《薄膜光学基础》PPT课件
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第三章 薄膜光学基础理论1
S
D ds d
S
B ds 0
B ds L E dl t S D j ds L H dl t S
波动方程的解
麦克斯韦方程的微分形式:
(1) (2) (3) (4)
对4式两端对时间求导数,则
N 2 H =i E (13) 2 c
(15)
H z H y ( H ) x = y z 2 N 2 N = i s0 y H z i s0 z H y
2 N = i (S0 H ) x
2 N (S0 H ) y
N 2 将(13)式 H =i E 代入(16)式, 2 c
i t 2 nx
说明在导电介质( 0,因而k 0)是一个衰减波, 消光系数k 是介质吸收电磁波能量的度量。 时,振幅衰减到原来的1 e 2 k 【介质内产生的电流将波的能量转换为热能】 当x =
光学导纳
对 E E0 e
2 kx
e
i t 2 nx
S EH
E E0e
H H 0e
i t x
= E eit x E eit
0 0
i t
:电振动的初相;实数部分 E E0 cos(t ) : 磁振动的初相;实数部分 H H 0 cos(t )
坡印廷矢量:
瞬时值忽大忽小 一个周期的平均值是定值 定义坡印廷矢量的平均值为光强度I
1 T I E0 H 0 cos(t ) cos(t ) d t T 0 1 = E0 H 0 cos( ) 2 ( EH * )的实数部分为 Re( EH * )= Re E0 eit H 0 e it E0 H 0 cos( ) I 1 Re( EH * ) 2
薄膜光学PPT课件
溶胶-凝胶法(Sol-Gel)
Sol-Gel是一种制备光学薄膜的新方法,具有工艺简单、成本低等优点。该方法制备的薄 膜具有纯度高、均匀性好等优点,可广泛应用于各种光学器件的制造。
在新能源和光电器件中的应用前景
太阳能光伏电池
光学薄膜在太阳能光伏电池中有着广泛的应用,如减反射膜、抗反射膜等。通过使用高性能的光学薄膜,可以提高光 伏电池的光电转换效率和稳定性。
散射类型
瑞利散射、米氏散射、拉 曼散射等。
散射强度
与波长、散射颗粒或分子 的尺寸、形状和折射率有 关。
光的吸收和反射
光的吸收
光波通过介质时,能量 被介质吸收转化为热能 或其他形式的能量的现
象。
吸收系数
表示介质对不同波长光 的吸收能力,与物质的
性质和浓度有关。
反射现象
光波在介质表面发生方 向改变的现象,可分为
光电探测器
在光电探测器中,光学薄膜可以起到保护、增强光信号的作用。高性能的光学薄膜可以提高探测器的响应速度、灵敏 度和稳定性。
激光器
在激光器中,光学薄膜可以起到调制激光输出、提高激光质量的作用。新型的光学薄膜材料和制备技术 可以推动激光器技术的发展,为新能源和光电器件的应用提供更广阔的前景。
THANKS
干涉仪测试的原理基于光的干涉现象,通过将待测薄膜放置在干涉仪中,与标准参 考膜片进行干涉,通过测量干涉图谱的变化来计算薄膜的光学常数。
分光光度计测试
分光光度计测试是一种通过测量 光的吸收光谱来分析物质的方法, 广泛应用于薄膜的光学性能测试。
分光光度计测试可以测量薄膜的 吸收光谱、反射光谱和透射光谱, 从而获得薄膜的折射率、反射率、
新型制备技术的探索
化学气相沉积(CVD)
Sol-Gel是一种制备光学薄膜的新方法,具有工艺简单、成本低等优点。该方法制备的薄 膜具有纯度高、均匀性好等优点,可广泛应用于各种光学器件的制造。
在新能源和光电器件中的应用前景
太阳能光伏电池
光学薄膜在太阳能光伏电池中有着广泛的应用,如减反射膜、抗反射膜等。通过使用高性能的光学薄膜,可以提高光 伏电池的光电转换效率和稳定性。
散射类型
瑞利散射、米氏散射、拉 曼散射等。
散射强度
与波长、散射颗粒或分子 的尺寸、形状和折射率有 关。
光的吸收和反射
光的吸收
光波通过介质时,能量 被介质吸收转化为热能 或其他形式的能量的现
象。
吸收系数
表示介质对不同波长光 的吸收能力,与物质的
性质和浓度有关。
反射现象
光波在介质表面发生方 向改变的现象,可分为
光电探测器
在光电探测器中,光学薄膜可以起到保护、增强光信号的作用。高性能的光学薄膜可以提高探测器的响应速度、灵敏 度和稳定性。
激光器
在激光器中,光学薄膜可以起到调制激光输出、提高激光质量的作用。新型的光学薄膜材料和制备技术 可以推动激光器技术的发展,为新能源和光电器件的应用提供更广阔的前景。
THANKS
干涉仪测试的原理基于光的干涉现象,通过将待测薄膜放置在干涉仪中,与标准参 考膜片进行干涉,通过测量干涉图谱的变化来计算薄膜的光学常数。
分光光度计测试
分光光度计测试是一种通过测量 光的吸收光谱来分析物质的方法, 广泛应用于薄膜的光学性能测试。
