材料分析测试 第六章 X射线衍射方法.
材料分析测试方法复习摘要
材料分析测试方法复习摘要
前言:
材料现代分析测试方法:光谱分析、电子能谱分析、衍射分析与电子显微分
析。
第一章:X射线的物理学基础
X射线衍射学:根据衍射花样,在波长已知的情况下测定晶体结构,研究与
结构和结构变化相关的各种问题。
X射线光谱学:根据衍射花样,在分光晶体结构已知的情况下,测定各种物
质发出的X射线的波长和强度,从而研究物质的原子结构和成分。
产生X射线的条件:1,以某种方式得到一定量的自由电子;2,在高真空中,
在高压电场作用下迫使这些电子作定向高速运动;3,在电子运动路径上设障碍物,以急剧改变电子的运动速度。
连续X射线谱:由波长连续变化的X射线构成,和白光相似,是多种波长的
混合体。/由于极大数量的电子衍射到阳极上的时间和条件不可能相同,因而得
到的电磁波将具有连续的各种波长,形成连续X射线谱。
特征X射线谱:由有一定波长的若干X射线叠加在连续X射线谱上构成,和
单色的可见光相似,具有一定波长。/当管电压等于或高于20KV时,则连续X 射线谱外,位于一定波长处还叠加有少数强谱线,它们就是特征X射线谱。
=K(Z-??)莫塞莱定律:(物质发出的特征谱波长与它本身的原子序数的关系)√??
??
式中:K和σ是常数。该定律是X射线光谱分析的基本依据,是X射线光谱学的
重要公式。根据莫塞莱定律,将实验结果所得到的未知元素的特征X射线谱线波长,与已知的元素波长相比较,可以确定它是合种元素。
相干散射:由于散射线与入射线的波长和频率一致,位相固定,在相同方向
上各散射波符合相干条件。
不相干散射:散射线分布于各个方向,波长各不相等,不能产生干涉现象。
矿物材料现代测试技术2X射线分析7
高岭石插层:用有机或者无机试剂插入层间区域,当试剂被 清洗掉或者被蒸发掉的时候,达到片的剥离效果。
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23
第六章. 应用举例
4 粘土矿物分析(7)
(2) 云母族(白云母、黑云母、 伊利石等) 2:1型 (夹心式)
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云母
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4
第六章. 应用举例
1 Kα、Kβ 及 Kα1、Kα2的鉴别(3)
如对石英的最强衍射峰 3.343Å 面网, 用CuKα (=1.54178Å) 射线进行衍射时, 其衍射位置为2=26.66。
但我们知道还有强度较弱的β射线 (=1.3921Å) 也存在,可否计算出该面网的 β衍射出现在什么角度位置?
B=0.0099
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16
第六章. 应用举例
4 粘土矿物分析(1)
定义:层状铝硅酸盐,粒度小于2微米。 基本结构层:(Si,Al) O4四面体,连接成片
(Al,Mg)O6八面体, 亦成片状,与四面体片匹配。
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第六章. 应用举例
4 粘土矿物分析(2)
第六章. 应用举例
3 纳米物质平均粒度分析(1) 一般情况下,晶体的颗粒越大(即每个颗
材料研究方法b(化学专业)第6章:x射线衍射方法
sin2 hkl 2 / 4a2 h2 k 2 l 2 A h2 k 2 l 2
立方晶系各衍射晶面(hkl)的sin2θhkl除满足上 式外,sin2θhkl还有公因子A。
47
(2)六方晶系和三方晶系
分析晶体学问题时,常将三方晶系归并到六方晶系 中。同时进行矢量转化。
42
c、扫描速度
常采用2˚/min-4˚/min。提高扫描速度,可节约 测试时间,但却会导致强度和分辩率下降,使衍射 峰位置向扫描方向偏移并引起衍射峰的不对称化。
d、扫描范围
扫描范围根据测定试样而定,如铜靶对无机物 进行物相分析,一般2θ 扫描范围为2˚-90˚,而对 有机物和高分子,常用2˚-60˚,也可根据具体范 围设定更小。
x射线
4
l l
Hl
R 单晶
l =0
转动
由于波长恒定,根据劳埃方程
c(cosl -cos0) =l 因 0=90º, 故上式简化为
c cosl =l
可见所有衍射线都应分布在以 c 为轴的一系列 圆锥上。
5
环形安装胶片,则衍射的X射线与胶片相交于 一个圆周上。
6
当胶片展开后,得到的衍射效应分布为一 系列平行的直线。
16
h) 环形围绕样品(粉末柱)安装底片,即得到最 终的衍射照片。
材料分析方法 第六章 电子衍射
2d 。
• ② 电子衍射的衍射角总是非常小(1 ~2 °)。
• 通常的透射电镜中电子波的波长为10-2~10-3nm数量级, 而常见晶体的晶面间距为1 ~ 10-1nm数量级,于是
102 rad 1 ~ 2
衍射线集中在前方!
