3.2 光图定向法
摄影测量技术的定位原理
摄影测量技术的定位原理
内部定向是指将摄影测量仪器与摄影底片之间建立一种相对准确的坐标关系,以实现图像上的点与仪器的相对位置的精确测量。
内部定向可以通过仪器的标定来实现,标定具有基准标尺、重心定标和远心点标定三种方法。
基准标尺一般利用精确的长度单位来给摄影测量仪器标定刻度,重心定标则通过测量摄影机重心所在的刻度位置来确定标定刻度的误差,远心点标定则是在摄影测量仪器镜片前面设置一个可移动标定目标,通过观测标定目标在图像上的位置来确定标定刻度。
外部定向是指将摄影测量的结果与真实地物世界之间建立准确的空间几何关系,以实现图像上的点与地物世界的实际位置之间的精确对应。
外部定向主要包括姿态外方位元素的确定和外方位元素的计算两个过程。
姿态外方位元素主要包括旋转角度和摄影中心参考高程,可以通过现场观测和测量的方法来确定。
而外方位元素则是利用摄影测量得到的图像上的点与地物真实位置的对应信息,通过数学模型和计算方法来计算。
地物测量是指利用摄影测量技术来获取地物的几何信息。
地物测量主要分为立体测量和单片测量两种方法。
立体测量是指通过不同时间或位置拍摄的两张或多张照片来获取地物的三维信息,主要包括滚动框法、直接法和立体像平差法等方法。
单片测量则是通过一张照片来获取地物的二维信息,主要包括透视变换法、图像重建法和栅格计算法等方法。
综上所述,摄影测量技术的定位原理主要包括内部定向、外部定向和地物测量。
其中,内部定向是建立摄影仪器与底片之间的坐标关系,外部定向是建立图像上的点与地物真实位置之间的几何关系,地物测量则是利用摄影测量技术来获取地物的几何信息。
这些定位原理是摄影测量技术能够准确测量地物的基础。
光路是光源与探测器之间的光学通道,光路由光学元件和传输
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3.2.1 波的叠加
3.2.1.1干预 干预指两列或多列光波在空间相遇时相
互迭加,在某些区域始终加强,在另一些区 域那么始终削弱,形成稳定的强弱分布的现 象。
相干 两个波的相差φ2 – φ1恒为0或者固定 值,那么这两个波被称之为相干的。相干是 产生干预的必要条件,另外一个条件是两个 波源的频率几乎一样。
(3.1-11)
对式(3.1-11)积分,易得ln(Ф/Ф0) = –kb,或
(3.1-12)
(3.1-12)说明,随着通过吸收剂的路径增加,辐射通量〔功 率〕按幂指数率减小,常用于研究辐射在均匀介质中传播时的吸 收。
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在原子光谱分析中, k与浓度有关;在分子光谱中,k= k'c, 被分解成与物质组分及其浓度相关的两项。在吸收光谱中,更多
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图3.2-1 牛顿环干预图样
11
3.2.1.2 衍射
当障碍物的线度与光波波长可比较时,光线偏离直线传播, 进入几何暗影区,并形成明暗相间的条纹的现象。衍射也是波叠 加的结果,表现为直线传播的光束在遇到障碍时的绕射。
按照光源和屏到障碍物的距离,可以把衍射分为两种:当光 源和屏与障碍物的距离都是有限远,或其中一个是有限远时,称 为Fresnel衍射。当光源和屏与障碍物的距离都是无限远时,称为 Fraunhofer衍射;在实验室常利用凸透镜的聚焦性模拟来自“无 限远处〞的平行光。
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3.2.2.2 人为双折射现象:
某些各向同性介质在外力〔机械力、电场力〕 作用下会变成各向异性介质,从而产生双折射现象, 而有些各向异性介质在外力作用下会改变双折射性 质,这类现象称为人为双折射现象。
