集成电路的正向设计集成电路的逆向设计集成电路设计方法学

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本次课主要内容
• 集成电路的正向设计 • 集成电路的逆向设计 • 集成电路设计方法学概述
第18章 集成电路的正向设计
• 74HC139芯片介绍 • 74HC139电路设计
电路的设计:Cs支路电路图
CMOS反相器传输特性
版图的设计和验证
Vdd 输入A0a
输入Y0b
输入A1a


输出Y0a
输入Y1b 输出Y0b
门海示意图
门阵列生产步骤: (1)母片制造 (2)用户连接和金属布线层制造
Foundry
设计中心
寄存器传输 级行为描述
单元库
布局布线
向 Foundry 提供 网表
行为仿真 综合
逻辑网表 逻辑模拟
掩膜版图
生成 延迟 版图检查 / 网表和参数提取 文 件
/ 网表一致性检查
制版 / 流片 /测试/封装
在发展中,通道不规则,连线端口在单元四周,位置不规 则。
20.4 可编程逻辑器件设计方法 (PLD:Programmable Logic Device )
可编程逻辑器件:
这种器件实际上也是没有经过布线的门阵列电路,其完 成的逻辑功能可以由用户通过对其可编程的逻辑结构单元 (CLB)进行编程来实现。可编程逻辑器件主要有PAL、 CPLD、FPGA等几种类型,在集成度相等的情况下,其 价格昂贵,只适用于产品试制阶段或小批量专用产品。
(3) 门阵列设计时只需要定制部分掩膜版,而标准单元设计后需要 定制所有的各层掩膜版。
标准单元法与门阵列法相比的优点:
(1) 芯片面积的利用率比门阵列法要高。 芯片中没有无用的单元,也没有无用的 晶体管。
(2) 可以保证100%的连续布通率。 (3) 单元能根据设计要求临时加以特殊
设计并加入库内,因而可得到较佳的电 路性能。 (4) 可以与全定制设计法相结合。在芯 片内放入经编译得到的宏单元或人工设 计的功能块。
定制方法
定制法包括: 标准单元(SC:Standard Cell) 积木块(BB:Building Block Layout)
1)标准单元法 概念:从标准单元库中调用事先经过精心设计的逻辑单元,
排列成行,行间留有可调整的布线通道,再按功能要求将各内部 单元以及输入/输出单元连接起来,形成所需的专用电路。
半定制集成电路(Semi-Custom Design Approach) ——即设计者在厂家提供的半成品基础上 继续完成最终的设计,只需要生成诸如金 属布线层等几个特定层次的掩膜。根据需 求采用不同的半成品类型。
20.3半定制方法
半定制的设计方法
分为门阵列(GA:Gate Array)法和门海 (GS:Sea of Gates)法两种:
(电过载)和器件损坏。 • Latch up 产生的过度电流量可能会使芯片产生永久性的
破坏, Latch up 的防范是IC Layout 的最重要措施之一 。 • 可以通过提供大量的阱和衬底接触来避免闩锁效应。闩锁
效应在早期的CMOS工艺中很重要。不过,现在已经不再 是个问题了。在近些年,工艺的改进和设计的优化已经消 除了闩锁的危险。
几种集成电路类型设计复杂度及费用比较
Full Custom , Standard Cell , Gate Array , ogrammable Logic Device
从上至下 单片价格 :上涨 开发费用 :下降 设计复杂度 :下降
不同产量时成本与设计方法的关系
版图抑制闩锁效应的措施
• 合理布置电源接触孔 • 伪收集区域 • 采用保护环 • 阱区与PMOS距离尽量拉大
关于闩锁效应
• 封装密度和集成度越来越高,产生Latch up的可能性会越来 越大。
• ESD 和相关的电压瞬变都会引起闩锁效应(latch-up)。 • 这些结构会导致VDD和VSS线的短路,造成大电流、EOS
第20章 集成电路设计方法
全定制方法(Full-Custom Design Approach) 符号法版图设计 半定制方法(Semi-Custom Design Approach) 定制法 可编程逻辑器件(PLD:Programmable Logic Device)
设计方法
20.1 全定制方法
煮片
1.拼图 2.标注 3.分块 4.功能块分析 5.连接 6.提取设计规则 7.分析闩锁效应措 施
8.布局布线 9.P阱和衬底电位
显色
19.1.3 电路分析
Vdd
压焊块
R
1
1
至内部电路
1
内部电路
1
至压焊块
什么是闩锁效应?
闩锁效应是CMOS工艺所特有的寄生效应,严重会导致电路的失效,甚至烧毁 芯片。闩锁效应是由NMOS的有源区、P衬底、N阱、PMOS的有源区构成的 n-p-n-p结构产生的,当其中一个三极管正偏时,就会构成正反馈形成闩锁。
(2) 门阵列设计时首先要选定某一种门复杂度的基片,因而门阵列 的布局和布线是在最大的门数目、最大的压焊块数目、布线通道 的间距都确定的前提下进行的。标准单元法则不同,它的单元数、 压焊块数取决于具体设计的要求,而且布线通道的间距是可变的, 当布线发生困难时,通道间距可以随时加大,因而布局和布线是 在一种不太受约束的条件下进行的。
门阵列(GA:Gate Array)
有通道门阵列:就是在一个芯片上将预先制造完毕的 形状和尺寸完全相同的逻辑门单元以一定阵列的形式 排列在一起,每个单元内部含有若干器件,阵列间有 规则布线通道,用以完成门与门之间的连接。未进行 连线的半成品硅圆片称为“母片”
• “母片”的示意图:
门海
门海(SOC:Sea-of-Gate)
全定制集成电路
优点:
• 所设计电路的集成度最高 • 产品批量生产时单片IC价格最低 • 可以用于模拟集成电路的设计与生产
缺点:
• 设计复杂度高/设计周期长 • 费用高
应用范围
• 集成度极高且具有规则结构的IC(如各种类型的存储器芯片) • 对性能价格比要求高且产量大的芯片(如CPU、通信IC等) • 模拟IC/数模混合IC
输出Y1a
输出Y1b
输出Y2a
输出Y3a
Vss
输出Y3b
输出Y2a
第19章 集成电路的芯片解剖
• 19.1.1 74HC193芯片概况 • 19.1.2 芯片解剖过程 • 19.1.3 电路分析 • 19.1.4 逻辑功能的分析 • 19.1.5 版图设计规则的分析 • 19.1.6 抑制Latch-up效应的措施
20.2 符号法版图设计
20.2.1 固定栅格式
PP
PP
NN
OOO OOO
N
N
OOO OOO
AA AA
AA
N N AAAA N N AA
OOO N N OOO
OOO
OOO
NN
PP
PP
20.2 符号法版图设计
20.2.1 固定栅格式
20.2 符号法版图设计
20.2.1 固定栅格式
二、半定制方法
A/D