第六章 电 子 衍 射
第六章 电 子 衍 射
• 相机常数 K(= Lλ )的意义: • ① 对单晶样品,衍射花样简单地说就是落在爱瓦尔德球 面上所有倒易阵点所构成的图形的投影放大像,相机常数 K就是放大倍数。 • ② 相机常数是一个协调正、倒空间的比例常数。
• 电子衍射基本公式的物理意义:单晶花样中的斑 点可以直接被看成是相应衍射晶面的倒易阵点, 各个斑点的R矢量也就是相应的倒易矢量。
• 端点G位于倒易空间,而投影 G´已经通过转换进入了正空 间。
第六章 电 子 衍 射
OO * G ~ OO' G ' R L g 1 即R Lg Kg
• 由于 R 和 g 的方向基本一致, 于是: R L g K g
• 这就是电子衍射的基本公式。 • Lλ称为电子衍射的相机常数, L称为相机长度。
R K ' g L' g
• 公式的用途:一般K´是已知的,通过底片测出R就 可计算出g。
第六章 电 子 衍 射
材料测试方法作业
X射线衍射分析的作业
1.X射线和X射线衍射是如何生产的?
2.布拉格公式2dsinθ=nλ中各符号代表什么?它是如何简化为2dsinθ=λ的?
3.衍射线的强度主要与什么有关?平板状粉晶样品的强度、相对强度公式和哪些因素(子)有关?结构因子的定义和表达式?4.什么是系统消光?产生衍射的条件是什么?
5.混合物相定性分析应注意的问题?
6.字母、数字和芬克索引是怎样排列的?
7.物相分析的依据是什么?
8.定量分析K值法的公式中各符号代表什么?
9.物相定性图谱分析的步骤。
10.物相定性分析对样品的要求。
热分析作业
1.差热分析、热重分析、差式扫描量热分析的定义。
2.差式扫描量热分析的依据
3.影响差热分析的样品因素。
4.差热分析和差式扫描量热分析的比较。
5.差式扫描量热分析的用途。
光电子能谱分析作业
1.光电子与俄歇电子是如何产生的,有何区别?
2.XPS和AES的分析原理及其应用;
3.在XPS图谱上,光电子线和俄歇电子线是任何判断的?为什么?
4.在XPS图谱上的伴峰有哪些?
5.为什么XPS谱图要能量校正?怎么校正?
6.什么是化学位移和电子结合能?化学位移或电子结合能的影响因
素?
1.透射电子显微镜的电子显微图像包括哪些类型?产生的机制是什么?
2.扫描电镜二次电子像的分辨率为什么比背射电子像的分辨率高?
