型半导体材料的设计与性能分析
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景德镇陶瓷学院
半导体课程设计报告
设计题目n型半导体材料的设计与性能分析专业班级
姓名
学号
指导教师
完成时间
一﹑杂质半导体的应用背景
半导体中的杂质对电离率的影响非常大,本征半导体经过掺杂就形成杂质半导体,半导体中掺杂微量杂质时,杂质原子的附近的周期势场的干扰并形成附加的束缚状态,在禁带只能够产生的杂质能级。能提供电子载流子的杂质称为施主杂质,相应能级称为施主能级,位于禁带上方靠近导带底附近。
一、N型半导体在本征半导提硅(或锗)中掺入微量的5价元素,例如磷,则磷原子就取代了硅晶体中少量的硅原子,占据晶格上的某些位置。
磷原子最外层有5个价电子,其中4个价电子分别与邻近4个硅原子形成共价键结构,多余的1个价电子在共价键之外,只受到磷原子对它微弱的束缚,因此在室温下,即可获得挣脱束缚所需要的能量而成为自由电子,游离于晶格之间。失去电子的磷原子则成为不能移动的正离子。磷原子由于可以释放1个电子而被称为施主原子,又称施主杂质。
在本征半导体中每掺入1个磷原子就可产生1个自由电子,而本征激发产生的空穴的数目不变。这样,在掺入磷的半导体中,自由电子的数目就远远超过了空穴数目,成为多数载流子(简称多子),空穴则为少数载流子(简称少子)。显然,参与导电的主要是电子,故这种半导体称为电子型半导体,简称N型半导体。
二、P型半导体在本征半导体硅(或锗)中,若掺入微量的3价元素,如硼,这时硼原子就取代了晶体中的少量硅原子,占
据晶格上的某些位置。硼原子的3个价电子分别与其邻近的3个硅原子中的3个价电子组成完整的共价键,而与其相邻的另1个硅原子的共价键中则缺少1个电子,出现了1个空穴。这个空穴被附近硅原子中的价电子来填充后,使3价的硼
原子获得了1个电子而变成负离子。同时,邻近共价键上出现1个空穴。由于硼原子起着接受电子的作用,故称为受主原子,又称受主杂质。
在本征半导体中每掺入1个硼原子就可以提供1个空穴,当掺入一定数量的硼原子时,就可以使半导体中空穴的数目远大于本征激发电子的数目,成为多数载流子,而电子则成为少数载流子。显然,参与导电的主要是空穴,故这种半导体称为空穴型半导体,简称P型半导体。
由于本征载流子浓度随温度的迅速变化,用本征材料制作的器件性能很不稳定,所以制造半导体器件需用含适当杂质的半导体材料。
从20世纪70年代到现在,杂质掺杂主要是由高温的扩散方式来完成,杂质原子通过气相源或掺杂过的氧化物扩散或淀积到基体的表面上,这些杂质浓度将从表面逐渐下降,而杂质分布主要是由高温与扩散时间来决定的。在半导体中,杂质对电导率的影响非常大,本征半导体经过掺杂就形成杂质半导体,一般可分为N型半导体和P型半导体。半导体中掺入微量杂质时,杂质原子附近的周期势场受到干扰并形成附加的束缚状态,在禁带中产生附加的杂质能级。能提供电子载流子的杂质称为施主杂质,相应能级称为施主能级,位于禁带上方靠近导带底附近。相应地,能提供空穴载流子的杂质称为受主杂质,相应能级称为受主能级,位于禁带下方靠近价带顶附近。
对于该半导体材料的性能要求是工作温度区间在300~500K之间;饱和区杂质要完全电离,即磷的浓度在1011~3*1017cm-3)的范围内;电导率相比于本征半导体增加非常大;载流子浓度
n保持等于杂质浓度。
二﹑参数说明
表1 Si半导体材料的性质
注该数据来源于刘恩科、朱秉升、罗晋生编著,《半导体物理学》,电子工业出版社,2008年第七版。
表2 物理常数
三﹑性能指标分析
(1) 杂质全部电离温度
()
2
3
3*
00h 2ln ln 231n D D m k N D T T k E π⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛+⎪⎭
⎫ ⎝⎛=⎪⎭⎫
⎝⎛⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛∆-
式中 D -—未电离施主占施主杂质数的百分比 D N —施主浓度 k 0─波尔兹曼常数 M*n ─电子有效质量 h ─普朗克常量 D E ─施主能级 T ─温度
利用上述关系式对不同的D E ∆和D N ,可以决定杂质基本上全部电离(90%)所需的温度。
D N =3*1017,D
E ∆=0.044eV ,k 0=1.380*10-23J/K ,*
n m =1.062m 0,m 0=9.108*10-31kg
D -=10%,h =6.625*10-34J ·s 带入式得:T ≈300K (2) 载流子浓度分析 1.低温弱电离区
当温度很低时,大部分施主杂质能级仍为电子所占据,只有很少量的施主杂质发生电离,导带中的电子全部由电离施主杂质所提供。P 0=0,n o =n +D ,因此:
⎪⎪⎭
⎫
⎝
⎛--+=⎪⎪⎭⎫ ⎝
⎛--T k E E N T
k E E N F D D
F c c 00exp 21exp
式中 c N ─导带的有效状态密度 C E ─导带底能量 F E ─费米能级 上式
即为杂质电离是的电中性条件。因+
D n 远比D N 小,所以
1)ex p(0>>--
T
k E E F
D ,则式简化为:
⎪⎪⎭
⎫
⎝⎛⎪⎭⎫ ⎝⎛++=c D D c F N N T k E E E 2ln 220
上式
说明,低温弱电离区费米能级与温度﹑杂质浓度以及掺入何种杂质原子
有关。
E E C
E F
E D
T N C =0.11N D
(1)低温弱电离区 E F 与 T 的关系
将费米能级对温度求微商得:
()⎥⎦
⎤
⎢⎣⎡-⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛=-+⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛=232ln 22ln 222ln 2000c D c c D F N N k dT N d T k N N k dT dE ④ 图(1)可以看出T →0K 时,c N →0,dT
dE F
开始为∞+,E F 上升很快。随着c N 的增大,
dT
dE F
不断减小,E F 随温度升高而增大的速度变小。当温度上升使得D D c N e N N 11.0223
==-时,0=dT
dE
F ,F E 达到极值。因此杂质含量越高,F E 达到
极值的温度也越高。当温度再升高时,0
dE F
,,E F 开始下降。 2.中间电离区
温度继续升高,当D c N N >2后,式中的第二项为负值,这时F E 下降至2
D
c E E +以下。当温度升高使F E =D E 时,则1ex p 0=-T
k E E F
D ,施主杂质有1/3电离。
3.强电离区
当温度升高至大部分杂质都电离时,这时c D N n ≈+,有1ex p
0<<-T
k E E D
F ,E 位于D E 之下。
⎪⎪⎭
⎫
⎝⎛+=c D c F N N Tk E E ln 0 ⑤
由上式可知,F E 由温度和施主杂质浓度所决定。 4.过渡区
当半导体处于饱和区和完全本征激发之间时,导带中的电子一部分来源于全部电离的杂质,另一部分则由本征激发提供,价带中产生一定量空穴电中性条件为: