第五章-非平衡载流子-朱俊-2011
微电子器件基础第五章习题解答
p
ni
exp
Ei EFp k0T
Ei
EFp
k0T
ln
p ni
小注入下,空穴准费米能级,
Ei
E
p F
0.026ln
p0 p ni
0.026ln
2.25 105 1014 1.5 1010
0.026ln 6.67 103 0.23eV
8. 解:从题意知,P型半导体,小注入下,复合中心的电子产生率等于空穴捕获率,
第五章 非平衡载流子
1.
N Ge p 1104 s, p 1013cm3
解:
U
p
p
1013 1104
1017
cm3s1
2. 空穴在半导体内均匀产生,其产生率 g p
解: 由空穴连续性方程,
p t
Dp
2 p x2
p
E
p x
E
p p x
p p g p
3. N Si
p 1106 s
g p 1022 cm3s1 0 10cm
解: 半导体内光生非平衡空穴浓度,
p p g p 106 1022 1016 cm3s1
光照下,半导体的电导率,
0
1 pq
rn rp Nt rp rn
1 Nt rp
1 Nt rn
p
n
10. Nt 1016 cm3
解:根据PP158给出数据,
在N型硅中,金的受主能级起作用,金负离子对空穴的俘获系数,
第五章 非平衡载流子
第五章
非平衡载流子
—— 准费米能级
非平衡时载流子浓度:
准费米能级
非平衡载流子越多,准费密能级偏离EF就越进
第五章
非平衡载流子
—— 准费米能级
n型半导体,小注入时非平衡载流子浓度△n<<n0,n>~n0,此时, >1,说明EFn比EF更靠近导带底,但偏离EF较小。 此时注入空穴的浓度△p或p>>p0,要求 明EFp比EF更靠近价带。 >>0,说
第五章
非平衡载流子
—— 陷阱效应
通常电子和空穴的俘获系数相差很大:
时,陷阱很容易俘获电子(很难俘获空穴),被俘获的电子 在被复合前会受热激发重新被释放回导带,称为电子陷阱。 忽略rp
在单位体积内,每个电子在单位时间内以一定概率不空穴复合; 该概率不空穴浓度成正比(rp),则复合率R:
电子-空穴复合率 电子-空穴运动越快,其复合的几率越大, r代表丌同热运动下电子-空穴复合的平 均值。
第五章
非平衡载流子
—— 复合理论
直接复合
在非简并体系中,价带几乎是满的,导带几乎是空的,激发概率丌 受载流子浓度的影响。 非平衡载流子的净复合率: 复合率 产生率
将能量传递给其它载流子,增加其动能,称为俄歇尔复合。
第五章
非平衡载流子
—— 复合理论
直接复合 在半导体中时刻存在着载流子的产生和复合过程;
产生率:单位时间单位体积内产生电子-空穴对的数目; 复合率:单位时间单位体积内电子-空穴对被复合的数目;
电子-空穴对的直接复合意味着导带中的电子回填至价带中的空穴;
第五章
非平衡载流子
—— 复合理论
间接复合
①俘获电子 ③俘获空穴
第五章非平衡载流子讲解
外界微扰引起过剩空穴的小注 入之后,n型半导体的内部状态
5.2 非平衡载流子的寿命
外界作用:注入△n, △p使
n0 n, p0 p,
f 0 (E) f n (E) f p (E)
载流子按能量的分布变化 撤消外界作用,则
n n0 , p p 0 ,
f n (E) f p (E) f 0 (E)
tdp(t ) dp
0
te dt e dt
t
t
0
τ称为非平衡载流子的平均寿命
5.2 非平衡载流子的寿命
光电导率衰变测量的示意图
5.2 非平衡载流子的率的瞬态响应(x轴ms,y轴Mv)
5.3准费米能级
半导体处于热平衡状态时,整个半导体有同意的费 米能级,统一的费米能级是热平衡状态的标志。
Ec E F n0 N c exp( ) K 0T
平衡状态下
E F Ev p 0 N v exp( ) K 0T EF n0 E c K 0T ln Nc p0 E v K 0T ln Nv
5.3准费米能级
非平衡载流子注入,就不再存在统一的费米能级了。
但在同一能带内,由于载流子之间的相互散射,很快
第五章非平衡载流子
5.1非平衡载流子的注入与复合 5.2 非平衡载流子的寿命 5.3准费米能级 5.4复合理论
5.5 陷阱效应
5.6 载流子的扩散方程
5.7 载流子的漂移运动,爱因斯坦关系式
5.8 连续性方程
5.1非平衡载流子的注入与复合
非简并半导体,处于热平衡时,电子浓度n0,空穴 浓度P0
n0 p0 ni2 N c N v e
第五章 非平衡载流子
表明寿命τ∝1/Nt,也就是复合中心浓度越高寿命τ越小。 小注入时Δp<<(n0+p0),如果rn和rp相差不大,可得到
τ
rn (n0 n1 ) rp (p0 p1 ) Ntrn rp (n0 p0 )
等于费米能级EF与复合中心Et重合时导带的平衡电 子(空穴)浓度 空穴激发几率S+=rpp1 非平衡载流子的复合率
U
Ntrn rp (np n i2 ) rn (n n1 ) rp (p p1 )
School of Microelectronics
平衡态时 np=n0p0=ni2,即净复合率U=0;
相反的逆过程也同时存在。
School of Microelectronics
当只存在一个复合中心能级Et时,相对于Et存在如图所
示的四个过程: 甲:复合中心能级Et从导带俘获电子;乙:复合
中心能级Et向导带发射电子;丙: 复合中心能级Et上电子落入 价带与空穴复合;丁: 价带电子被激发到复合中心能级Et 。 这四个过程中甲和乙互为逆过程,丙和丁也互为逆过程。
称n0p0=ni2为非简并半导体平衡态判据式。
School of Microelectronics
但是半导体的平衡态条件并不总能成立,如果某些外界
因素作用于平衡态半导体上,如图所示的一定温度下用光子
能量hγ≥Eg的光照射n型半导体,这 时平衡态条件被破坏,样品就处于偏 离平衡态的状态,称作非平衡态。 光照前半导体中电子和空穴浓度分
非平衡少子寿命取决于非平衡载流子的复合过程。 按复合过程中载流子跃迁方式不同分为直接复合和间接复合。
直接复合是电子在导带和价带之间的直接跃迁而引起电子-空穴
3.28第五章非平衡载流子
半导体物理
非平衡载流子
5.2 非平衡载流子的寿命
p( t ) p0 e
t
由上式可以得到Δp( t+て )= Δp( t )/e,若取Δp( t )= (Δp)0/e。所以寿命标志着非平衡载流子浓度减小到原 值的1/e所经历的时间。寿命不同,非平衡载流子衰减 的快慢不同,寿命越短,衰减越快。
过剩载流子复合后重建热平衡
信息科学与工程技术学院
半导体物理
非平衡载流子
5.1 非平衡载流子的注入与复合
光照前:
光照后:
n0 , p0 0 n0qun p0qu p
n n0 n p p0 p
1 1
nqun pqu p 0
' 0 nqu n pqu p
由于相对于非平衡载流子,非平衡少数载流子的 影响处于主导的,决定的地位,因而非平衡载流子的 寿命常称为少数载流子寿命。
信息科学与工程技术学院
半导体物理
非平衡载流子
5.2 非平衡载流子的寿命
用て来表示非平衡载流子的平均生存时间,即 称为非平衡载流子的寿命。 1/τ 表示在单位时间内复合掉的非平衡载流子 在现存的非平衡载流子中所占的比例。 所以,1/τ 是单位时间内每个非平衡载流子被复 合掉的几率; Δ p/τ 是非平衡载流子的复合率。
信息科学与工程技术学院
半导体物理
非平衡载流子
5.1 非平衡载流子的注入与复合
光照:产生>复合; 停止:复合>产生
光照停止时,半导体中仍然存在非平衡载流子。 由于电子和空穴的数目比热平衡时增多了,它们在 热运动中相遇而复合的机会也将增大。这时复合超 过了产生而造成一定的净复合,非平衡载流子逐渐 消失,最后恢复到平衡值,半导体又回到了热平衡 状态。
第五章 非平衡载流子
第五章 非平衡载流子
例: 1Ω·cm 的 n 型 硅 中 , n0≈5.5×1015cm-3, p0≈3.1×104cm-3 注 入 非 平 衡 载 流 子 △n=△p=1010cm-3 , △n《n0,是小注入。 △p约是p0的106倍,即△p》 p0 。
●在小注入的情况下,非平衡少数载流子浓度还是
第五章 非平衡载流子
复合率R(复合速率)有如下形式
R=rnp (5-12)
比例系数r称为电子-空穴复合概率(直接复合系数)。
产生率=G
(5-13)