测绘技术摄影测量点位定向方法
测绘技术摄影测量点位定向方法1. 引言:测绘技术摄影测量的重要性和应用领域测绘技术摄影测量是一种应用摄影测量原理的测绘技术,广泛应用于地理信息系统、土地利用规划、建筑设计等领域。
通过摄影测量点位定向方法,可以获取目标物体的三维坐标信息,为相关领域的决策和规划提供精确的数据支持。
2. 摄影测量点位定向的原理摄影测量点位定向的基本原理是利用摄影测量仪器记录目标物体的影像信息,并通过解算相对定向元素和绝对定向元素,推导出目标物体的三维坐标。
相对定向元素主要包括相对摄影中对物体的影像位置关系、相对摄影中摄影机的内外定向参数等。
绝对定向元素主要通过辅助观测或控制点来获得,使得摄影坐标系与地理坐标系相一致。
3. 相对定向元素的测定方法相对定向元素的测定方法有多种途径,常用的方法包括影像纠正、影像匹配和立体分析等。
影像纠正是通过对影像进行几何纠正,得到校正后的影像,用于后续的处理。
影像匹配通过对影像进行特征提取,寻找匹配点,从而确定物体在不同影像中的对应关系。
立体分析是利用立体影像的几何关系,通过两个或多个影像的几何关系求解相对定向元素。
4. 绝对定向元素的测定方法绝对定向元素是通过辅助观测或控制点来获得,常用的方法有地面控制点测量、导航系统辅助定位和GPS技术等。
地面控制点测量是通过测量地表上的已知地物点的大地坐标和像点坐标,来推导出相机的外方位元素。
导航系统辅助定位是利用航空摄影测量中的GPS/INS导航系统,通过记录摄影机位置和姿态的GPS/INS数据来确定外方位元素。
GPS技术则是通过接收卫星信号,推导出摄影机的位置和姿态,从而获得外方位元素。
5. 点位定向方法的应用案例测绘技术摄影测量的点位定向方法在实际应用中有着广泛的应用。
例如,在土地利用规划中,可以利用摄影测量点位定向方法获取目标物体的三维坐标和形状信息,为土地利用规划提供准确的数据支持。
在建筑设计中,可以通过点位定向方法获取建筑场地的地形和地貌信息,为建筑设计和施工提供基础数据。
光路图的五种画法
光路图的五种画法
光路图是一种利用光束和反射、折射、透射等现象来模拟光的传
播过程的示意图。
光路图的绘制方法有许多,下面主要介绍五种画法:
1、采用反射索引法绘制光路图:在此种方法中,将光学元件及透镜、反射镜、凹透镜等视为光路元件,根据由几个光路元件链接形成
的光路来绘制,每个元件上画出光的输入和输出角度,并要注明法线
方向。
2、采用坐标原点法绘制光路图:在此种方法中,将光路元件表示
为坐标系中的坐标原点,将光沿着元件进行传播,画出元件之间的连线,并注明光的入射和反射角度。
3、采用平行线法绘制光路图:在此种方法中,将均行光线作为光
路元件,将元件之间用两条平行线表示,每条平行线上画出光的入射
和反射角度,并注明法线方向。
4、采用等比例法绘制光路图:这种方法不仅依靠可视化符号表示
光路元件,而且还要表达光在传播过程中的变化规律,即光的输入和
输出角度。
可以通过不同符号表示出输入角度和输出角度的等比例关系,从而绘制出光路图。
5、采用分离符号法绘制光路图:在这种方法中,将光路元件看做
光的发射源和反射源,用符号表示发射源和反射源,并用线条表示光路。
这种方法既能体现出光的传播过程,又能够表示出发射源和反射
源的位置。
博物馆照明设计规范标准
博物馆照明设计规范一总则1. 为了使博物馆既能向观众提供良好的视觉环境,又能使光学辐射对其藏品的损害减少到最低程度,特制定本规范。
2. 本规范适用于新建和改建的博物馆的照明设计。
利用古或旧建筑设立的博物馆可参照执行。
3. 博物馆的照明设计必须遵循有利于观赏展品和保护展品的原则,达到安全可靠、经济适用、技术先进、节约能源、维修方便的要求。
4. 博物馆的照明设计,除应符合本规范外,尚应符合国家现行的有关强制性标准的规定。
二术语1. 光辐射optical radiation包括可见辐射、紫外辐射和红外辐射。