最新6《材料研究与测试方法》X射线衍射物相分析幻灯片课件
kCi i 1s
Cs s s
Ii Is
k i
3. K值法
• 在待测样中加入一种标准物质 I测/I标→W测 • K值法是在内标法的基础上发展起来的,主要
差别在于对比例常数K值的处理上不同。
(1) 基本计算公式
设待测试样中含有 n 个相,待测相 i 相的含量为 Wi, 掺入的内标物质为S,加入量为Ws, 复合样中,有:
标准数据(PDF卡片)
1969年美、加、英、法等国组成“粉末衍射标准联合 委员会”,负责收集、整理、编辑和出版粉末衍射卡 片,称为PDF卡片。
目前,国际衍射数据中心ICDD(International Center for Diffraction Data)这一非盈利的组织,致 力于收集、编辑、出版和发行用于晶态材料鉴定的粉 末衍射数据。
1.808 46 0.9038 3
1.278 20 0.8293 9
1.090 17 0.8083 8
表1 待测相的衍射数据
d/Å I/I1
3.01 5 2.47 70 2.13 30 2.09 100 1.80 50
d/Å I/I1 d/Å I/I1
1.50 20
1.04 3
1.29 10
0.98 5
2. 分析方法与思路
通过照相法拍摄X射线衍射花样或通过衍射仪法记录X 射线衍射谱图,从中测定d(2θ)和 I
材料分析测试方法
德拜相的指数标定
在获得一张衍射花样的照片后,我们必须确定照片上每一 条衍射线条的晶面指数,这个工作就是德拜相的指标化。 进行德拜相的指数标定,首先得测量每一条衍射线的几何 位置(2θ角)及其相对强度,然后根据测量结果标定每 一条衍射线的晶面指数。
衍射花样照片的测量与计算
衍射线条几何位置测量可以在专用的底片测量尺上进行,用带游 标的量片尺可以测得线对之间的距离2L,且精度可达0.02~ 0.1 mm。用比长仪测量,精度可以更高。 当采用φ114.6的德拜相机时,测量的衍射线弧对间距(2L)每 毫米对应的2θ角为1°; 若采用φ57.3 的德拜相机时,测量的衍射线弧对间距(2L)每 毫米对应的2θ角为2°。
4.1 德拜照相法
粉末多晶中不同的晶面族只要满足衍射条件都将形成各自的衍 射圆锥。 如何记录下这些衍射花样呢?
一种方法是用平板底片,记录底片与反射圆锥的交线。 如果将底片与入射束垂直放置,那么在底片上将得到若干个同 心圆环,这就是所谓的针孔照相法。
但是受底片大小限制,一张底片不能记录下所有的衍射 花样(还存在背射)。德拜和谢乐等设计了一种长条形底 片,将其圈成一个圆筒,以试样为圆心,以X射线入射方 向为直径放置圈成的圆底片。这样圆筒底片和所有衍射圆 锥相交,形成一个个弧形线对,从而可以记录下所有衍射 花样,这种方法就是德拜-谢乐照相法。
德拜法的试样制备
ch06X射线衍射分析原理_材料分析测试答案
第六章 X 射线衍射方法
教材习题:
6-1 Cu K α辐射(λ=0.154nm )照射Ag (f .c .c )样品,测得第一衍射峰位置
2θ=38︒,试求Ag 的点阵常数。
解:查教材91页表6-1,面心立方(f .c .c )晶体的第一衍射峰的干涉指数为
(111)。由立方晶系晶面间距公式222L K H a d HKL ++=
和布拉格方程λθ=sin 2HKL d ,可得
)(409.0 111)
2/38sin(2154.0 sin 2222nm nm L K H a ≈++=++⋅=θ
λ
答:Ag 的点阵常数a =0.409nm 。(波长小数点后只有3位有效数字,所以小数点
后只保留3位有效数字)
(教材附录3中Ag 的点阵常数a = 4.0856Å = 0.40856 nm )
6-2 试总结德拜法衍射花样的背底来源,并提出一些防止和减少背底的措施。 答:德拜法衍射花样的背底来源主要有:(1)X 射线被样品吸收,荧光X 射线
