一种新型的真空灭弧室用触头结构

专利名称：一种新型的真空灭弧室用触头结构专利类型：实用新型专利
发明人：李津利,马元杰,李艳敏,刘继君
申请号：CN202122379215.7
申请日：20210929
公开号：CN215644289U
公开日：
20220125
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本实用新型公开一种新型的真空灭弧室用触头结构，所述触头包括杯体、触指，所述触指为杯体侧壁开设的螺旋状斜槽，斜槽延伸至触头底部，所述触指相对杯体顶部的倾斜角度不大于22°，触指的首尾旋转角度大于100°；所述杯体内部设置有环状铁磁体，所述铁磁体上开设有竖向槽。

本实用新型整体采用杯状纵磁原理，能够满足较短尺寸的装配需求，并且在高度减小的情况下，该触头在开断短路电流时能产生足够强的纵向磁场满足短路电流的开断要求。

申请人：成都旭光电子股份有限公司
地址：610500 四川省成都市新都区新都镇新工大道318号
国籍：CN
代理机构：成都高远知识产权代理事务所(普通合伙)
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