分光光度计测试可以测量薄膜的 吸收光谱、反射光谱和透射光谱, 从而获得薄膜的折射率、反射率、
新型制备技术的探索
化学气相沉积(CVD)
薄膜光学-基础讲义
光的干涉
對光波來說,滿足一定條 件的兩束光疊加時,在疊 加區域,光的強度或明暗 有一穩定分佈 Constructive interference, R increased
兩列頻率,振幅及振動 方向相同,但傳播方向 相反的波,疊加形成駐 波(Standing Wave)
Destructive interference, R decreased
nH>ns
光密介質進入光疏介質; 相位沒有變化
HL雙層減反射膜,反射率可降至0.05%以下
16
導納軌跡圖
圓心1.452= 通過(1,0) 1+1.382 2 1
2+2.22 1.52 圓心2.352= 21.52 通過(1.52,0)
1.452
2.352 2 n=2.2
0
0.5
1
N=1.38
1.52
Y3=y2H/ Y2 = y4H/ y2Lys Y2=y2L/ Y1 = y2L ys/y2H Y1=y2H/ y sub
=
yH=y3 yL=y2 yH=y1 ysub
y0yE
15
2-Layer ARC
1 2 3 nair nL nH 1 2 3 合向量
nS
Nair< nL < nH
光疏介質進入光密 介質;相位變化為
2
楊氏雙狹縫干涉
r1 S1
P
x
r2 O D
d
S
M S2
=r2-r1 (波程差) d sin=(2k-1)/2 兩束光在P點(2k-1) 振幅最小,形成 暗紋 k=0,1,2,3 明亮條紋 k=0,1,2,3 3
33
PBS偏振分光鏡
利用 Brewster angle B ,RP=0 , P偏振光之反射為0 H =nH/cos H= L =nL/cos L Sin2 H=nL2/(nH+nL),
光学薄膜原理 ppt课件
401 (0 1)2
Tp
N1 N0
cos1 cos0
( cos0 cos1
20 )2 0 1
401 (0 1)2
小结
垂直入射
倾斜入射
r N0 N1 N0 N1
N0
R t 2N0 N0 N1
N1
T
R r 2 ( N0 N1 )2 N0 N1
r 0 1 0 1
ts
20 0 1
,tp
折射率与导纳
Refractive index
3.坡印廷矢量(能流密度)S:单位时间通过单位面积的 能量
S=E×H
积分平均值: S 1 Re(N )E 2
(3)
2
4.边界条件---切向分量连续
E0 tan= E1 tan , H0 tan= H1 tan ,
E0itan + E0rtan = E1t tan
Detector
薄膜在WDM技术中的应用
DWDM Filter: Mux, Demux, OADM ,OXC等
M-WDM Filter: CWDM, Channel separation 等
W-WDM Filter: 光网控制,光插分,光放大等
Interleaver: 与DWDM Filter串接,提高复用度
20 0 1
c os 0 c os1
R r 2 (0 1 )2 0 1
T
N1 N0
t2
4N0 N1 (N0 N1)2
T
1 0
ts2
401 (0 1)2
s N cos
p N / cos
第三节 单层薄膜的传输矩阵
E12
1 2 E2
1
21
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1 2
3
先考虑由基底g和膜层3
g
组成的单层膜系统。
由式(3-225)可得,此单层膜系统的反射系数:
r r23 r3g exp( j) 1 r23r3g exp( j)
由于是λ。/4膜系,所以:
r r23 r3g 1 r23r3g
1
再考虑由膜层2和反射系
2
数为 r 的等效膜层(3,g)
2
R1
nA nA
nI nI
式中
nI
nH2 nG
是镀第一层膜后的等效折射率。若在高折射率膜层上再镀一层
低折射率膜层,其反射率为
2
R2
nA nA
nII nII
式中
nII
nL2 nI
nL nH
2
nG
是镀双层膜后的等效折射率。依此类推,当膜层为偶数(2p)层 时, (HL)p膜系的等效折射率为
3
组成的“单层膜”系统。
g
这样,此“单层膜”系统的反射系数:
r r12 r 1 r12 r
最后得到双层膜系统的反射系数:
r r12 r23 r3g r12r23r3g 1 r12r23 r12r3g r23r3g
考虑到正入射的菲涅耳系数:
rij
ni ni
nj nj
令r=0,可得双层减反膜的材料折射率条件:
此时反射率最小,透过率最大:
Rm
r12 1
r23 r12r23
2
n22 n22
n1n3 n1n3
