一种Oligo-dT亲和层析填料

专利名称：一种Oligo-dT亲和层析填料
专利类型：发明专利
发明人：刘劲松,戚紫燕,王捷,刘刚,金百胜,林生跃,赵光耀,江必旺
申请号：CN202111362343.9
申请日：20211117
公开号：CN114054006A
公开日：
20220218
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明提供了一种Oligo‑dT亲和层析填料，以表面亲水的、具有多羟基亲水官能团的聚合物微球为基球，通过聚合物微球表面的羟基将dT核苷酸单体键合生成oligo‑dT配基到聚合物表面而制得。

本发明相比常规Oligo‑dT亲和填料具有更高的mRNA载量以及更高的mRNA回收率，还具有比常规oligo‑dT亲和填料更好的耐碱性。

本发明制备方法简单，不需要现有技术中oligo‑dT亲和填料生产所需要的oligo‑dT配基合成与纯化，可以大大降低亲和填料的生产成本，从而降低mRNA的生产纯化成本。

申请人：苏州纳微科技股份有限公司,常熟纳微生物科技有限公司
地址：215000 江苏省苏州市工业园区百川街2号
国籍：CN
代理机构：苏州华博知识产权代理有限公司
代理人：何蔚
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