电光效应和电光调制
物理效应及其应用—电光效应
• I = I 0 sin2Δφ/ 2 = I 0 sin2 [π/ 2 • V/Vλ/2]
(2-3)
• 这就是利用泡克尔斯效应进行电光强度或振 幅调制和光开关的原理。
2、电光双稳器
光学双稳器是指具有 两个稳定光强输出的装 置。如图2-5(a)所示, 输出究竟取那个值,由 输入光强Ii控制。
•入当IIi大i小于于I某c,域输值出I光c,强则突输跳出到光I强2值I。t取实I际1;的当光输学 双稳器没有这种可逆性,其输入-输出特性如图2-5 ( 输b出)由所I1示转。变当为输稳入定光值强I2由;小若变输大入,由在大输变入小为,I并b处不, 会 I 回线在a时。Ib,处输输出出才由由II2值2变转为变I为1I,1很值象,铁而磁是物在质输的入磁降至滞
一、按运输工具分类
• (二)铁路运输 • 1、铁路货物运输按照运输条件的不同分为按普通运输条件办
理的货物运输和按特殊运输条件办理的货物运输两种。
(1)普通货物指在铁路运送过程中,按一般条件办理的货物, 如煤、粮食、木材、钢材、矿建材料。 (2)按特殊条件运送的货物指由于货物的性质、体积、状态 等需要在运输过程中使用特别的车辆装运或需要采取特殊运输 条件和措施,才能保证货物完整和行车安全的货物,如超长、 集重、超限、危险和鲜活易腐等货物。具体分为3类: ① 超长、集重和超限的货物。 ② 危险货物。 ③ 鲜活货物。
电光调制
x2 y 2 z 2 + 2 + 2 =1 2 n1 n2 n3
为介质的主轴方向, 1.x,y,z为介质的主轴方向,在晶体内沿着主轴方 是互相平行的; 向的电位移D和电场强度E是互相平行的; 方向的折射率(主折射率) 2. n1、n2、n3为折射率椭球x,y和z方向的折射率(主折射率)。 折射率椭球方程可以描述光波在晶体中的传播特性。 折射率椭球方程可以描述光波在晶体中的传播特性。AeFra bibliotekiωc t
入射光的强度为
Ii =E E ∗ = Ex (0) + Ey (0) =2A 2
2
的晶体后,由于电光效应,Ex’和Ey’间就产 当光通过长度为L的晶体后,由于电光效应,Ex’和Ey’间就产 生了相位差 ∆ϕ ,用复数表示为
Ex ' ( L) = A E y ' ( L) = A exp(−i∆ϕ )
T =
∗
π V =2A sin 2 Vπ
2 2
调制器的透过率为
15
π V I out ∆ϕ ) = sin 2 = sin 2 ( Ii 2 2 Vπ
电光调制的基本原理及公式推导-强度调制
强度调制图
16
电光调制的基本原理及公式推导-强度调制
调制器的透过 率与外加电压 呈非线性关系 若调制器工作 在非线性电压 部分,调制光 将发生畸变
3
电光调制的基本原理及公式推导
n KDP为四方晶系,负单轴晶体, KDP为四方晶系,负单轴晶体, 1 = n2 = n0, n3 = ne 为四方晶系 电光张量为
KDP晶体独立的电光系数只有 KDP晶体独立的电光系数只有 γ 41和γ 63
4
电光调制的基本原理及公式推导
电光效应
1. 一次电光效应和晶体的折射率椭球
在主轴坐标中,折射率椭球及其方程为
x2 y 2 z 2 2 2 1 2 nx ny nz
式中nx、ny、nz为椭球三个主轴方向上的折射 率,称为主折射率
折射率椭球
对于单轴晶体(如本实验所用的LN晶体)有nx = ny = no, nz = ne,于是
4
1 [1 cos( U m sin t )] 2 2 U
2U
1 [1 sin( U m sin t )] 2 U
U 1 [1 ( m )sin t ] 2 U
即
T sin t
调制器输出的信号和调制信号虽 然振幅不同,但是两者的频率却 是相同的,输出信号不失真,为 线性调制
输出信号仍是“倍频”失真的信号
直流偏压U0在0伏附近或在 U 附近变化时, 由于工作点不在线性工作区,输出波形将失真 当 U 0 U 2 ,Um> U 时,调制器的工作点虽然选定 在线性工作区的中心,但不满足小信号调制的要求,工作 点虽然选定在了线性区,输出波形仍然是失真的。
物理实验中心网址:
性电光效应
物理实验中心网址:
电光效应
物理实验指导
2. LN晶体的横向电光调制
横向电光调制器如下图所示:
起偏器的偏振方向平行于电光晶体的x轴,检偏器的偏振方向平行于y轴,因 此入射光经起偏器后变为振动方向平行于x轴的线偏振光,它在晶体的感应轴 x′和y′上的投影的振幅和相位均相等,将位于晶体表面(z=0)的光波设为
电光效应
物理实验指导
三、实验原理
电光效应:对晶体外加电场产生的人为双折射的现象。 电光效应分为: 一次电光效应(普克尔斯效应):介质折射率变化正比于电场强度 二次电光效应(克尔效应):介质折射率变化正比于电场强度的平方
第22讲 电光效应
222源自1 3 n x n0 63 E z 2 1 3 n y n0 63 E z 2 n z 0
电致折射 率的变化
KDP晶体沿z轴方向夹电场,单轴晶变成双轴晶,折射率椭 球绕主轴旋转了45度,此转角与外加电场的大小无关,其 折射率的变化与电场成正比。 单轴晶体在Pockel效应的作用下,关于Z轴的旋转对称被 破坏, nx ny nz 变成的双轴晶体。