可见辐射visible radiation能直接引起视感觉的光学辐射,通常将其波长范围限定在于380nm和780nm之间。
紫外辐射ultraviolet radiation波长比可见辐射短的光学辐射,通常将其波长范围限定在100nm和400nm 之间。
g=EN-US style=mso-bidi-font-size: 9.0pt>红外辐射infrared radiation波长比可见辐射长的光学辐射,通常将其波长范围限定在780nm和1000μm 之间。
2. 照度illuminance表面上一点的照度是入射在包含该点的面元上的光通量dф与该面元的面积dA之商,即E=dф/dA,该量的符号是E,单位为勒克斯(1x)。
3. 平均照度average illuminance规定表面的照度平均值。
4. 维护照度maintained illuminance是在必须换灯或清洗灯具和房间表面,或者同时进行上述维护工作的时刻所得到的参考面上的平均照度。
5. 维护系数maintenance factor照明装置在使用一定周期后,在规定表面上的平均照度或平均亮度与该装置在相同条件下新装时所得到的平均照度或平均亮度之比。
7pt; mso-line-height-rule: exactly>6. 照度均匀度uniformity ratio of illuminance最小照度与平均照度之比。
定向光变色膜技术识别方法
定向光变色膜技术识别方法
嘿,你问定向光变色膜技术识别方法啊?这定向光变色膜还挺神秘呢。
一种识别方法就是看颜色变化。
把这膜放在不同的光线下,看看颜色是不是会变。
要是在特定的光线下颜色有明显变化,那就有可能是定向光变色膜。
就像变魔术一样,一会儿一个颜色。
比如说在太阳光下是一种颜色,到了室内灯光下又变成另一种颜色。
还可以从角度来判断。
改变观察的角度,看看膜的颜色有没有变化。
有的定向光变色膜从不同角度看颜色会不一样哦。
就像你看万花筒,转一下角度就有不同的图案。
另外呢,可以用手摸摸。
定向光变色膜可能会有一些特殊的质感,和普通的膜不一样。
也许摸起来更光滑,或者更有弹性啥的。
就像你挑水果,摸摸看哪个更熟。
比如说有个人买了个手机壳,卖家说上面有定向光变色膜。
他就拿到太阳底下看看,果然颜色变了。
然后他又从不同角度看,颜色也有变化。
最后他用手摸摸,感觉这个手机壳的材质确实和普通的不一样。
这下他就确定这个手机壳上
真的有定向光变色膜。
所以说啊,定向光变色膜技术识别方法有不少呢,只要仔细观察,就能分辨出来。
咋样,现在知道怎么识别定向光变色膜了吧?。
光电定向实验报告
光电定向实验李康华(哈尔滨工业大学威海校区光电科学系,威海264209)摘要:采用四象限探测器作为光电定向实验,学习四象限探测器的工作原理和特性,同时掌握四象限探测器定向的工作方法。
实验中,四象限探测器的四个限区验证了具有完全一样的光学特性,同时四象限的定向具有较良好的线性关系。
关键词:光电定向四象限探测器1、引言随着光电技术的发展,光电探测的应用也越来越广泛,其中光电定向作为光电子检测技术的重要组成部分,是指用光学系统来测定目标的方位,在实际应用中具有精度高、价格低、便于自动控制和操作方便的特点,因此在光电准直、光电自动跟踪、光电制导和光电测距等各个技术领域得到了广泛的应用。
光电定向方式有扫描式、调制盘式和四象限式,前两种用于连续信号工作方式,后一种用于脉冲信号工作方式。
,由于四象限光电探测器能够探测光斑中心在四象限工作平面的位置,因此在激光准直、激光通信、激光制导等领域得到了广泛的应用[1]. 本光电定向实验装置采用激光器作为光源,四象限探测器作为光电探测接收器,采用目前应用最广泛的一种光电定向方式现直观,快速定位跟踪目标方位。