2
Rm
r12 1
r23 r12r23
2
n22 n22
n1n3 n1n3
2
当满足下面条件时,R=0,消反射:
d
2N
1
0
4 n2
n2 n1n3
单层增透膜的缺点:
1.增透带宽窄。
这种膜系的优点是计算和制备工艺简单,镀制时容易
采用极值法进行监控;缺点是层数多,R不能连续改变。目前发 展了一种非λ0/4膜系,即每层膜的光学厚度不是λ0/4,具体厚
度要由计算确定。其优点是只要较少的膜层就能达到所需要的 反射率,缺点是计算和制备工艺较复杂。
由图,若在基片G上镀一层λ0/4的高折射率光学膜,其反射率为
r ER r12 r23 exp( j ) E0 1 r12r23 exp( j )
上式在推导过程中使用了斯托克斯倒逆关系式:
r21 r12 t12t21 1 r122
因此总反射率:
R
r2
r122 1
r223 r122r223
2r12r23 cos 2r12r23 cos
下面我们分析一下反射率R。
这种膜系之所以能获得高反射率,从多光束干涉原理 看是容易理解的:根据平板多光束干涉的讨论,当膜层两侧介 质的折射率大于(或小于)膜层的折射率时, 若膜层的诸反射光 束中相继两光束的相位差等于π(λ0/4 膜系),则该波长的反 射光获得最强烈的反射。而上图所示的膜系恰恰能使它包含的 每一层膜都满足上述条件,所以入射光在每一膜层上都获得强 烈的反射,经过若干层的反射之后, 入射光就几乎全部被反射 回去。
n22 n22
2
n1n3 n1n3
此时膜层厚度:
d 2N 1 0
4 n2
对于单层增反膜,镀膜材料折射率越大越好。
2 双层膜
设计光学薄膜计算量很大, 现在都是借助计算机软件设 计。在实践设计中多采用光 程先决法。 即先把膜层的光学厚度定为λ。/4,然后再确定材料。
介绍一种等效界面法。
层媒质时的反射系数和透射
n1
系数为:
rij
tij
(i 1,2,3; j 1,2,3)
n2 n3
d
当振幅为E0的单色平面波 正入射时,各反射光的复
振幅为:
E0
n1
E1E2 E3 E4
E1 E0r12
n2
d
n3
E2 E0t12r23t21 exp( j )
E3 E0t12r23r21r23t21 exp( j2 ) E2r21r23 exp( j )
n1 n2 n3 或 n1 n2 n3
n2 ng
n3
n1
等效折射率
单层增反膜的反射率:
RM
n22 n22
n1n3 n1n3
2
n1 n1
n22 n22
/ /
n3 n3
2
1
1
2
2
3
分界面的反射率:
2
RM
n1 n1
n2 n2
ห้องสมุดไป่ตู้
等效折射率:
nx
n12 n2
3 多层增反膜
常用的多层高反膜是由光学厚度nd都是λ0/4的高折射率 膜层和低折射率膜层交替镀制的膜系,可表示为:
3.4.4 薄膜光学基础
所谓光学薄膜,是指在透明平整的基片或金属光滑表面上, 用物理或化学的方法涂敷的单层或多层透明介质薄膜。
利用在薄膜上、下表面反射光干涉相长或相消的原理,使反 射光得到增强或减弱,可制成光学元件增透膜或增反膜,满 足不同光学系统对反射率和透射率的不同要求。
1 单层光学薄膜的反射
设光波从第i层媒质射向第j
2.材料限制。
(2) n1 n2 n3 或 n1 n2 n3 的情形
此时有半波损失,反射率总大于4%,这种薄膜有增反作用。
当 2N 或 N0 时,反射率最低,
相当于没有镀膜。
当 (2N 1) 时, cos 1
此时反射率最大,透过率最大:
RM
2
r12 1
r23 r12r23
GHLHL…HLHA=G(HL)pHA
p=1, 2, 3 …
其中,G和A分别代表玻璃基片和空气;H和L分别代表高折 射率膜层和低折射率膜层;p表示一共有p组高低折射率交 替层,总膜层数为(2p+1)。半波长的光学厚度应写成HH或L L。
λ0/4膜系的多层高反射膜示意图
GHLHL…HLHA=G(HL)pHA
2P
n2 p
nL nH
E4 E2 (r23r21)2 exp( j2 )
Em E2 (r23r21)m2 exp[ j(m 2) ]
其中:
4n2d 0
是光波在薄膜内来回一次引入的相位延迟(不考虑半波损失)。
叠加之后总的复振幅:
ER
Em
m1
E0r12
E2
1 r21r23 exp(
j )
总的反射系数:
r ER r12 r23 exp( j ) E0 1 r21r23 exp( j )
令n1=1,n3=1.5作图。
R
n2 2
1.7
1.5
0.04
1.38
1.23
2 3 4
(1) n1 n2 n3 或 n1 n2 n3 的情形
此时没有半波损失,反射率总小于4%,这种薄膜有增透 或减反作用。
当 2N 或 N0 时,反射率最高,
相当于没有镀膜。
当 (2N 1) 时, cos 1