2
介质中(非气体、液体、玻璃等), E 2代表Kerr效应,是二次电光效应,存在于所有介质中。
1 电光效应的张量形式为: n2 ij E j ijk E j Ek i 1, 2, 3 i 1, 2 6 j, k x, y, z
4
一般情况下: E
x2 y2 z2 2 2 2 41 E x yz 2 52 E y zx 2 63 E z xy 1 2 no no ne
8
22.1 电光效应
x2 y2 z2 2 2 2 41 E x yz 2 52 E y zx 2 63 E z xy 1 2 no no ne
在晶体上施加外电场电致折射率变化折射率椭球发生变化折射率椭球各系数在外电场的作用下的变化量221电光效应pockel效应电致折射率变化折射率椭球的形变主轴的方向与长度如果以公式表示可折射率椭球系数生变写成yzzxxyijij221电光效应kdppockel晶体的效应kdp晶体的电光系数矩阵为
激光原理与技术
电致折射率的变化
分析方法:一、电磁场理论 二、折射率椭球的方法 在折射率主轴坐标系中, 折射率椭球的一般方程表述:
x2 y 2 z 2 2 2 1 2 nx ny nz
光信息专业实验报告:光调制与光通信模拟系统实验 (2)
光信息专业实验报告:光调制与光通信模拟系统实验一、实验目的1. 学习电光调制、声光调制、磁光调制的机制及运用。
2. 了解光通信系统的结构。
二、光调制基本原理常用的光调制方式主要有电光调制、声光调制和磁光调制,分别是利用电光效应、声光效应和磁光效应来实现对光的调制的。
1. 电光调制器件工作原理光学介质的电光效应是指,当介质受到外电场作用时,其折射率将随外电场变化,介电系数和折射率都与方向有关,介质的光学特性由原来的各向同性变为各向异性。
目前已发现两种电光效应,一种是泡克耳斯(Pockels )效应,即折射率的变化量与外电场强度的一次方成比例;另一种是克尔(Kerr )效应,即折射率的变化量与外电场强度的二次方成比例。
利用泡克耳斯效应制成的调制器成为泡克耳斯盒,其中的光学介质为非中心对称的压电晶体。
利用克尔效应制成的调制器称为克尔盒,其中的光学介质为具有电光效应的液体有机化合物。
泡克耳斯盒有纵向调制器和横向调制器两种。
我们实验中使用的是电光晶体为DKDP (磷酸二氘钾)的纵向调制泡克耳斯盒。
不给泡克尔斯盒加电压时,盒中的介质是透明的,各向同性的非偏振光经过起偏器P 后变为振动方向平行于P 光轴的平面偏振光。
通过泡克耳斯盒时,其偏振方向不变,到达检偏器Q 时,因光的振动方向垂直于Q 光轴而被阻挡,所以Q 没有光输出;给泡克耳斯盒加电压时,由于电光效应,盒中介质将具有单轴晶体的光学特性,光轴与电场方向平行。
此时,通过泡克耳斯盒的平面偏振光的振动方向将被改变,从而产生了与Q 光轴方向平行的分量,即Q 有光输出。
Q 输出光的强弱与盒中介质的性质、几何尺寸、外加电压大小有关。
对于结构已确定的泡耳克斯盒来说,若外加电压是周期性变化的,则Q 的光输出也是周期性变化的,由此实现对光的调制。
图1 各个量的方位关系图图1表示的是几个偏振量之间的方位关系,光的传播方向平行于z 轴,M 和N 分别为起偏器P 和检偏器Q 的光轴方向,彼此垂直;α为M 与y 轴的夹角,β为N 与y 轴的夹角,2/πβα=+;外电场使克尔盒中电光介质产生的光轴方向平行于x 轴;o 光垂直于xz 平面,e 光在xz 平面内。
光源调制原理
光源调制原理第四节光源调制原理要实现光纤通信,⾸先要解决如何将光信号加载到光源的发射光束上,即需要进⾏光调制。
调制后的光波经过光纤信道送⾄接收端,由光接收机鉴别出它的变化再现出原来的信息,这个过程称为光解调。
调制和解调适光纤通信系统的重要内容。
光源的两种调制⽅式*************************************************************************根据调制与光源的关系,光调制可分为直接调制和间接调制两⼤类。
⽅法仅适⽤于半导体光源(LD和LED),这种⽅法是把要传送的信息转变为电流信号注⼊LD或LED,从⽽获得相应的光信号,所以是采⽤电源调制⽅法。
直接调制后的光波电场振幅的平⽅⽐例与调制信号,使⼀种光强度调制(IM)的⽅法。
直接调制间接调制:是利⽤晶体电光效应、磁光效应、声光效应等性质来实现对激光辐射的调制,这种调制⽅式既适⽤于半导体激光器,也适应于其他类型的激光器。
间接调制最常⽤的是外调制的⽅法,即在激光形成以后加载调制信号。
其具体⽅法是在激光器谐振腔外的光路上放置调制器,在调制器上加电压,使调制器的某些物理特性发⽣相应的变化,当激光器通过它时,得到调制。
对某些类型的激光器,间接调制也可以采⽤内调制的⽅法,即⽤集成光学的⽅法把激光器和调制器集成在⼀起,⽤调制信号控制调制元件的物理性质,从⽽改变激光输出特性以实现其调制。