定向原理由两种方式完成:1、硬件模拟定向,通过模拟电路进行坐标运算,运算结果通过数字表头进行显示,从而显示出定向坐标;2、软件数字定向,通过AD 转换电路对四个象限的输出数据进行采集处理,经过单片机运算处理,将数据送至电脑,由上位机软件实时显示定向结果。
本实验系统是根据光学雷达和光学制导的原理而设计的,利用其光电系统可以直接、间接地测定目标的方向。
采用650nm激光器做光源,用四象限探测器显示光源方向和强度。
通过实验,可以掌握四象限光电探测器原理,并观测到红外可见光辐射到四象限探测器上的位置和强度变化。
并利用实验仪进行设计性实验等内容,将光学定向应用到各领域中[2]。
2、实验原理2.1、系统介绍光电定向是指用光学系统来测定目标的方位,在实际应用中具有精度高、价格低、便于自动控制和操作方便的特点,因此在光电准直、光电自动跟踪、光电制导和光电测距等各个技术领域得到了广泛的应用。
第三章 模耦合理论及应用3、2
§3.2 模耦合理论的应用—光纤定向耦合器
制作方法: 2×2定向耦合器大多采用熔融 拉锥的制造方法,在制作过程中,将两根光 纤胶合在一起,用火焰加热到软化温度后再 拉伸,在熔融区形成渐变双锥结构,拉锥后, 一方面两光纤彼此靠近,另一方面光纤芯径 减小,从而使光场由纤芯向外扩散,纤芯外 的场称为消失场。当两光纤极为靠近时,将 会通过消失场进行能量交换,产生两光纤之 间的耦合,耦合的程度取决于耦合区长度及 纤芯间包层的厚度。
2 (n12 k 02 k x2 k y )1 / 2 2 p x [(n12 n2 )k 02 k x2 ]1 / 2 2 2 p y [(n12 n2 )k 02 k y ]1 / 2 2 2 q y [(n12 n3 )k 02 k y ]1 / 2
1/ 2
, 2 1 2
§3.2 模耦合理论的应用—光纤定向耦合器
若耦合的两根光纤完全一致,且耦合的两模式相 位匹配,则可以得到两输出光场振幅及功率的表 达式 :
A( z ) A0 cos( z )
2
B( z ) iB0 sin( z )
2 p1 ( z ) A( z ) A0 cos2 ( z )
2 x
§3.2 模耦合理论的应用—矩形定向耦合器
举例: 设矩形波导定向耦合器的参数
n1 1.5, n2 1,515, n3 1,2a 5m,2b 1m,2c 1m, 632.8nm
可求得: kc 4cm1 ,即得耦合长度 LC / 2kc 3.9nm 由于耦合系数随 2c 的增大而指数式减小,所以间距 2c 发生微小变化, 可以影响耦合长度很大的变化. 例如: 上式中, Lc / 2c 7000,因此 间距 2c 发生 100nm 偏差将使耦合 长度 LC 改变 20% ,( Lc =0.7mm) 所以说明在制作给定耦合长度为
数字影像内定向的原理
数字影像内定向的原理一、引言数字影像内定向是数字摄影测量中的重要步骤,它是指通过图像处理和计算机视觉技术,对数字影像进行几何校正和定向,使其具有准确的空间坐标。
数字影像内定向的原理是基于相对定向的基本原理,通过解算摄影测量方程,获得影像的内部几何参数,从而实现影像的内定向。
二、相对定向的基本原理相对定向是指通过识别影像上的特征点,并根据这些特征点在三维空间中的坐标关系,求解影像的相对几何关系。
相对定向的基本原理是利用特征点的对应关系,通过解算三维坐标的旋转和平移参数,将不同影像之间的坐标关系转换为一个公共的坐标系统。
三、数字影像内定向的原理数字影像内定向是在相对定向的基础上进行的,它主要包括几何校正和内部几何参数的计算两个步骤。
1. 几何校正几何校正是指对数字影像进行去畸变和去尺度的处理,使其具有真实的几何形状。
去畸变是通过校正镜头的畸变参数,将影像中的畸变效应消除;去尺度是通过校正相机的内部尺度参数,将影像中的尺度效应消除。
几何校正的目的是使影像在空间中具有准确的尺度和形状。
2. 内部几何参数的计算内部几何参数是指相机的内部标定参数,包括焦距、主点坐标和畸变参数。