强;(2)样品结晶不好,非晶质样品则不产生线条;(3)电压不适当,特征X 射线不强;(4)底片过期或损坏;(5)入射X 射线的单色性不好(连续X 射线和K β辐射的干扰)等。
防止和减少背底的主要措施:(1)选择合适的靶材(即选用合适的入射特征X 射线),尽量少地激发样品产生荧光X 射线,以降低衍射花样背底,使图像清晰;(2)选择适当电压和电流,提高入射X 射线的强度;(3)选择合适的狭缝宽度(在保证入射X 射线强度的前提下,尽量减小狭缝宽度),
提高X射线的单色性;(4)选择适当的滤光片,尽量减少连续X射线和Kβ辐射的干扰,等等。
第六章 多晶体X射线衍射分析方法
Lλ有时也被称为电子衍射的“放大率”。单晶花 样中的斑点可以直接被看成是相应衍射晶面的倒 易点阵,各斑点的R矢量就是相应的倒易矢量g。
从几何观点看,倒易点阵是晶体点阵的另一 种 表达式,但从衍射观点看,有些倒易点阵也是衍 射点阵。
电子衍射基本公式
在TEM电子衍射操作中,物镜焦距f0起到相机长 度的作用,由于f0被进一步放大,最终的相机长 度为f0· I · P( MI 和MP分别为中间镜和投影镜 M M 的放大倍数),得到
前 言
微束电子衍射——研究材料中亚纳米尺度颗粒、 单个位错、层错、畴界面和无序结构,测定点群 和空间群。 TEM中的电子衍射具有原位同时得到微观形貌 和结构信息并进行对照分析的优点,在材料分析 中得到广泛应用。
电子衍射在材料分析中的应用: ⑴ 物相分析和结构分析 ⑵ 确定晶体位向 ⑶ 确定晶体缺陷的结构和晶体学特征
AA BB C S 3 , 2
选区衍射
⑵失焦引起的选区误差 AB、 A0B0分别对应正焦和失焦时样品上选区光阑套住的 微区。由图知,A0的HKL衍射束与A’的HKL衍射束重合, 而B0的与B’的衍射束重合,即失焦时,正焦面上光阑以外 A’A区域的衍射束可通过失焦面上光阑而到达物镜。正焦 面上光阑以内的 BB’区衍射束则 被光阑挡掉,引 起误差。失焦引 起的误差为
材料测试技术基 材料现代研究方法 第六章 X射线衍射方法
射线与入射线始终保持2θ的关系,即入射线
与衍射线以试样表示法线为对称轴,在两侧 对称分布。 • 这样辐射探测器接收到的衍射是那些与试样 表示平行的晶面产生的衍射。 • 当然,同样的晶面若不平行与试样表面,尽 管也产生衍射,但衍射线进不了探测器,不 能被接受。
滤波片的选择是根据阳极靶材确定的。 • 在确定了靶材后,选择滤波片的原则是:当Z靶 ≤
40时,Z滤 = Z靶 - 1;当Z靶 >40时,Z滤 = Z靶 – 2,
德拜法的实验参数选择
• 滤波片获得的单色光只是除Kα外其它射线强度相
对很低的近似单色光。 • 获得单色光的方法除了滤波片以外,还可以采用
单色器。 • 单色器实际上是具有一定晶面间距的晶体,通过
测角仪
• 测角仪圆中心是样品台H。样 品台可以绕中心O轴转动。平 板状粉末多晶样品安放在样 品台H上,并保证试样被 照 射的表面与O轴线严格重 合 。
• 测角仪圆周上安装有X射线 辐射探测器D,探测器亦可 以绕O轴线转动。
• 工作时,探测器与试样同时 转动,但转动的角速度为2: 1的比例关系。
测角仪
θ是一一对应的。令N = h2+k2+l2,则有: • Sin2θ1:sin2θ2:sin2θ3:…sin2θn = N1:N2:N3:…Nn
• 根据立方晶系的消光规律(表3-1),不同的结构消光规 律不同,因而N值的序列规律就不一样。我们可以根据测
第七章 材料现代分析测试方法-射线衍射(打印)
式中 λ’ ——散射线的波长(nm);
0.00243(1 cos 2 )
'
λ——入射线的波长(nm)。
2. X射线的真吸收
光电效应与荧光(二次特征)辐射