间接调制光源的直接调制原理***************************************************************************直接调制可分为模拟信号调制和数字信号调制。
模拟信号调制就是将连续变化的模拟信号(如话⾳、视频等)叠加在直流偏置的⼯作点上对光源进⾏调制。
(a)LED模拟调制(b)LD模拟调制数字调制属于脉冲调制,即调制电流为⼆进制脉冲形式,利⽤输出光功率的有(“1”码)、⽆(“0”码)状态来传递信息。
光调制器的基本原理
光调制器的基本原理光调制器是一种用于控制光信号特性的光学器件。
它能够改变光信号的幅度、频率、相位等特性,广泛应用于光通信、光传感、光电子学等领域。
光调制器的基本原理根据其工作机制的不同可以分为电光调制、电吸收调制和相位调制三种类型。
电光调制是最常用的光调制方式之一,它利用光与电场相互作用的原理来实现光信号的调制。
电光调制器由一个电极和一个光波导构成。
当通过电极施加电压时,产生的电场会引起光波导中的折射率发生变化,从而改变光的传播速度。
当通过光波导的光束传播过电极区域时,光束将受到折射率的变化影响而发生相位变化,从而实现光信号的调制。
电光调制器通常通过反射、折射、干涉等现象来调制光信号,具有高速调制、宽带宽的特点。
电吸收调制是一种基于光子吸收效应的光调制方式。
光子吸收效应是指光子与物质相互作用时,将光能转化为物质中的电子能级跃迁的过程。
在电吸收调制器中,光通过吸收层时,光子被吸收,导致能带中的电子跃迁,从而改变光波导中的折射率,进而实现光信号的调制。
电吸收调制器具有简单结构、低功耗、高速度的特点,常用于光纤通信系统中的光调制部分。
相位调制是一种通过改变光信号的相位来实现信号调制的技术。
相位调制可以通过改变光源的发射频率、波长或相位来实现。
其中,最常用的相位调制技术是基于调制器和相移器的稳定调制方法。
相位调制器通常由一个光波导和一个相移器组成,其中相移器用于调整光信号的相位。
在光信号通过光波导时,通过改变相移器的相位,可以实现对光信号相位的调制。
相位调制器具有高速调制、低功耗的特点,广泛应用于光通信系统和光传感领域。
总体上,光调制器的基本原理是通过改变光信号的特性,如幅度、频率或相位等,来实现光信号的调制。
不同类型的光调制器采用不同的工作原理,如电光调制器利用光与电场的相互作用,电吸收调制器利用光子吸收效应,相位调制器利用相位调制器和相移器等。
这些光调制器在光通信、光传感和光电子学等应用中起着重要的作用,为光学通信技术的发展提供了有力支持。
电光效应及其应用
电光效应及其应用摘要:电光晶体在外加电场中,随电场强度变化改变折射率的现象称为电光效应。
利用电光效应进行的调制称为电光调制。
关键词:电光效应、电光调制、电致折射率变化1.电光效应某些晶体(固体或液体)在外加电场中,随着电场强度E 的改变,晶体的折射率会发生改变,这种现象称为电光效应。
通常将电场引起的折射率的变化用下式表示:+++=2000bE aE n n (1)式中a 和b 为常数,0n 为00=E 时的折射率。
由一次项0aE 引起折射率变化的效应,称为一次电光效应,也称线性电光效应或普克尔电光效应(pokells );由二次项引起折射率变化的效应,称为二次电光效应,也称平方电光效应或克尔效应(kerr )。
一次电光效应只存在于不具有对称中心的晶体中,二次电光效应则可能存在于任何物质中,一次效应要比二次效应显著。
光在各向异性晶体中传播时,因光的传播方向不同或者是电矢量的振动方向不同,光的折射率也不同。
通常用折射率椭球来描述折射率与光的传播方向、振动方向的关系,在主轴坐标中,折射率椭球方程为1232222212=++n z n y n x (2) 式中1n ,2n ,3n 为椭球三个主轴方向上的折射率,称为主折射率。
如图一所示,从折射率椭球的坐标原点O 出发,向任意方向作一直线OP ,令其代表光波的传播方向k 。
然后,通过O 垂直OP 作椭圆球的中心截面,该截面是一个椭圆,其长短半轴的长度OA 和OB 分别等于波法线沿OP ,电位移矢量振动方向分别与OA 和OB 平行的两个线偏振光的折射率n ′和n ′′。
显然k ,OA ,OB 三者互相垂直,如果光波的传播方向k 平行于x 轴,则两个线偏光波的折射率等于2n 和3n 。
同样当k 平行于y 轴和z 轴时,相应的光波折射率亦可知。
当晶体上加上电场后,折射率椭球的形状、大小、方位都发生变化,椭球的方程变为1222212213223233222222112=+++++n xy n xz n yz n z n y n x (3) 只考虑一次电光效应,上式与式(2)相应项的系数之差和电场强度的一次方成正比。
光的相位调制原理
光的相位调制原理
光的相位调制是指通过改变光的相位来实现信息的调制和传输。
光的相位是指光波的起始位置相对于某一参考点的偏移量,可以用角度来表示。
光的相位调制可以通过以下几种原理实现:
1. 电光效应:通过将光束经过电场调制器,利用电场的作用使光的相位发生变化。
常见的电光调制器有电光晶体和电光调制器。
2. 磁光效应:通过将光束经过磁场调制器,利用磁场的作用使光的相位发生变化。