通过解算摄影测量方程,可以利用特征点的像素坐标和其在真实世界中的坐标,求解相机的内部几何参数。
其中,特征点的像素坐标可以通过图像处理技术提取,其在真实世界中的坐标可以通过外业测量或地理信息系统获取。
四、数字影像内定向的步骤数字影像内定向的步骤主要包括特征点提取、特征点匹配、相对定向参数求解和内部几何参数计算四个过程。
1. 特征点提取特征点提取是指通过图像处理技术,自动或半自动地从数字影像中提取具有独特性和稳定性的特征点。
常用的特征点包括角点、边缘点和斑点等,它们在不同影像中具有相似的特征,可以用来进行匹配和求解几何关系。
2. 特征点匹配特征点匹配是指通过特征描述子,对不同影像中的特征点进行匹配。
常用的特征描述子包括SIFT、SURF和ORB等,它们可以对特征点进行描述和编码,从而实现特征点的匹配和对应。
第三章 半导体晶体定向
(2)晶体定向是研究晶体各种物理性质方向性的基础。
3、晶向指数和晶面指数 (1)定义:在晶体中存在着一系列的原子列或原子平面, 晶体中原子组成的平面叫晶面,原子列表示的方向称 为晶向。 为了便于表示各种晶向和晶面,需要确定一种统一的 标号,称为晶向指数和晶面指数,国际上通用的是密 勒(Miller)指数。
3、通过晶体反射光像的对称性以及光图中心的偏离角, 来确定晶体的生长方向及晶体的晶向偏离角。如图所示
腐蚀面 腐蚀坑底面
A
图3-2-1 入射光通过光屏中心孔 照射到样品经反射后在光屏上产 生的光像
图 3-2-2 入射光被腐蚀坑底主晶 面所反射
二、测试仪的特点
1、光点定向设备简单,准确度也比较高。 2、光源已用激光源直接代替透镜系统,可以获得高亮度和高准 确度的照明光束。
5、晶带定理及应用
(1)晶带定理:
C1
相交于同一直线(或平行于同一 直线)的所有晶面的组合称为晶 带,该直线称为晶带轴,同一 晶带轴中的所有晶面的共同特 点是,所有晶面的法线都与晶 带轴垂直(如图1-23所示)。
C2
设有一晶带其晶带轴为[uvw]晶向,该晶带中任一晶面为 (hkl),则由矢量代数可以证明晶带轴[uvw]与该晶带的任一 晶面(hkl)之间均具有下列关系: hu+kv+lw =0
C
晶面DOF: (111 )
晶面ABCD: (001 )
G
H E F
晶面AIHO:(210)
O
例2:在立方晶系中画出(210)( 1 2 1) 晶面。
Z
o Y
X
如图所示,立方晶系中的晶面与晶向:(指数相同的 晶面和晶向相互垂直)
作光路图的原理
作光路图的原理光路图是描述光线传播路径和经过的光学元件的工具。
它可以用来分析光学系统的性能和设计光学仪器。
在光学设计和工程中,光路图被广泛应用于光学系统的分析、优化和调试。
光路图的制作需要考虑光线的传播特性,光学元件的特性以及光线在光学系统中的衍射、干涉、补偿、散射、吸收等效应。
制作光路图需要进行光线追迹和光线路径分析。
光线追踪是基于光的直线传播原理,通过计算光线在光学系统中的传播路径,来分析光学系统的传输特性。
光线追踪可以根据物体到像面的光线传播路径,确定像的位置和形状。
在光线追踪中,可以通过光线的角度、位置、射线方程和光学元件的参数进行计算。
光线追踪可以利用几何光学原理进行简化,但对于高级光学系统,如涉及衍射和干涉现象的系统,则需要使用更精确的物理光学原理进行分析。
光线路径分析是对光线在光学系统中的传播轨迹进行定量描述。
光线路径分析常用于光学元件的设计和光学系统的优化。
通过光线路径分析,可以确定光线在光学元件中的传播路径和光线相对于光学元件的入射角度。
通过分析入射角度,可以确定光线束在光学元件上的偏移和聚焦情况。
光线路径分析还可以用于光学系统中的光线补偿,通过调整光学元件的位置和形状,使光线沿预定路径传播。
在制作光路图时,通常使用光瞳、光线束、光线入射表面和光线出射表面等符号来表示光学元件的特性和光线的传播路径。