G仅是温度的函数,与n、p无关。
第五章 非平衡载流子
讨论热平衡情况。
产生率必须等于复合率。此时n=n0,p=p0, 就得到G和r的关系
G rn0 p0 rni2
引入 导带费米能级 准费米能级 价带费米能级
电子准费米能级(EFn) 空穴准费米能级(EFp)
第五章 非平衡载流子
引入准费米能级,非平衡状态下的载流 子浓度用与平衡载流子浓度类似公式表达
EC EFn n NC exp( ) k0T EFp EV p NV exp( ) k0T
第五章 非平衡载流子
在非平衡状态时,总是多数载流子的准费米 能级和平衡时的费注能级偏离不多,而少载流子
的准费米能级则偏离很大。
第五章 非平衡载流子
EC EFn EFn EF EFn Ei n NC exp( ) n0 exp( ) ni exp( ) k0T k0T k0T EFp EV EF EFp Ei EFp p N v exp( ) p0 exp( ) ni exp( ) k0T k0T k0T (5 10)
G0=R0
5 非平衡载流子
N t r(np-n i 2 ) U E t Ei n p+2n i ch( ) k 0T 当Et Ei时,U U MAX
所以 最有效的复合中心是深能级, 它在Ei 附近 Et Ei
(3)俘获截面
假设复合中心为截面积为
Nt- nt :未被电子占据的复合中心的浓度
电子俘获
电子发射
空穴俘获
空穴发射
俘获电子:复合中心能级 Et 从导带中俘获电子 发射电子:复合中心能级 Et 上的电子被发射到导带 俘获空穴:电子从复合中心能级 Et 落入价带与空穴复合, 也可看成复合中心能级 Et从价带中俘获空穴 发射空穴:价带电子被激发到复合中心能级 Et 上, 也可看成复合中心能级 Et 向价带发射空穴
1
1
v
1
s
而表面复合率:
表面非平衡载流子 p s 表面复合速度 s
由于表面复合而失去的非平衡载流子数目,就如同表面处的非 平衡载流子(⊿p )s,都以 s 大小的速度流出了表面
非平衡载流子的复合率 U
p
1 而 p Nt rp
对n型半导体 :假定单位表面积的复合中心总数为Nst,薄层中
的平均的非平衡载流子浓度是(⊿p )s ,则表面复合率
Us
( p)s
p
rp N st ( p)s T N st ( p)s
SP T Nst
则表面复合速度
非平衡载流子的寿命与材料的完整性、杂质含量以及样品表面 状态有极密切的关系,所以,寿命是“结构灵敏”的参数
1 p p 0 e p 0 e 可见 n n e 1 n 0 0 e
第五章非平衡载流子
Ud = r ( n0 + p0 ) + Δ p Δ p 非平衡态
二、直接复合
2、非平衡载流子的寿命
τ
=
Δp Ud
=
r (n0
1
+ p0 +Δp )
( ) τ 小注入时: ≈ 1 r n0 + p0
①寿命不随注入程度变化 ②寿命与温度和掺杂有关
τn ≈ 1 rn0 (n型)
τ p ≈ 1 rp0 (p型)
大注入时: τ ≈ 1 rΔp
寿命与注入程度有关
窄禁带半导体 直接禁带半导体
三、间接复合
¾复合中心——禁带中引入深能级的缺陷和杂质,促进复合过程。 ¾间接复合的四个基本过程:
甲:电子俘获 乙:电子激发
丙:空穴俘获 丁:空穴激发
甲、电子俘获; 丙、空穴俘获; 导带电子和价带空穴都被复合中心俘获, 在复合中心完成复合。
τ
≈
rn
(n0 + n1 ) + rp ( ( Nt rnrp n0 +
p0 p0
+
)
p1
)
三、间接复合
5、有效复合中心
( ) U
=
rn
Nt rnrp
(n + n1 ) + rp (
p
+
p1 )
np − ni2
若假设rn=rp=r,代入n1,p1,则
U=
( ) Ntr np− ni2
n
+
p
+
2
⎛ nich ⎜
=
Dp
d2 Δp(
dx2
x)
稳态扩散时积累率等于复合率:
半导体物理分章答案第五章
Rn = rn n( N t − nt ) N t :复合中心浓度 其中, 其中,rn 是与温度有关的 比例系数, 比例系数,称为电子俘获 nt :复合中心上电子浓度 系数。 系数。