常见的磁光调制器有磁光晶体和磁光调制器。
3. 波导相位调制:在光波导管内部通过改变电场的分布来改变光的相位。
常见的波导相位调制器有电极调制器和波导极耦合调制器。
通过以上的相位调制原理,可以实现光的相位的控制和调制,进而实现调制和传输信息。
电光调制
为实现线性调制,可引入固定的π /2相位延迟,使调制器 的电压偏置在T=50%的工作点上(B点)
17
电光调制的基本原理及公式推导-强度调制
改变工作点的常用方法 1 在调制晶体上除了施加信号电压之外,再附加一个半波电压,但此法增 加了电路的复杂性,而且工作点的稳定性也差。 2 在调制器的光路上插入一个1/4波片,使其快慢轴与晶体主轴x成45角, 从而使 Ex’和Ey’二分量间产生π /2的固定相位差。
n1 n2 n0, n3 ne KDP为四方晶系,负单轴晶体, 电光张量为
KDP晶体独立的电光系数只有 41和 63
4
电光调制的基本原理及公式推导
KDP的纵向运用
外加电场的方向平行于Z轴,即
折射率椭球方程为
Ex Ey 0
x2 y 2 z 2 2 2 2 63 xyEz 1 2 n0 n0 ne
2 2
调制器的透过率为
15
I out 2 2 V T sin ( ) sin Ii 2 2 V
电光调制的基本原理及公式推导-强度调制
强度调制图
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电光调制的基本原理及公式推导-强度调制
调制器的透过 率与外加电压 呈非线性关系 若调制器工作 在非线性电压 部分,调制光 将发生畸变
Z m 1/ c(1/ CC0 )1/ 2
式中:c为真空中的光速 C为电极每单位长度的电容 C0为用空气代替所有波导材料的电极每单位长度电容。 要获得好的特性阻抗就要减小电极和波导材料的电容。
24
电光调制器的技术参数
调制器在微波系统里是一个负载,它有自己的特性阻抗,通常 微波输入端的匹配阻抗是50Ω ,如果两者不相等,即阻抗不匹 配,会在调制器电极的输入端引起微波反射,驱动功率并不能 完全进入调制器。微波驱动功率与进入调制器的功率之间的关 系是 2
电光调制器工作原理是什么
电光调制器工作原理是什么————————————————————————————————作者:————————————————————————————————日期:电光强度调制器的设计一、电光强度调制利用晶体的电光效应,即某些晶体在外加电场的作用下,其折射率将发生变化,当光波通过此介质时,其传输特性就受到影响而改变,可控制光在传播过程中的强度。
强度调制是使光载波的强度(光强)随调制信号规律变化的激光振荡,如图下图所示。
光束调制多采用强度调制形式,这是因为接收器一般都是直接响应其所接收的光强变化。
1、电光强度调制装置示意图及原理它由两块偏振方向垂直的偏正片及其间放置的一块单轴电光晶体组成,偏振片的通振方向分别与x,y轴平行。
根据晶体光学原理,在电光晶体上沿z 轴方向加电场后,由电光效应产生的感应双折射轴'x 和'y 分别与x,y 轴成45°角。
设'x 为快轴,'y 为慢轴,若某时刻加在电光晶体上的电压为V ,入射到晶体的在x 方向上的线偏振激光电矢量振幅为E ,则分解到快轴'x 和慢轴'y 上的电矢量振幅为'x E ='y E =E/2。
同时,沿'x 和'y 方向振动的两线偏振光之间产生如下式表示的相位差V 63302γμλδπ=0μ-晶体在未加电场之前的折射率63γ-单轴晶体的线性电光系数,又称泡克尔系数从晶体中出射的两线偏振光在通过通振方向与y 轴平行的偏振片检偏,产生的光振幅如下图分别为y E x'、y E y',则有y E x'=y E y'=E/2,其相互间的相位差为()πδ+。
此二振动的合振幅为()()()δδπδcos 121cos 2141cos 22222''2'2'2'-=-+=+++=E E E E E E E E E y y y x y y y x因光强与振幅的平方成正比,所以通过检偏器的光强可以写成令比例系数为1:2sin 2sin 20222'δδI E E I ===即 V I I λγπμ633020sin= 显然,当晶体所加电压V 是一个变化的信号电压时,通过检偏器的光强也随之变化。
1.2 电光调制
获得线性调制的方法
1,在调制晶体上除了施加信号电压外,再附加一个Vλ/4的 固定偏压;
• 缺点,增加电路的复杂性,工作点的稳定性也差
2,在调制器的光路上插入一个1/4波片,其快慢轴与晶 体主轴X成45角,从而使Ex′﹑Ey′二分量间产生π/2的固定 位相差.
总的相位差: ∆ϕ = 调制器的透过率: T =
π
2
+π
I π ∆ϕm = sin 2 [ + sin ωm t ] Ii 4 2
Vm π sin ω m t = + ∆ϕ m sin ω m t Vπ 2
1 = [1 + sin(∆ϕm sin ωm t )] 2 1 ∞ = + ∑ J 2 n +1 (∆ϕm )sin[(2n + 1)ωm t ] 2 n=0
由此可见,一般情况下,调制器的输出特性与外加电压的 关系是非线性的.