光瞳表示光学元件的有效光学口径,决定光线束的尺寸和传播方向。
光线束表示光线的传播路径,由光瞳发出并在光学系统中传播,最终到达像面。
光线入射表面和光线出射表面表示光线在光学元件中的入射和出射位置,可以用来计算入射角度和位置,从而进行光线路径分析。
光路图可以用来描述各种光学元件和光学系统的传输特性和成像性能。
常见的光学元件包括透镜、凸透镜、凹透镜、棱镜、反射镜等。
光学系统可以是简单的单透镜成像系统,也可以是复杂的多透镜系统和复合光学元件系统。
通过光路图,可以分析光学系统的成像质量、畸变、色差、传输损耗等性能指标。
液晶显示专题知识
光轴
光轴
ve vO
vO
ve
正晶体
负晶体
三、偏振光旳干涉
单色自然光经P1后成为线偏振光,经过晶片C后, 又成为两束不相干旳线偏振光,再经P2 后,就成为 频率相同,振动方向相同而相位差恒定旳相干光, 从而产生偏振光干涉。
偏振片P1 单色自然光
晶片C
Ae 偏振片P2
d AO
偏振化方向
光轴方向
光轴方向
寻常光:折射光线遵守折射 定律,折射率为常数,其折 射光线总在入射面内,简称 o 光(ordinary);
非寻常光:折射光线不遵守折射定律, 折射率不为常数,其折射线不一定在入 射面内,简称 e 光(extrordinary) 。
o光 e光
晶体有一种(或多种)方向,沿该方向寻常光与非 寻常光传播速度相等,此方向称为晶体旳光轴。晶体 按光轴数量分可分为单轴晶体和双轴晶体。
二、液晶显示旳特点
1、低电压、低功耗
2、平板构造 3、被动显示 优 4、显示信息量大 点 5、易于彩色化 6、长寿命 7、无辐射、无污染
1、显示视角小
缺 陷
2、响应速度慢
3、亮度由背光源决定。
三、液晶旳分类 1、液晶实际上是物质旳一种形态,也有人称其为物 质旳第四态。
液晶即具有液体一样旳流动性和连续性,又具有晶体 一样旳各向异性。
o 光旳
主平面
e 光旳 主平面
光轴
o光
e光
光轴
晶体旳双折射现象表白了晶体在光学上旳各向异性。
2、单轴晶体光学特征旳几何表达
单轴晶体旳折射率椭球方程:
x2 y2 n02
z2 ne2
1
设vO为o光传播速度, ve为e光在垂直于光轴方向上 旳传播速度,则
光路图知识点总结
光路图知识点总结一、光路图的概念1. 定义光路图是指用于描述光学元件排列和光束传输路径的图示,它可以直观地反映光路的组成和光束的传输情况,是光学系统设计和优化的重要工具。
2. 作用光路图可以帮助工程师理解光学系统的结构和工作原理,方便进行系统分析和优化,是光学系统设计、研发和生产中不可缺少的工具。
3. 基本要素光路图通常包括光源、光学元件、光学轴线、物方焦距、像方焦距、入射角、出射角等基本要素,通过这些要素可以清晰地了解光学系统的组成和光路的传输情况。
二、光学元件1. 透镜透镜是光学系统中常用的光学元件,包括凸透镜和凹透镜两种类型,它们分别具有集光和发散光的特性,广泛应用于成像、聚焦、分光和色散等方面。
2. 镜面镜面也是光学系统中常用的光学元件,主要包括平面镜、曲面镜和反射镜等类型,它们通过反射作用实现光束的控制和传输。
3. 棱镜棱镜是另一种常用的光学元件,它通过折射和色散效应实现对光束的分离和变换,可用于分光、频谱分析和色彩处理等应用。
4. 光栅光栅是一种特殊的光学元件,它具有周期性的微结构,在光束传输过程中可以实现光束的衍射和干涉,用于光谱分析和激光调制等方面。
三、光路图的绘制1. 基本步骤绘制光路图的基本步骤包括确定光学元件的位置、绘制光学轴线、确定光学要素和标注光学特性等,可以采用手绘和计算机辅助设计两种方式进行。
2. 绘制技巧在绘制光路图时,需要注意保持光路的连续性和整体性,合理规划光学元件的排列和布局,准确标注光学要素和特性,确保光路图的准确性和可读性。
3. 典型例题光路图的绘制通常涉及凸透镜、凹透镜、反射镜、折射棱镜、光栅等光学元件,根据具体的光学系统结构和要求,可以设计不同类型的光路图,并进行分析和优化。