⑵电子的发射过程(乙) 电子的发射过程( 是温度的函数,与导带空状态密度成正比。 电子激发几率s-是温度的函数,与导带空状态密度成正比。 在非简并情况下, 可写成: 在非简并情况下,电子的产生率Gn可写成:
第五章 非平衡载流子
Carrier concentrations in unequilibrium
重点: 重点:
1、平衡与非平衡半导体判定标准 2、复合理论 3、非平衡载流子的运动规律
§5.1 非平衡载流子的注入与复合
Injection and Recombination of Carriers
1、非平衡载流子及其产生(注入) 非平衡载流子及其产生(注入)
非平衡态的电子与空穴各自处于热平衡态 则 1 fn (E) = E−En
F
f p (E) =
1 + e k0T 1
p EF − E k 0T
1+ 1+ e n E F → 电子准费米能级
p E F → 空穴准费米能级
对于非简并系统,可求得: 对于非简并系统,可求得:
n = Nce
n Ec − E F − k 0Tபைடு நூலகம்p E F − Ev − k 0T
(1)平衡态 G = R = r n0 p0 = r ni2 (2)非平衡态
在非简并情况下,产生率G仅 在非简并情况下,产生率G 非平衡载流子的复合率U 是温度的函数。 = 复合率 – 产生率。 产生率。 非平衡载流子的复合率Ud是温度的函数。即,当温度一定, 当温度一定, 半导体材料的G 半导体材料的G在平衡态和非平 Ud = R - G = r n p - r 衡态状态下数值相等) n0 p0 = r ( n p - ni2 。 衡态状态下数值相等。
半导体物理学——非平衡载流子
半导体物理学黄整平衡载流子在热平衡状态下的载流子称为平衡载流子¾非简并半导体处于热平衡状态的判据式200in p n=(只受温度T 影响)2由于受外界因素如光、电的作用,半导体中载流子的过剩载流子分布偏离了平衡态分布,称这些偏离平衡分布的载流子为过剩载流子,也称为非平衡载流子电子和空穴增加和消失的过程称为载流子的产生和复过剩载流子不满足费合米-狄拉克统计分布且n pΔ=Δ2innp=不成立3电中性与电导率平衡过剩电中性:载流子载流子n pΔ=Δ0n n n=+Δ=+Δ过剩载流子的出现导致半导体电导率增大0p p p=n pnq pq σμμΔΔ+Δ()=n p pq μμΔ+4小注入条件一般情况下,注入的非平衡载流子浓度比平衡时的多数载流子浓度小得多n n Δ<<N 型材料0n n ≈P 型材料p p Δ<<0p p ≈5np n p e=n e=00C E FnE E i F产生和复合产生¾电子和空穴(载流子)被创建的过程复合¾电子和空穴(载流子)消失的过程产生和复合会改变载流子的浓度,从而间接地影响电流12产生直接产生R-G 中心产生载流子产生与碰撞电离13复合A 直接复合间接复合Auger 复合禁带宽度小的半导体材料窄禁带半导体及高温情况下具有深能级杂质的半导体材料14)间接复合禁带中存在复合中心,电子与空穴的复合分为两步第步E c E t•(一)第一步电子由导带E 进入复合中心E E v(二)子带c 复中t第二步电子由复合中心E t 进入价带E V (或空穴被俘获)18E c -E t 之间电子的俘获和发射E •n 、p :非平衡态下的电子和空穴浓度N t :复合中心的浓度c E t(一)(二)n t :复合中心上的电子浓度N -n 未被电子占有的复合中心浓度(复合中心的E vt t :未被子占有复中浓度复中空穴浓度)r 电子俘获率()n n t t R r n N n =−n 称为电子俘获系数电子产生率s -为电子激发几率n tQ s n −=19•般地空穴的产生率E c E t(一)一般地,空穴的产生率()p t t Q s N n +=−E v(二)−1()p t t r p N n =1()p p t p t t U r n p r p N n =−−空穴的尽俘获率22表面复合表面复合率少子的寿命受半导体的形状和表面状态的影响单位时间流过单位表面积的非平衡载流子ΔΔs su s p =⋅Δ1/s cm 21/cm 3p s 为样品表面处单位体积的非平衡载流子数(表面处的非平衡载流子浓度1/cm 3)比例系数s ,表征表面复合的强弱,具有速度的32量纲,称为表面复合速度。
