提升激光均匀性的装置以及方法[发明专利]

专利名称：提升激光均匀性的装置以及方法
专利类型：发明专利
发明人：李慧,吴晓斌,沙鹏飞,马翔宇,谢婉露,罗艳,王魁波,韩晓泉,马赫,谭芳蕊
申请号：CN202111675749.2
申请日：20211231
公开号：CN114415387A
公开日：
20220429
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明涉及一种提升激光均匀性的装置以及方法，该装置包括：斑纹衰减模块，斑纹衰减模块包括多个透射微结构，多个透射微结构按照预设排布规则排在基板上；透射结构包括相对设置的入射面和出射面，入射面面对激光处理模块，其中，任意两相邻透射微结构的折射率均不相同，且满足预设条件，预设条件为：激光从入射面入射从出射面射出一透射子光束，任意两个相邻的透射微结构产生的透射子光束之间的光程差大于入射激光的相干长度。

上述装置实对激光相干性所导致的斑纹图案具有很好的抑制效果。

申请人：中国科学院微电子研究所
地址：100029 北京市朝阳区北土城西路3号
国籍：CN
代理机构：北京辰权知识产权代理有限公司
代理人：付婧
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