(1)当晶体加以直流电压VD 时:out = I in sin 2 π VD I
2Vπ
Iout/Iin和VD 的曲线不 是线性关系,易发生 畸变,在Vπ/2附近有一 段近似线性部分,波 形畸变小。
电光调制特性曲线
电场→晶体束缚电荷重新分布→介电常数变化 →晶体离子晶格微小形变→
n = n0 + γ E + hE + L
2
∆n = n − n0
γ,h为常数
线性电光效应,泡克耳斯(Pockels)效应 二次电光效应,克尔(Kerr)效应
1、电致折射率变化(折射率椭球)
x2 y2 z 2 未加电场: + + = 1 2 2 nx ny nz2
以KDP晶体为例:
实验九、电光效应及调制综合实验
(17) (18)
令 δ = π ,可求得半波电压
Vπ =
λ0 ⎛ d ⎞ ⎜ ⎟ 3 2n0 γ 22 ⎝ L ⎠
其中 d L 称为厚长比。可见横向电光效应的半波电压与晶体尺度有关,半波电压高会造成电 源指标压力,还大大影响电光调制的速率。为有效降低半波电压,就必须增大 L ,减小 d 。 这正是在一些调制速率高, 使得相同晶体中横向电光效应的 Vπ 比纵向效应的 Vπ 缩小 d L 倍, 半波电压低的场合下广泛使用横向电光效应的原因所在。 类似于纵向电光效应测量晶体电光系数的方法,利用图 4 给出的实验装置,通过调整晶 体电压改变检偏器的输出光强而获得半波电压的具体数值, 再根据 (18) 式计算出 LiNbO 3 的 电光系数。 如果把图 3 和图 4 中的检偏器旋转 90 角,使起偏器的光轴方向垂直于检偏器的光轴方 向,即 P ⊥ A ,并在晶体和检偏器之间放置一 λ 4 波片,使波片的快轴和慢轴分别与 x 和 y 轴方向平行,则实验系统就构成了一个振幅调制器(详见附录【附录】 ) ;若将检偏器移开,
⎛ 1 ⎞ ⎜ 2 ⎟ xi x j = 1 ∑∑ i j ⎝ n ⎠ ij
1 ⎞ ⎛ 1 ⎞ 其中 ⎛ ⎜ 2 ⎟ 是对称二阶张量,采用下标简化形式以 l 表示 ij ,则 ⎜ 2 ⎟ 的下标为 n ⎝ n ⎠l ⎝ ⎠ ij ij = 11,22,33,23(32),31(13),12(21)
,
(3)
其中 γ lk 称为电光系数张量,共有 18 个元素。 由于电光晶体的对称性使电光系数减少,具有对称中心的晶体,其电光系数都为零,故 这种晶体不产生线性电光效应;在没有对称中心的 21 个点群中,有 20 个点群具有线性电光 系数(常用的电光晶体的电光系数值,可查阅有关书籍和技术手册),当掌握了电光系数后,
实验十二 晶体电光效应与电光调制实验
图1. 晶体折射率椭球实验十二 晶体电光效应与电光调制实验一、实验目的1. 掌握晶体电光调制的原理和实验方法;2. 测量晶体的半波电压以及电光系数;3. 利用电光调制实现模拟光通讯。
二、实验原理1. 晶体的电光效应某些介质的折射率在外加电场E 的作用下发生改变,这种现象称为电光效应。
实验表明电场引起的折射率 n 的变化用下式表示:++=∆22bE aE )n1((1) 式中a 和 b 为常数。
由一次项 aE 引起折射率变化的效应,称为一次电光效应,也称线性电光效应或称泡克尔斯效应(Pokells Effect );由二次项bE 2引起折射率变化的效应,称为二次电光效应,也称非线性电光效应或称克尔效应(Kerr Effect )。
线性电光效应只存在于各向异性晶体中。
光在各向异性晶体中传播时,在晶体的一个给定方向上,一般存在着两个可能的线偏振模式,每个模式具有唯一的偏振方向和相应的折射率,而描述这两个相互正交的偏振光在晶体中传播的行为通常用折射率椭球的方法,即1n z n y n x 2z22y 22x 2=++ (2) 式中,x ,y ,z 为晶体的介电主轴方向,即晶体在这些方向上的电位移矢量D 与电场矢量E 是平行的,其对应的折射率为n x ,n y 和n z 。
当晶体上加上电场后,折射率椭球的形状、大小、方位都发生变化,椭球的方程变为1xy n 2xz n 2yz n 2n z n y n x 2xy2xz 2yz 2z 22y 22x 2=+++++ (3) 式中交叉项由电场引起,表示变形后形成的新椭球主轴(感应主轴)和原先的主轴不重合。
另一方面,对线性电光效应,考虑到电场分量方向后,式(1)表示为,∑=γ=∆zxk k ijk ij 2E )n 1( ( 3.1) 其中E k 为外电场分量,系数γijk为三阶张量,称为晶体的电光张量系数,有27个元素。
三个角标i ,j ,k 分别取 x ,y ,z ,而习惯上更为普遍地用1,2,3表示。