半导体物理第五章非平衡载流子
热平衡:产生率=复合率
平衡载流子浓度:
n0 p0 Nv N c exp(
Eg k0T
) ni
2
通常对于半导体内产生 的非平衡载流子满足:
n p
如果非平衡载流子的浓度远小于平衡多数载流子 的浓度,称小注入。 如n0=5.5×1015,P0=3.1×104,Δn=1010 即使在小注入的情况下,非平衡少数载流子比平 衡少数载流子的浓度大很多,非平衡多数载流子 可以忽略。 在非平衡状态下,载流子浓度不满足np=ni2
寿命从10-7~10-10s
5.5 陷阱效应
陷阱效应与陷阱中心
杂质能级:施主作用,复合中心,缺陷陷阱效应
杂质能级的积累非平衡载流子的作用就称为陷阱效 应。陷阱效应也是杂质能级在有非平衡载流子的情 况下发生的一种效应。相应的杂质和缺陷称为陷阱 中心。 陷阱效应的分析
5.6 非平衡载流子的扩散
1.一维稳定扩散
2、非平衡载流子的注入和检验
外界因素的作用使半导体产生非平衡载流子,称 非平衡载流子的注入。
nqn pq p pq( n p )
V Ir p
5.2非平衡载流子寿命
1.非平衡载流子复合衰减规律及其寿命
2、寿命测量的实验方法
实验测量非平衡载流子的寿命通常称为半导体材 料的寿命
载流子的净复合率 =非平衡载流子复合率 =p/
小注入: 大注入:
计算Si:3.5s,Ge:0.3S 实验测量大概在几个ms。 结论:直接复合不是决定作 用,间接复合其主要作用, 决定材料的寿命。
3.间接复合 杂质和缺陷在禁带中形成的杂质能级,有促进非平衡 载流子复合的作用,称这些起促进复合作用的杂质和 缺陷为复合中心,对应的杂质能级为复合中心能级。
半导体物理第五章习题答案
第五篇 题解-非平衡载流子刘诺 编5-1、何谓非平衡载流子?非平衡状态与平衡状态的差异何在?解:半导体处于非平衡态时,附加的产生率使载流子浓度超过热平衡载流子浓度,额外产生的这部分载流子就是非平衡载流子。
通常所指的非平衡载流子是指非平衡少子。
热平衡状态下半导体的载流子浓度是一定的,产生与复合处于动态平衡状态 ,跃迁引起的产生、复合不会产生宏观效应。
在非平衡状态下,额外的产生、复合效应会在宏观现象中体现出来。
5-2、漂移运动和扩散运动有什么不同?解:漂移运动是载流子在外电场的作用下发生的定向运动,而扩散运动是由于浓度分布不均匀导致载流子从浓度高的地方向浓度底的方向的定向运动。
前者的推动力是外电场,后者的推动力则是载流子的分布引起的。
5-3、漂移运动与扩散运动之间有什么联系?非简并半导体的迁移率与扩散系数之间有什么联系?解:漂移运动与扩散运动之间通过迁移率与扩散系数相联系。
而非简并半导体的迁移率与扩散系数则通过爱因斯坦关系相联系,二者的比值与温度成反比关系。
即T k q D 0=μ 5-4、平均自由程与扩散长度有何不同?平均自由时间与非平衡载流子的寿命又有何不同?答:平均自由程是在连续两次散射之间载流子自由运动的平均路程。
而扩散长度则是非平衡载流子深入样品的平均距离。
它们的不同之处在于平均自由程由散射决定,而扩散长度由扩散系数和材料的寿命来决定。
平均自由时间是载流子连续两次散射平均所需的自由时间,非平衡载流子的寿命是指非平衡载流子的平均生存时间。
前者与散射有关,散射越弱,平均自由时间越长;后者由复合几率决定,它与复合几率成反比关系。
5-5、证明非平衡载流子的寿命满足()τte p t p -∆=∆0,并说明式中各项的物理意义。
证明:()[]ppdt t p d τ∆=∆-=非平衡载流子数而在单位时间内复合的子的减少数单位时间内非平衡载流时刻撤除光照如果在0=t则在单位时间内减少的非平衡载流子数=在单位时间内复合的非平衡载流子数,即()[]()1−→−∆=∆-pp dt t p d τ在小注入条件下,τ为常数,解方程(1),得到()()()20−→−∆=∆-p te p t p τ式中,Δp (0)为t=0时刻的非平衡载流子浓度。
半导体物理第5章
3 过程中 只有已被电子占据的复合中心才能俘获空穴.