当入射的X射线光量子的能量足够大时,可 将原子内层电子击出,产生光电效应,被击出的 电子称为光电子。 被打掉了内层电子的受激原子,将发生外层 电子向内层跃迁的过程,同时辐射出波长严格一 定的特征X射线。 为了区别于电子击靶时产生的特征辐射,称 这种利用X射线激发而产生的特征辐射为二次特征 辐射,也称为荧光辐射。
非相干散射(量子散射)
当入射的X射线光子与原子中受核束缚较弱的电 子(如外层电子)发生碰撞时,电子被撞离原子并 带走光子的一部分能量而成为反冲电子,而光子也 被撞偏了一个角度2θ。由于入射光子一部分能量转 化成为电子的动能,散射光子的能量必然小于入射 光子的能量,散射波的波长大于入射波的波长。 根据能量和动量守恒定律,求得散射光的波长:
UK——K系谱线的临界激发电压;
n——常数,约为1.5。
莫塞莱定律
不同靶材的同名特征谱线,其波长λ随靶材原 子序数Z的增大而变短。莫塞莱在1914年便发现了 这一规律,并给出了如下关系式:
1/ K ( Z )
式中 K,σ——常数。 这个关系式就是著名的莫塞莱定律。 莫塞莱定律已成为现代X射线光谱分析法的基 础。各种元素的特征X射线波长见符录。
第6章材料分析方法
sins2i2n22 3
(6-9)
式(6-9) 中,E为弹性模量,为泊松比;表明在平面应力状态
下, 与sin2 呈线性关系
13
第二节 X射线宏观应力测定的基本原理
四、应力常数K
由布拉格方程的微分式,d/d = - cot0 ,为常数时, 0 为无应力是的衍射角, = (2-20)/2,则
K
E
2(1
)
cot
0
180
2 sin2
(6-13a)
E
2(1 )
cot
0
1M80=
2 sin2
(6-13b)
则
KM
(6-13c)
图6-6 2 - sin2 线性关系
K称应力常数,它决定于待测材料 的弹性性质及所选衍射晶面的衍射
CrK 311 CoK 400
CoK 114 CoK 211
CrK 311 CuK 420
2/()
156.8 161.4
149.6 154.8
156.7 162.1
146.5 163.5
154.2 142.2
157.7 155.6
K/[MPa/()]
-318.1 -230.4
-355.35 -292.73
内应力。如各种晶体缺陷(空位、间隙原子、位错等),这 种平衡被破坏时不会产生尺寸的变化
材料分析测试 第六章 X射线衍射方法
精选版课件ppt
30
测量参数选择
加速电压(管压) 加速电流(管流) 狭缝光栏宽度(mm) 扫描速度(°/min) 等
精选版课件ppt
31
CPS——Counts Per Second ,单位:s-1
纵坐标:衍射强 度,每秒钟记录 的X射线光子数
2
横坐标:衍射角2/
记录纸记录的精选版衍课件射ppt 图
测角仪扫描范围:正向(顺时针)2可达165,反向(逆时针)2可 达-100。2测量绝对精度0.02,重复精度0.001。
精选版课件ppt
27
测角仪聚焦几何
为保证聚焦效果,样品表面与聚焦圆应具有相同的曲率。
聚焦原理:同一圆 周上的同弧圆周角 相等。
S、O与F决定的圆 即为聚焦圆
但由于连动扫描过 程中,测角仪聚焦 圆曲率不断变化, 样品表面不可能实 现这一要求,故衍 射仪只能作近似处 理,即采用平板样 品,使样品表面在 扫描过程中始终与 聚焦圆相切。
对,有
若用角度表示
2L=R·4 式中:R——相机半径; 2L——衍射弧对间距。
2L 57.3
4R
为弧度
衍射弧对与角的关系
背反射区(2>90),有 2L=R·4(为弧度),
2L 57.3
=90-
4R
精选版课件ppt
14
当相机直径2R=57.3mm时,有
X射线衍射结构分析
6.1.3 X射线的产生及 X射线谱