电光调制概述
电光调制概述北京邮电大学经济管理学院电子商务专业李佶珂10212226摘要本文在电光效应的基础上简述了电光调制的基本概念及其原理以及在实际工作中的应用关键词电光调制电光效应一、正文1 电光调制原理电光调制是利用某些晶体材料在外加电场作用下折射率发生变化的电光效应而进行工作的。
根据加在晶体上电场的方向与光束在晶体中传播的方向不同,可分为纵向调制和横向调制。
电场方向与光的传播方向平行,称为纵向电光调制;电场方向与光的传播方向垂直,称为横向电光调制。
横向电光调制的优点是半波电压低、驱动功率小,应用较为广泛。
本电光调制系统是以铌酸锂晶体的横向调制为例。
图1是一种横向电光调制的示意图。
沿z方向加电场,通光方向沿感应主轴y′方向,经起偏器后光的振动方向与z轴的夹角为45°。
光进入晶体后,将分解为沿x′和z方向振动的两个分量,两者之间的折射率之差为n(x1)—n(x2),假定通光方向上晶体长度为l,厚度为d(即两极间的距离),则外加电压为V=Ezd时,从晶体出射的两束光的相位差为:由式(1)可以看出,只要晶体和通光波长λ确定之后,相位差△φ的大小取决于外加电压V,改变外加电压V就能使相位差△φ随电压V成比例变化。
通常使用的电光晶体的主要特性之一是采用半波电压米表征(当两光波间的相位差△φ为π弧度时所需要的外加电压称为半波电压)。
2 电光调制系统总体设计基于电光调制原理设计出此电光调制系统,用以研究电场和光场相互作用的物理过程,也适用于光通信与物理的实验研究。
电光调制系统结构见图2。
2.1 工作原理激光器电源供给激光器正常工作的电压,确保激光器稳定工作。
由激光器产生的激光经起偏器后成线偏振光。
线偏振光通过电光晶体的同时,给电光晶体外加一个电压,此电压就是需要调制的信号。
当给电光晶体加上电压后,晶体的折射率及其光学性能发生变化,改变了光波的偏振状态,线偏振光变成了椭圆偏振光。
为了选择合适的调制工作点,在电光晶体之后插入一个λ/4波片,使通过电光晶体的两束光线的相位延迟π/2,使调制器工作在线性部分,通过检偏器检测输出光的偏振方向,最后用光电探测器检测调制后的光信号,并将其转换为电信号用示波器观察。
电光效应和电光调制
门门ru"i 1」1」IJIJririnrin ririij更淤电屈示示出开电电!;鲁UN电立交绪电光效应和电光调制当给晶体或液体加上电场后,该晶体或液体的折射率发生变化,这种现象成为 电光效应。
1875年克尔(Kerr )发现了第一个电光效应。
即某些各向同性的透明介质在 外电场作用下变为各向异性,表现出双折射现象,介质具有单轴晶体的特性,并且其光轴在 电场的方向上,人们称这种光电效应为克尔效应。
1893年普克尔斯(Pokells )发现,有些晶体,特别是压电晶体,在加了外电场后,也能改变它们的各向异性性质,人们称此种电光效应为普克尔斯效应。
电光效应在工程技术和科学研究中有许多重要应用,它有很短的响应时间(可以跟上频率为 1010 Hz 的电场变化),因此被广泛用于高速摄影中的快门,光速 测量中的光束斩波器等。
由于激光的出现,电光效应的应用和研究得到了迅速发展,如激光通信、激光测量、激光数据处理等。
一.实验目的1.掌握晶体电光效应和电光调制的原理和实验方法。
2 •观察电光效应所引起的晶体光性的变化和会聚偏振光的干涉现象。
3 .学会用简单的实验装置测量 LN ( LiNbO 3铌酸锂)晶体半波电压。
观察电光调制的工作性质。
二. 仪器用具电光效应实验仪,电光调制电源 ,LN 晶体横向电光调制器,接收放大器 ,He-Ne 激光器,二踪示波器和万用表。
三•实验装置与原理(一)实验装置(1)电光效应实验仪面板如图所示。
些妥犬通氏茅吩创 芒妥趕扎矗习車』电尤效应仪面板冬“(2)晶体电光调制电源:调制电源由 -200V — +200V 之间连续可调的直流电源、单一频率振荡器(振荡频率约为 1kHz )、音乐片和放大器组成,电源面板上有三位半数字面板表,可显示直流电压值。
晶体上加的直流电压的极性可以通过面板上的极舸匸(rtfr樓哦13■苇 円电外◎ •41卡濤严提歯吉调齿性”键改变,直流电压的大小用偏压”旋钮调节。
第五章 电光调制器
电光效应
电光调制的物理基础:电光效应
电光效应:当把电压加到电光晶体上时,电光晶 体的折射率将发生变化,结果引起通过该晶体的 光波特性的变化,实现对光信号的相位、幅度、 强度以及偏振状态的调制。
电光效应包括克尔效应和泡克耳斯效应。 外加电场时晶体的折射率是电场 E 的函数,可表 示为
n n0 aE bE2 ...