空穴俘获率=rppnt
rp称为空穴俘获系数 p:价带空穴浓度
4 过程中
价带中电子只能激发到空的复合中心能级. 只有空着的复合中心才能向价带发射空穴. 空穴产生率=s+ (Nt-nt) s+称为空穴激发概率 平衡时,空穴俘获率=空穴产生率
一般地说,禁带宽带越小,直接复合的几率越大。
所以,在锑化铟(0.18eV)和碲( 0.3eV )等小禁带 宽度的半导体中,直接复合占优势。
实验发现,砷化镓的禁带宽度虽然比较大一些,但直接 复合机构对寿命有着重要的影响,这和它的具体能带结 构有关。
砷化镓是直接带隙半导体。
把直接复合理论用于锗、硅,得到的寿命值比实验结果 大的多。
于是,
n0
Nc
exp
Ec EF k0T
nt 0
exp
Nt Et EF
k0T
1
s
rn Nc
exp
Ec Et k0T
rnn1
其中,
n1
Nc
exp
Ec Et k0T
ni
exp
Et Ei k0T
n1恰好等于费米能级EF与复合中心能级Et重合时的平衡电子浓度。 电子生产率 rnn1nt
这说明对于硅、锗寿命还不是由直接复合过程所决定, 一定有另外的复合机构起着主要作用,决定着材料的导体禁带中形成能级,它们不但影响半导体 导电性能,还可以促进非平衡载流子的复合而影响其寿命。
实验表明半导体中杂质和缺陷越多,载流子寿命就越短。 通常把具有促进复合作用的杂质和缺陷称为复合中心。 复合中心的存在使电子-空穴的复合可以分为两个步骤,先是
)
第五章-非平衡载流子讲解
•
p = p0 + p
• 空穴浓度增加, EF下降。
“ 矛盾 ? ”
•如何解决?抛弃EF ?改善EF ? •合理的解决方案:两个费米能级, EFn和EFp
非平衡态的费米能级
• 用准费米能级描述 • 用EFn描述稳定非平衡态时的:n = n0 + n • 用EFp描述稳定非平衡态时的:p = p0 + p
例:在室温T = 300 K时,理论计算本征的
锗:r = 6.5×10-14cm3/s, = 0.3 s; 硅: r = 10-11cm3/s, = 3.5 s 。
实际上,材料的寿命比上述值低得多。
小禁带宽度的材料(锑化铟Eg=0.3eV),直接复合占优势。
2.间接复合
• 直接复合是材料的本征情况。
• 若使式(5-1)不成立,在确定的温度T下, 对特定的半导体材料(Eg一定),只有使 n0或p0突然发生变化,变化原因是各种外 场:
非平衡的产生
• 外场:光效应、热效应、电效应、磁效应。 • 光效应:
•子光从照价,带光跃子上的导能带量,h从若而大产于生禁电带子宽-空度穴Eg对,将。有电电 子浓度增加了n,同时价带中空穴浓度增加p。 •其中 n = p
另外,还存在与上述两步相反的逆过程。
• 能够产生和复合e-p对的四个步骤:
•甲:Et俘获导带电子“Ec电子Et” •乙: Et激发电子:“Et电子 Ec” •丙: Et俘获价带空穴“Et电子Ev” •丁: Et激发空穴 “Ev电子Et”
•甲乙互逆过程的讨论: Εc的电子浓度为n,Εt 复合中心的浓度为Nt 被电子占据了nt, 未被占据的浓度为Nt – nt。 n大, Nt – nt 大, 则复合机会大: 甲过程:
第五章非平衡载流子
故附加光电导: =nqn +pqp=nq n +p
10
3. 准费米能级 ( Quasi-Fermi Level )
费米分布函数来描述是用来描述平衡状态下的电子按能 级的分布的。也即只有平衡状态下才可能有“费米能级”
热平衡电子系统有统一的费米能级
11
对于热平衡状态下的非简并系统,有:
对于
n型材料(n0>>p0),则有 1 r n0
结论: 在小注入下,当温度和掺杂一定时,寿命是一个 常数。寿命与多数载流子浓度成反比,即电导率 越高,寿命越短。
36
(2) 大注入条件下,即 p n0 p0 1 rp
结论 :寿命不再是常数,依赖于非平衡载流子浓度
理论计算获得室温下本征硅和锗的参数为:
行的复合。
38
(1) 间接复合的四个微观过程:
甲:俘获电子。复合中心能级从导带俘获一个电子; 乙:发射电子。复合中心能级上的电子被激发到导带;(甲的逆过程) 丙:俘获空穴。电子由复合中心落入价带与空穴复合。 丁:发射空穴。价带电子被激发到复合中心能级。(丙的逆过程)