通常利用一种类似热阴极二极管的装置(X射线管)获得X射线,产生X射线的基本电气 线路见图。 把用一定材料制作的板状阳极(A,称为靶) 和阴极(C,灯丝)密封在一个玻璃-金属管壳内, 给阴极通电加热至炽热,使它放射出热辐射电子。在 阳极和阴极间加直流高压V(约数千伏~数十千伏), 则阴极产生的大量热电子e将在高压电场作用下奔向 阳极,在它们与阳极碰撞的瞬间产生X射线。
6.1.2 X射线与电磁波谱
X射线是一种波长很短的电磁波,波长范围约0.05~10nm。在电磁波谱上它处于紫 外线和γ 射线之间 ,用于衍射分析的X射线波长为0.05~0.25nm 。
作为电磁波的X射线,它与可见光和所有的其他基本粒子一样,同时具有波动及微粒双 重特性,简称为波粒二象性。 它的波动性主要表现为以一定的频率和波长在空间传播;它的微粒性主要表现为以光子 形式辐射和吸收时,具有一定的质量、能量和动量。 波粒二象性是X射线的客观属性。但是,在一定条件下,可能只有某一方面的属性表现 得比较明显,而当条件改变时,可能使另一方面的属性表现得比较明显。 例如,X射线在传播过程中发生的干涉、衍射现象就突出地表现出它的波动特性,而在 和物质相互作用交换能量时,就突出地表现出它的微粒特性。 从原则上讲,对同一个辐射过程所具有的特性,既可以用时间和空间展开的数学形式 来描述,也可以用在统计上确定的时间和位置出现的粒子来描述。因此,必须同时接受波 动和微粒两种模型。强调其中的那一种模型来描述所发生的现象要视具体的情况而定。但是, 由于X射线的波长较短,它的粒子性往往表现得比较突出。
(完整版)多晶体X射线衍射分析方法
,混合均匀,不能只选取细粉,而将粗粉丢掉。
17
1.试样的制备
合金中微量相:用电解法萃取、分离,得粉末经清洗和真空 干燥后,再制成圆柱试样。
制备圆柱试样的方法很多:
1. 用涂有粘结剂的细玻璃丝,粘附粉末,做成圆柱试样。 2. 将粉末填充入赛璐珞毛细胶管中,制成圆柱试样。 3. 用胶水调好粉末,填入胶管,用金属细丝将其推出2~3mm长,作为摄照试样,
作业
1a 2
(a)
1a 2
(b)
材料性能测试分析技术
第一篇 材料X射线衍射分析
3
第一章 X射线物理学基础 第二章 X射线衍射方向 第三章 X射线衍射强度 第四章 多晶体分析方法 第五章 物相分析及点阵参数精确测定 第六章 宏观残余应力的测定 第七章 多晶体织构的测定
第四章 多晶体分析方法
本章主要内容 第一节 德拜-谢乐法 第二节 其他照相法简介 第三节 X射线衍射仪
故底片上每1mm对应 2o 圆心角; 2. 若相机直径=114.6mm,底片上每1mm对应 1o 圆心角。
13
(3)德拜像
由德拜相机拍摄的照片叫德拜像,将底片张开可得:
纯铝多晶体经退火处理后的德拜法摄照照片
德拜法摄照德拜像照片 14
第6章 X射线衍射方法课件
4)面间距越大,分辨本领越低。因此,在分析大晶 胞的试样时,应尽可能选用波长较长的X射线源,以 便抵偿由于晶胞过大对分辨本领的不良影响。
正装法、反装法、不对称法
三种不同底片安装方法
粉未衍射的谱线形成及
图6-1 粉末衍射的谱线形成及照相法谱线的形成
从图中可以看到,小晶粒晶面 (hkl) 的反射线 分布在一个以入射线为轴,以衍射角2θ为半顶角的圆 锥面上,不同的晶面族衍射角不同,衍射线所在的圆 锥半顶角不同,从而不同晶面族的衍射就会共同构成 一系列以入射线为轴的同顶点圆锥,所以,当用围绕 试样的圆筒形底片记录衍射线时,在底片上会得到一 系列圆弧线段。
或长方形等。现代的x射线管用螺线形的灯丝,产生长方形的焦
点。由X射线管中发出的X射线在各个方向上的强度是不同的,
以接近于电子束前进的垂直方向上强度最高。但在这种情况下,
如果靶面不足非常光滑,则大部分x射线将被阳极材料所吸收实
际强度反而降低。通常使用时,与靶面成6o 的方向接收x射线为