M-Z 干涉仪式调制器
在 M-Z 干涉仪式调制器中,调制带宽受到光波速度和电微
波或毫米波速度之差、电极特征阻抗和电极传播损耗的限制,
尤其是光波和电毫米波之间的速度匹配和微波衰减是影响行波 调制器性能的两个关键问题。目前可通过对行波电极构形的设
纵向电光调制器
优点:
具有结构简单、工作稳定、不存在自然双折
射的影响等。
缺点:
半波电压太高,特别在调制频率较高时,功
率损耗比较大。
横向电光调制器
横向电光调制器(通光方向与电场方向垂直)
若沿 z 轴方向加电场,晶体的主轴不会发生旋转,仍为 x,y,z 方向,此时的通光方向与 z 轴垂直,并沿 y 方向 入射,若入射光偏振方向与 z 轴成 45°角,进入晶体分 解为 x 和 z 方向振动的两个分量。
等。
电光调制
半波电压:是指调制器从关态到开态的驱动电压。
调制带宽:强度调制的调制带宽反映了器件工作的频率范围,它 调制带宽是量度调制器所能使光载波携带信息容量的主要参数。
的定义是调制深度落到其最大值的 50%所对应的上下两频率之差。
特性阻抗:要获得好的特性阻抗就要减小电极和波导材料的电容。
电光效应
利用泡克耳斯电光效应实现电光调制可以分为两种 情况:
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电光效应和电光调制当给晶体或液体加上电场后,该晶体或液体的折射率发生变化,这种现象成为电光效应。
1875年克尔(Kerr)发现了第一个电光效应。
即某些各向同性的透明介质在外电场作用下变为各向异性,表现出双折射现象,介质具有单轴晶体的特性,并且其光轴在电场的方向上,人们称这种光电效应为克尔效应。
1893年普克尔斯(Pokells)发现,有些晶体,特别是压电晶体,在加了外电场后,也能改变它们的各向异性性质,人们称此种电光效应为普克尔斯效应。
电光效应在工程技术和科学研究中有许多重要应用,它有很短的响应时间(可以跟上频率为1010Hz的电场变化),因此被广泛用于高速摄影中的快门,光速测量中的光束斩波器等。
由于激光的出现,电光效应的应用和研究得到了迅速发展,如激光通信、激光测量、激光数据处理等。
一.实验目的1.掌握晶体电光效应和电光调制的原理和实验方法。
2.观察电光效应所引起的晶体光性的变化和会聚偏振光的干涉现象。
3.学会用简单的实验装置测量LN(LiNbO3铌酸锂)晶体半波电压。
观察电光调制的工作性质。
二.仪器用具电光效应实验仪,电光调制电源,LN晶体横向电光调制器,接收放大器,He-Ne激光器,二踪示波器和万用表。
三.实验装置与原理(一)实验装置(1)电光效应实验仪面板如图所示。
(2)晶体电光调制电源:调制电源由-200V—+200V之间连续可调的直流电源、单一频率振荡器(振荡频率约为1kHz)、音乐片和放大器组成,电源面板上有三位半数字面板表,可显示直流电压值。
晶体上加的直流电压的极性可以通过面板上的“极性”键改变,直流电压的大小用“偏压”旋钮调节。
调制信号可由机内振荡器或音乐片提供,此调制信号是用装在面板上的“信号选择”键来选择三个信号中的任意一个信号。
所有的调制信号的大小是通过“幅度”旋钮控制的。
通过前面板上的“输出”插孔输出的参考信号,接到二踪示波器的一个通道与被调制后的接收信号比较,观察调制器的输出特性。
(3)调制器:调制器由三个可旋转的偏振片、一个可旋转的1/4波片和一块铌酸锂晶体组成,采用横向调制方式。
晶体放在两个正交的偏振片之间,起偏振片和晶体的x 轴平行。
检偏振片和晶体之间可插入1/4波片,偏振片和波片均可绕其几何轴旋转。
晶体放在四维调节架上,可精细调节,使光束严格沿晶体光轴方向通过。
(4)接收放大器:接收放大器由3DU 光电三极管和功率放大器组成。
光电三极管把被调制了的氦氖激光经光电转换,输入到功率放大器上,放大后的信号接到二踪示波器,同参考信号比较,观察调制器的输出特性。
交流信号输出的大小通过“交流输出”旋钮调节。
放大器内装有扬声器,用来再现声音调制信号,放大器面板上还有“直流输出”插孔,接到万用表的200mV 直流电压档,用于测量光电三极管接收到的光强信号的大小。
(二)实验原理1.一次电光效应和晶体的折射率椭球由电场所引起的晶体折射率的变化,称为电光效应。
通常可将电场引起的折射率的变化用下式表示:n = n 0 + aE 0 +bE 02+ (1)式中a 和b 为常数,n 0为不加电场时晶体的折射率。
由一次项aE 0 引起折射率变化的效应,称为一次电光效应,也称线性电光效应或普克尔斯(Pokells )效应;由二次项bE 02引起折射率变化的效应,称为二次电光效应,也称平方电光效应或克尔(Kerr )效应。
一次电光效应只存在于不具有对称中心的晶体中,二次电光效应则可能存在于任何物质中,一次效应要比二次效应显著。
光在各向异性晶体中传播时,因光的传播方向不同或者是电矢量的振动方向不同,光的折射率也不同。
如图1,通常用折射率球来描述折射率与光的传播方向、振动方向的关系。
在主轴坐标中,折射率椭球及其方程为1232222212=++n z n y n x (2)图 1式中n 1、n 2、n 3为椭球三个主轴方向上的折射率,称为主折射率。
当晶体加上电场后,折射率椭球的形状、大小、方位都发生变化,椭球方程变成 1222212213223233222222112=+++++n xyn xz n yz n z n y n x (3) 晶体的一次电光效应分为纵向电光效应和横向电光效应两种。
纵向电光效应是加在晶体上的电场方向与光在晶体里传播的方向平行时产生的电光效应;横向电光效应是加在晶体上的电场方向与光在晶体里传播方向垂直时产生的电光效应。
通常KD *P (磷酸二氘钾)类型的晶体用它的纵向电光效应,LiNbO 3(铌酸锂)类型的晶体用它的横向电光效应。