甲乙 丙丁
甲乙 丙丁
过程前
过程后
* 平衡态与非平衡态间的转换过程:
热平衡态: 产生率等于复合率,△n=0; 外界作用: 非平衡态,产生率大于复合率,△n增大; 稳定后: 稳定的非平衡态,产生率等于复合率,△n不变; 撤销外界作用:非平衡态,复合率大于产生率,△n减小; 稳定后: 初始的热平衡态(△n=0)。
8
2. 非平衡载流子的检验——光电导
,
非平衡载流子浓度n p 1010 cm3
则 n n0 而p p0
n p
n0 p0
n p
n0 5.51015cm3 p 1010 cm3
第五章非平衡载流子_半导体物理
故
Et = EC + Ev − EF − k0T ln
Ei
NC Nv
∵ 本征费米能级
= 1 EC + EV − k0T ln NC 2 NV
∴ Et = 2 Ei − EF 可写成: Et − Ei = Ei − EF 一般 p 型半导体室温下, EF 远在 Ei 之下。所以 Et 远在 Ei 之上 ;故不是有效复 合中心。 11.在下述条件下,是否有载流子的净符合或者净产生: ①在载流子完全耗尽(即 n,p 都大大小于 ni )的半导体区域。 ②在只有少数载流子被耗尽(例如, p n << pn 0 ,而 nn = nn0 )的半导体区域。 ③在 n=p 的半导体区域,这里 n >> ni [解]:非平衡载流子复合率公式: U =
2
N t rn rp (np − ni ) rn (n + n1 ) + r p ( p + p1 )
2
①在载流子完全耗尽: np − ni < 0 即: U < 0 ,存在载流子净产生。 ②在只有少数载流子被耗尽:
例如, p n << pn 0 ,而 nn = nn 0 则: nn p n << p n0 nn 0 = ni :存在载流子净产生。 ③在 n=p 的半导体区域, n >> ni : np = n 2 >> ni ,存在载流子净复合。 12.在掺杂浓度 N D = 1016 cm −3 ,少数载流子寿命为 10us 的 n 型硅中,如果由于 外界作用,少数载流子全部被清除,那么在这种情况下,电子-空穴对的产生率 是多大?(设 Et = Ei ) [解]: N D = 1016 cm −3 ,假设全部电离: n = N D = 1016 cm −3 τ = 10us , Et = Ei 少数载流子被清除, ⇒ p=0 由于 Et = Ei , ⇒ n1 = p1 = ni U= N t rn rp (np − ni ) rn (n + n1 ) + rp ( p + p1 )
半导体物理第五章习题答案
第5章 非平衡载流子1. 一个n 型半导体样品的额外空穴密度为1013cm -3,已知空穴寿命为100μs ,计算空穴的复合率。
解:复合率为单位时间单位体积内因复合而消失的电子-空穴对数,因此1317306101010010U cm s ρτ--===⋅⨯ 2. 用强光照射n 型样品,假定光被均匀吸收,产生额外载流子,产生率为g p ,空穴寿命为τ,请①写出光照开始阶段额外载流子密度随时间变化所满足的方程; ②求出光照下达到稳定状态时的额外载流子密度。
解:⑴光照下,额外载流子密度∆n =∆p ,其值在光照的开始阶段随时间的变化决定于产生和复合两种过程,因此,额外载流子密度随时间变化所满足的方程由产生率g p 和复合率U 的代数和构成,即()p d p pg dt τ=-⑵稳定时额外载流子密度不再随时间变化,即()0d p dt=,于是由上式得0p p p p g τ∆=-=3. 有一块n 型硅样品,额外载流子寿命是1μs ,无光照时的电阻率是10Ω⋅cm 。
