对Ⅲ族氮化物三元合金的磁控反应性离子蚀刻
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对Ⅲ族氮化物三元合金的磁控反应性离子蚀刻
康卫红
【期刊名称】《等离子体应用技术快报》
【年(卷),期】1997(000)012
【总页数】2页(P6-7)
【作者】康卫红
【作者单位】无
【正文语种】中文
【中图分类】TN405.983
【相关文献】
1.用于CF4反应性离子蚀刻Si的非晶氢化碳掩模的选择性沉积 [J], 马丁
2.在ICP中反应性离子蚀刻Pb（ZrxTi1—x）O3薄膜 [J],
3.利用氢等离子体预处理实现对GaAs的光滑的反应性离子蚀刻 [J], 张殿莉
4.在磁控微波等离子体中蚀刻微细接触孔 [J], 文允监
5.GaN的高速磁控反应离子蚀刻 [J], 周华
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