最好,见下图。如窗口处在沿长方形焦点
图6-11 X射线衍射仪聚焦原理
试样表面的曲率与聚焦圆的半径随衍射角θ的变化而改变。采 用平面试样“半聚焦”方法衍射线不完全聚焦,出现宽化,特 别是入射光束水平发散增大时,更为明显 。入射线和衍射线 还存在着垂直发散。
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1.成像原理与衍射花样特征
背反射区 前反射区
成像原理: 厄瓦尔德图解
(HKL)衍射圆锥
衍射弧对
德拜法的衍射花样
针孔法的衍射花样:同心的衍射圆环。
4
德拜法的衍射花样(弧对)
针孔法的衍射花样(同心圆)
5
2. 实验技术
(1) 德拜相机
常用相机内直径(D):57.3mm,底片上每mm长度对应2圆心角。 114.6mm,底片上每mm长度对应1圆心角。 其它直径行不行?
第六章 X射线衍射方法
第一节 多晶体衍射方法 一、(粉末)照相法 二、 衍射仪法 第二节 单晶体衍射方法
西南科技大学 张宝述
1
照相法
多晶体衍射方法 衍射仪法
德拜法(德拜-谢乐法) 聚焦法 针孔法
单晶体衍射方法
劳埃(Laue)法 周转晶体法 四圆衍射仪
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第一节 多晶体衍射方法
一、(粉末)照相法 光源: X射线管产生的单色光(特征X射线,一般为K射 线) 样品:圆柱形 记录:底片(感光胶片)。 德拜(Debye)法:用其轴线与样品轴线重合的圆柱形底片 记录。 针孔法:用平板底片记录。 德拜法照相装置称为德拜相机
•入射线波长对衍射线条多少的影响 布拉格方程:
Cr Fe Co Cu Cu(Ave) Mo
0.228970 0.193604 0.178897 0.154056 0.154184 0.070930
2d HKL sin
0 ≤ ≤90,0≤ sin≤1 sin(0 )=0,sin(30 )=0.5,sin(90 )=1 越小,d值越大 因此,dHKL ≥ /2的晶面才可能产生衍射。
2 L 180 2 L 90 4R S
2 L 180 2 L 90 4R S
2<90
=90-,2>90
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测量
2倍于此长
因底片开口,无法直接测量的弧段
在冲洗干燥后的底片上通过测量得到S。
不对称装片法
一般将底片置于内有照明光源的底片测量箱毛玻璃上,通过 游标卡尺测量获得2L及S值。 若需精确测量时,则使用精密比长仪。
(4)选靶与滤波
选靶:指选择X射线管阳极(靶)所用材料。常用的有Cu、Fe、Co等靶。
基本要求:靶材产生的特征X射线(常用K射线)尽可能 少地激发样品的荧光辐射,以降低衍射花样背底,使图像 清晰。
当 K靶远长于 K样 或 K靶远短于 K样时 可避免荧光辐射的产生。 当 K靶稍长于 K样 ( K靶< K样< K靶)时 K射线也不会激发样品的荧光 辐射
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(6)衍射花样的测量和计算
测量底片上衍射线条的相对位置,计算角,确定各衍 射线条的相对强度。
前反射区(2<90)衍射弧 若用角度表示 对,有 2L=R· 4 57.3 式中:R——相机半径; 2 L 4R 2L——衍射弧对间距。 为弧度
衍射弧对与角的关系
背反射区(2>90),有 2L=R· 4(为弧度), =90-
筛目:每平方英寸的筛孔数。有国际标准、泰勒标准等。
1英寸=2.54cm
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(3)底片的安装