通用单元法示意图
BB单元: 较大规模的功能块(如ROM、RAM、ALU或模拟电路单元等),
单元可以用GA、SC、PLD或全定制方法设计。 BB布图特点:
任意形状的单元(一般为矩形或“L”型)、任意位置、无布线 通道。 BB方法特点:
较大的设计自由度,可以在版图和性能上得到最佳的优化。 布图算法
全定制集成电路(Full-Custom Design Approach)
适用于要求得到最高速度、最低功耗和最小面积 的芯片设计。
即在晶体管的层次上进行每个单元的性能、面积的优化 设计,每个晶体管的布局/布线均由人工设计,并需要人 工生成所有层次的掩膜。对每个器件进行优化,芯片性能 获得最佳,芯片尺寸最小。
门阵列法设计流程图
后仿真 产生测试向量
门阵列方法的设计特点: 设计周期短,设计成本低,适合设计适当规模、中
等性能、要求设计时间短、数量相对较少的电路。 不足:设计灵活性低;门利用率低;芯片面积浪
费。 门海方法的设计特点:
门利用率高,集成密度大,布线灵活,保证布线布 通率。
不足:仍有布线通道,增加通道是单元高度的整数倍, 布线通道下的晶体管不可用。
可编程逻辑器件设计方法
概念: 用户通过生产商提供的通用器件,自行进行现场编程和制造,
或者通过对“与”、“或”矩阵进行掩膜编程,构造所需的专用集成 电路
器件名
“与”矩阵 “或”矩阵 输出电路
PROM
固定
可编程
固定
PLA
可编程
可编程
固定
PAL
可编程
固定
固定
GAL
可编程
固定 可由用户组态
四种简单PLD器件的比较
芯片布局:芯片中心是单元区,输入/输出单元和压焊块在芯 片四周,基本单元具有等高不等宽的结构,布线通道区没有宽度 的限制,利于实现优化布线。
标准单元
标准单元法与门阵列法比较
SC法设计流程与GA法相似,但有若干基本的不同点:
(1) 在门阵列法中逻辑图是转换成门阵列所具有的单元或宏单元, 而标准单元法则转换成标准单元库中所具有的标准单元。
2)积木块法(BB)
又称 通用单元设计法。与标准单元不同之处是:第一,它既不
要求每个单元(或称积木块)等高,也不要求等宽。每个单元可根
据最合理的情况单独进行版图设计,因而可获得最佳性能。设计好
的单元存入库中备调用。第二,它没有统一的布线通道,而是根据
需要加以分配 。
引脚
ROM
ALU、寄存器等 引
时钟产生 单元
标准单元法也存在不足:
(1) 原始投资大:单元库的开发需要投入大 量的人力物力;当工艺变化时,单元的修改 工作需要付出相当大的代价,因而如何建立 一个在比较长的时间内能适应技术发展的单 元库是一个突出问题。
(2) 成本较高:由于掩膜版需要全部定制, 芯片的加工也要经过全过程,因而成本较高。 只有芯片产量达到某一定额(几万至十几万), 其成本才可接受。
无通道门阵列:也是采用母片结构,它可以将没有利 用的逻辑门作为布线区,而没有指定固定的布线通道,
以此提高布线的布通率并提供更大规模的集成度。
门海设计技术是把由一对不共栅的P管和N管组成的基 本单元铺满整个芯片(除I/O区外),基本单元之间无 氧化隔离区,布线通道不确定,宏单元连线在无用器 件区上进行。
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