所述第3方向上具 有不同的光焦度的第3透镜以及第4透镜， 所述投影光学系统还具有： 第1旋转部，使所述第1透镜及所述第2透镜的一方绕与所述第1方向平行的第1轴旋转；
权利要求书4页 说明书10页 附图6页
CN 110095946 A
CN 110095946 .一种投影光学系统 ，将来自物面的光按照第1平面镜、第1凹面镜、凸面镜、第2凹面 镜、第2平面镜的顺序反射而成像于像面，其特征在于，所述投影光学系统具有：
第1光学系统 ，配置于所述物面与所述第1平面镜之间 ，校正与被定义为铅直方向的 第1 方向正交的第2方向上的所述投影光学系统的倍率；以及
( 19 )中华人民 共和国国家知识产权局
( 12 )发明专利申请
(21)申请号 201910065482 .1
(22)申请日 2019 .01 .24
( 30 )优先权数据 2018-012947 2018 .01 .29 JP
(71)申请人 佳能株式会社 地址 日本东京
(72)发明人 池本尚司