本实验研究铌酸锂晶体的一次电光效应,用铌酸锂晶体的横向调制装置测量铌酸锂晶体的半波电压及电光系数,并用两种方法改变调制器的工作点,观察相应的输出特性的变化。
铌酸锂晶体属于三角晶系,3m 晶类,主轴z 方向有一个三次旋转轴,光轴与z 轴重合,是单轴晶体,折射率椭球是旋转椭球,其表达式为 1222022=++e n z n yx (4)式中n 0和n e 分别为晶体的寻常光和非常光的折射率。
加上电场后折射率椭球发生畸变,当x 轴方向加电场,光沿z 轴方向传播时,晶体由单轴晶变为双轴晶,垂直于光轴z 轴方向的折射率椭球截面由圆变为椭圆,此椭圆方程为12)1()1(222222022220=-++-xy E y E n x E n x x x γγγ (5) 其中的22γ称为电光系数。
上式进行主轴变换后可得到1)1()1(2222022220='++'-y E n x E n x x γγ (6) 考虑到x E n 2220γ<<1,经简化得到xx E n n n 2230021γ+=' x y E n n n 2230021γ-=' (7) 折射率椭球截面的椭圆方程化为12222='+'''y x n y n x (8) 2.电光调制原理要用激光作为传递信息的工具,首先要解决如何将传输信号加到激光辐射上去的问题,我们把信息加载于激光辐射的过程称为激光调制,把完成这一过程的装置称为激光调制器。
由已调制的激光辐射还原出所加载信息的过程则称为解调。
因为激光实际上只起到了“携带”低频信号的作用,所以称为载波,而起控制作用的低频信号是我们所需要的,称为调制信号,被调制的载波称为已调波或调制光。
按调制的性质而言,激光调制与无线电波调制相类似,可以采用连续的调幅、调频、调相以及脉冲调制等形式,但激光调制多采用强度调制。
强度调制是根据光载波电场振幅的平方比例于调制信号,使输出的激光辐射的强度按照调制信号的规律变化。
激光调制之所以常采用强度调制形式,主要是因为光接收器一般都是直接地响应其所接受的光强度变化的缘故。
激光调制的方法很多,如机械调制、电光调制、声光调制、磁光调制和电源调制等。
其中电光调制器开关速度快、结构简单。
因此,在激光调制技术及混合型光学双稳器件等方面有广泛的应用。
电光调制根据所施加的电场方向的不同,可分为纵向电光调制和横向电光调制。
利用纵向电光效应的调制,叫做纵向电光调制,利用横向电光效应的调制,叫做横向电光调制。
本实验中,我们只做LiNbO 3晶体的横向调制实验。
(1)横向电光调制图 2图2为典型的利用LiNbO 3晶体横向电光效应原理的激光振幅调制器。
其中起偏振片的偏振方向平行于电光晶体的x 轴,检偏振片的偏振方向平行于y 轴。
因此入射光经起偏振片后变为振动方向平行于x 轴的线偏振光,它在晶体的感应轴x ′和y ′轴上的投影的振幅和相位均相等,设分别为e x ′=A 0cos ωt , e y ′=A 0cos ωt (9)或用复振幅的表示方法,将位于晶体表面(z =0)的光波表示为E x ′(0)=A , E y ′(0)=A (10)所以,入射光的强度是2222)0()0(A E E E E I y x i =+=⋅∝'' (11)当光通过长为l 的电光晶体后,x ′和y ′两分量之间就产生相位差δ,即E x′(l )=A , E y′(l )=A δi e - (12)通过检偏振片出射的光,是该两分量在y 轴上的投影之和 )1(2)(0-=δi y e A E (13) 其对应的输出光强I t 可写成 2sin 2)]1)(1[(2])()[(22200δδδA e e A E E I i i y y t =--=⋅∝-* (14) 由(11)和(14)式,光强透过率T 为 2sin 2δ==i t I I T (15) 由(7)式 dl U n l n n y x 22302)(2γλπλπδ=-='' (16) 由此可见,δ和加在晶体上的电压有关,当电压增加到某一值时x ′、y ′方向的偏振光经过晶体后可产生λ/2的光程差,相应的相位差δ=π,由(15)式可知此时光强透过率T =100%,这时加在晶体上的电压称作半波电压,通常用πU 表示。
πU 是描述晶体电光效应的重要参数。
在实验中,这个电压越小越好,如果πU 小,需要的调制信号电压也小。
根据半波电压值,我们可以估计出电光效应控制透过强度所需电压。
由(16)式可得到 )(22230ld n U γλπ= (17) 其中d 和l 分别为晶体的厚度和长度。
由此可见,横向电光效应的半波电压与晶片的几何尺寸有关。
由(17)式可知,如果使电极之间的距离d 尽可能的减少,而增加通光方向的长度l ,则可以使半波电压减小,所以晶体通常加工成细长的扁长方体。
由(16)、(17)式可得ππδU U = 因此,可将(15)式改写成 )sin (2sin 2sin 022t U U U U U T m ωππππ+== (18) 其中U 0是加在晶体上的直流电压,U m sin ωt 是同时加在晶体上的交流调制信号,U m 是其振幅,ω是调制频率。
从(18)式可以看出,改变U 0或U m ,输出特性将相应的有变化。
对单色光和确定的晶体来说,πU 为常数,因而T 将仅随晶体上所加的电压变化。
(2)改变直流偏压对输出特性的影响 ①当20πU U =、U m <<πU 时,将工作点选定在线性工作区的中心处,如图3(a )所示,此时,可获得较高效率的线性调制,把20πU U =代入(18)式,得 )sin 24(sin 2t U U T mωπππ+= )]sin 2cos(1[21t U U mωπππ+-= )]sin sin(1[21t U U mωππ+= (19) 由于U m <<πU 时 ]sin )(1[21t U U T m ωππ+≈ 即 T ∝ sin ωt (20) 这时,调制器输出的信号和调制信号虽然振幅不同,但是两者的频率却是相同的,输出信号不失真,我们称为线性调制。