根据底片圆孔位置和开口所在位置不同,安装方法分为3种。
正装法
常用于物相分析
反装法 常用于测定点阵常数
偏装法 或不对称安装法 适用于点阵常数的精确测定等 可校正由于底片收缩及相机半径不准确等因素产生的测量误差
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(7)德拜相机的分辨wk.baidu.com领
分辨率() :描述相机分辨底片上相距最近衍射线条的本领。
L
L d / d
当两晶面间距差值d一定时,值大则意味着底 片上两晶面相应衍射线条距离(位置差)L大,即 两线条容易分辨。
L——晶面间距变化值为d/d时,衍射线条的位置变化。
将布拉格方程写为sin=/(2d)的 形式,对其微分并整理,有 对2L=R· 4微分 因此
K 靶 K滤 K 靶
当Z靶<40时,Z滤=Z靶-1
当Z靶>40时,Z滤=Z靶-2 靶不同,应选择不同的滤波(光)片。
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(5)摄照参数的选择 X射线管电压(简称“管压”):通常为阳极(靶材)激发 电压(kV)的3~5倍,此时特征谱对连续谱强度比最大。 管电流(简称“管流”):管电流较大可缩短摄照时间, 但以不超过管额定功率为限。 摄照(曝光)时间:摄照时间的影响因素很多,一般在具 体实验条件下通过试照确定。 德拜法常用摄照时间以h计。
质量吸收系效(m)与波长()关系示意图
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K——K吸收限
Z靶 < Z样 时
Z靶=Z样+1时
Z靶>>Z样时
K靶> K样
K 靶< K样< K靶
K靶<< K样
按样品的化学成分选靶
当样品中含有多种元素时,一般按含量较多的几种元素中Z最小的元素选靶。
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K (nm)
选靶时还需考虑其它因素:
57 .3 2L 4R
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当相机直径2R=57.3mm时,有
2L 2 2 L 2
2<90
=90-,2>90
弧对长度(2L)的一半。
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值的误差来源及校正
值受相机半径误差和底片收缩误差等的影响。
采用冲洗干燥后的底片周长S (=2R)替换R,并用不对称装片法测 量S值,即可校正底片收缩误差和相机半径误差对值的影响。
胶片紧贴内壁
德拜相机构造示意图
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(2) 德拜法的样品制备
粉碎(韧性材料用挫刀挫)、研磨——过筛(250-325 目)——粘接为细圆柱状 样品大小:直径0.2~0.8mm左右),长度约为10~15mm。 注意: (1)经研磨后的韧性材料粉末应在真空或保护气氛下退火, 以清除加工应力。 (2)研磨时,不能用力过度,以免破坏样品的结构。
由此可知,越长则可能产生的衍射线条越少。 •通过波长的选择可调整衍射线条出现的位置等 靶不同,同一干涉指数(HKL)晶面的衍射线出现的位置不同( )。
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滤波——滤波片的选择
K系特征辐射包括K与K射线,因二者波长不同,将使样品产生两套 方位不同的衍射花样,使衍射分析工作复杂化。 在X射线源与样品间放置薄片(称为滤波片)以吸收K射线,从而保 证K射线的纯度,称为滤波。 依据m与的关系选择滤波片材料。