四、光路分析与优化1. 光学系统分析通过光路图可以方便地进行光学系统分析,包括物方成像、像方成像、物方放大率、像方放大率、光束的输出角度、光束的能量分布等方面,为系统设计和优化提供重要参考。
无人机航测技术与应用-3无人机航测任务设备可编辑全文
的影响,在量测型相机上往往加装像点位移补偿装置和陀螺
稳定平台。量测型相机一般较重,多搭载在大型无人机平台
上。
3.2 数字照相机
由于载荷重量的限制,中、小型无人机还难以承载量测型相
机,而大量采用非量测型相机作为有效载荷。非量测型相机
不是专门为航空摄影测量设计的相机,因而不配置像移补偿
可分为图视频遥感载荷和非遥感的其它通信、载货等载荷。
围绕应用的任务载荷,是无人机的最终设计目的。由于民用
无人机自身偏小,有效载荷一般不大,因此要求这些设备更
小、更轻,并尽量采用商用成品。图视频遥感的任务载荷包
括光学相机、高分辨率的多轴陀螺或云台稳定数字照相机
(摄像机)、红外摄像机、多光谱成像仪、合成孔径雷达、
过红外探测、光电转换、光电信号处理等过程,将目标物体
的红外辐射信息转换为视频图像输出。在军事上,红外摄像
机可应用于军事夜视侦察、武器瞄准、夜视导引、红外搜索
和跟踪等多个领域;在民用方面,红外热像仪可以用于卫星
遥感、防灾减灾、材料缺陷的检测与评价、建筑节能评价、
设备状态热诊断、生产过程监控、自动测试等。
(需要用液态He、Ne、N制冷)探测器、中温(工作温度在
195~200K的热电制冷)探测器和室温探测器;按照响应波长
可分为中红外和热敏型探测器;根据结构和用途可分为单元
探测器、多元阵列探测器和成像探测器。根据探测机理的不
同,红外探测器分为热敏型和量子型两大类。
3.3 红外摄像机
图3.3为世界上
第一个采用5微
第三章 无人机航测任务设备
本章主要内容
3.1 光学相机
芯片制造理论基础:半导体单晶激光定向
芯片制造理论基础:半导体单晶激光定向半导体单晶激光定向目前,半导体的研究和生产所用的材料仍以硅、锗及化合物半导体为主。
它们的结构主要是金刚石,闪锌矿和纤维矿结构。
晶体的鲜明的特点是各个方向性质不同。
即具有各向异性的特点。
在不同的晶轴方向,它们的物理性能,化学性能差别非常大。
例如:晶面的法向生长速度,腐蚀速度。
杂质的扩散速度,氧化速度,以及晶面的解理特性等等,都由于晶体的取向不同而不同。
况且在科研和生产中,由于我们制造的器件使用目的不同。
往往也要求我们所用基片的半导体材料的晶向不同。
所以我们需首先对晶轴进行定向。
测定晶体取向有解理法,X 射线劳埃法,X 射线衍射法和光学反射图象法等多种方法。
其中光学反射图象法是目前生产中广泛使用的方法。
这个方法较为简便,能直接进行观测,而且在测定低指数晶面时精确度相当好。
本实验的目的,就是要了解光学反射图象法测定单晶晶面的原理,通过使用激光定向仪掌握测定硅单晶的(111),(100)晶面的定向技术。
【实验原理】1.从晶体外形确定晶向由于硅、锗的金刚石结构以及GaAs 的闪锌矿结构的特点,晶体在沿某一晶向生长时,单晶的外表将规律的分布着生长棱线。
沿(111)方向生长的硅单晶锭有六个或三个对称分布的棱线。
沿(010)方向生长的硅单晶锭有四个对称分布的棱线。
(110)方向生长的硅单晶锭则有四个不对称分布的棱线。
晶体表面的这些棱线都是由于晶体生长过程中,生长最慢的{111}晶面族中各晶面在交界处形成的。
这是由于{111}晶面是金刚石晶体的密排面,晶体表面有取原子密排面的趋势。
也就是说,在晶体生长过程中不同晶面的生长速率不同。
即原子沿晶面横向生长速度快,垂直生长速度慢。
原于密度比较大的晶切方向上原子间相互联合的键力较强,容易拉取介质中的原子沿横向生长。
而晶面与晶面之间的距离较大,相互吸引较弱,面,面上的原子间距较小,在面横因此介质中的原子在这样的面上生长新的晶面相对要困难。
《卫生标准》中小学校教室采光和照明卫生标准
中小学校教室采光和照明卫生标准为提高教学效果,保护学生视力,改善教室的采光和照明条件,使儿音青少年健康成长,特制订本标准。
本标准适用于城市、县镇的新建、改建和扩建的普通中小学校、中等师范学校和幼儿师范学样教室的采光标准学校教室的趄向宜按各地区的地理和乞候条件决定,不应采用东西趄向,宜采用南北向的双侧采光。
教室采用单侧采光进,光线应自学生座位的左侧射入,南外廊北教室时,应以北向窗为主要采光面。
1.2 教室课目标1.3 面上的采光系数最低值不1.4 应低于1。
5%、教室玻地面积比不1.5 应低不1.6 于1:6。
多雾地区(如重庆等)教室课目标1.7 面上的采光系数值不1.8 应低于2%1.9 为防止窗的直接眩光1.10 教室应设窗帘以避免阳光直接射入教室内。
为防止黑板的反射眩光1.11 其表面应以耐磨无光泽的材料制成1.12 为提高教室的采光效果1.13 室内各表面应须要用高亮度低采度的装修1.14 房间各表面的反射系数值应按表1的规定选取。
表1 室内各表面的反射系数值1.15 采光测量方法按GB5699—85〈采光测量方法〉执行。
教室的照明标准2.1 凡教室均装设人工照明。
2.2 教室课申述面上的平均照度值不应低于150LX,其照明度均匀度不应低于0.7 2.3 教室黑板应设局部照明灯,其平均垂直照度不应低于200LX照度均匀度不低于0.72.4 教室照明采光源宜采用荧光灯2.5为了减少照明光源引起的直接眩光,教室不宜采用裸灯照明。
灯具距课桌而的最低是持高度不应 1.7CM.灯管排列宜采用其长筐直于黑板面布置.对于阶梯教室,前排灯不应对后排学生产生直接眩光.2.6照明设计计算照度时,照度补偿系数取1.32.7室内照明测量方法按GB5700—85〈室内照明测量方法〉执行。
名词解释3.1 采光系数:室内某一点的采光系数为该点的照度与同一时间的室外扩散光的照度之比以%表示之。
3.2 玻地比:为下班的透光面积与室内地面面积比3.3 直接眩光:在观罕物质体的方向或接近这一方向存在的发光体而引起的眩光。
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一、光图定向的基本原理
将平行光束入射到晶体表面的腐蚀坑壁上时,再由坑壁反 射到不同的方向上。如果在反射光路上放一个光屏,将会在 光屏上得到晶体的光像,此光像与腐蚀坑具有对应的宏观对 称性。我们可以通过晶体反射光像的对称性以及光图中心的 偏离角,来确定晶体的生长方向及晶体的晶向偏离角。如图 所示
1、[111]晶向生长的硅单晶
2、[100]晶向生长的硅单晶
3、[110]晶向生长的硅单晶
三、晶向偏离度的计算
1、晶向偏离度:晶体生长方向偏离晶轴的角度。(如图所 示Φ 角) 2、晶向偏离度的计算:如图所示为光图定向仪定向装置
A
(1)
(2)
(3)
四、工艺过程
1、晶向的测定 (1)样品的制备与处理 (2)光图显示,并判断其所在晶向 2、晶向偏离度的测定。 (1)调整入射光束与样品表面垂直,记录的角坐标α 1 、 β1 。 (2) 旋转样品台的垂直、水平两个方向转轴,调节α 、β 角,并记录角坐标α 2、β 2 ,则有α = α 2 - α 1, β = β2 - β1 。 (3)计算晶向偏离度Ф 2 2 2 cos Ф=cosα .cosβ (偏离度<5度时)
A
入射光通过光屏中心孔照射到样 品经反射后在光屏上产生的光像
入射光被腐蚀坑底主晶面所反射
二、设备特点: 1、光点定向设备简单,准确度也比较高。 2、光源已用激光源直接代替透镜系统,可以获得高 亮度和高准确度的照明光束。
三、晶向与光像的关系: 光瓣的方位和对称性与{111}在极射投影面的投影点完 全一致
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