今用光照射该样品,光被半导体均匀吸收,电子-空穴对的产生率是1022/cm 3⋅s ,试计算光照下样品的电阻率,并求电导中少数载流子的贡献占多大比例?解:光照被均匀吸收后产生的稳定额外载流子密度226163101010 cm p p n g τ-∆=∆==⨯=-取21350/()n cm V s μ=⋅,2500/()p cm V s μ=⋅,则额外载流子对电导率的贡献1619()10 1.610(1350500) 2.96 s/cm n p pq σμμ-=∆+=⨯⨯⨯+=无光照时0010.1/s cm σρ==,因而光照下的电导率0 2.960.1 3.06/s cm σσσ=+=+=相应的电阻率 110.333.06cm ρσ===Ω⋅少数载流子对电导的贡献为:p p p p q p pq pq g σμμτμ=≈=代入数据:16190()10 1.6105000.8/p p p p p q pq s cm σμμ-=+∆≈∆=⨯⨯⨯=∴00.80.26263.06p σσσ===+﹪ 即光电导中少数载流子的贡献为26﹪4.一块半导体样品的额外载流子寿命τ =10μs ,今用光照在其中产生非平衡载流子,问光照突然停止后的20μs 时刻其额外载流子密度衰减到原来的百分之几?解:已知光照停止后额外载流子密度的衰减规律为0()tP t p e τ-=因此光照停止后任意时刻额外载流子密度与光照停止时的初始密度之比即为()t P t e P τ-= 当520210t s s μ-==⨯时202100(20)0.13513.5P e e P --====﹪ 5. 光照在掺杂浓度为1016cm -3的n 型硅中产生的额外载流子密度为∆n=∆p= 1016cm -3。
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∆p0 ∆p = e
1 ⇒ τ就是∆p (t )衰减到(∆p )0的 所需的时间 e
§5.3
准 费 米 能 级
一、非平衡态的电子与空穴各自处于热平衡态 非平衡态的电子与空穴各自处于热平衡态 各自 准平衡态,但具有相同的晶格温度 但具有相同的晶格温度: 准平衡态 但具有相同的晶格温度: 对于价带和导带的电子而言, 对于价带和导带的电子而言,它们各自基本处 于平衡态, 于平衡态,尽管导带和价带之间不平衡 1 n n fn ( E ) = EF 导带电子 → E − EF k 0T 1+ e 准费米能级 p 1 EF 价带空穴 → f (E ) = p p EF − E 准费米能级 k 0T 1+ e
一、载流子的复合形式: 载流子的复合形式:
直接复合: 直接复合: 按复合机构分:
•
Ec
Ev
• 间接复合: 间接复合:
Et
Ec
Ev
Ec
Eg
Ev
直接复合: 直接复合:
间接复合: 间接复合:
表面复合 按复合发生的位置分 体内复合 发射光子 →辐射复合 按放出能量的形式分 俄歇复合 无辐射复合 发射声子→无辐射复合
与一个空穴相遇的几率,通常称为复合系数 与一个空穴相遇的几率,通常称为复合系数 或复合概率 和速度相关的统计量
当n=n0,p=p0时, rn0p0=热平衡态时单位时间 、 单位体积 热平衡态时单位时间、 热平衡态时单位时间 被复合掉的电子、 被复合掉的电子、空穴对数 表示复合率 对直接复合,用Rd表示复合率 直接复合, Rd=rdnp—非平衡 非平衡 Rd=rdn0p0—热平衡 热平衡
∆p (t ) − ∆p (t + ∆t ) ∆t
当∆t→0时,t时刻单位时间单位体积被复合掉 → 时 时刻单位时间单位体积被复合掉 的非子数 ,为:
d ∆p − dt
复合概率为: 复合概率为:
1
d ∆p (t ) 1 ∴− = ∆p (t ) ⋅ dt τ
τ
∆p(t ) = ce
C为积分常数 为积分常数 t=0 时,
Eg kT
) = ni
2
当对半导体施加外界作用时, 当对半导体施加外界作用时,出现与平衡态的偏 载流子浓度发生变化,可比n 离,载流子浓度发生变化,可比 o和po多出一部 非平衡载流子。 分,即非平衡载流子。
一、非平衡载流子的产生 1.光注入 .
用波长比较短的光 no
光照
∆n
(hγ
> Eg
)
po ∆p
二、非平衡态时的载流子浓度
1.表达式: .表达式: 热平衡态时 : n0 = N c e 非平衡时: 非平衡时: n = N c e
Ec − EF − KT
Ec − EFn − KT − Ec − EF − ( EFn − EF ) KT
= Nce = n0 e
EFn − EF KT
非子越多, 非子越多,准费米 能级偏离原来E 能级偏离原来 F就 越远
二、非平衡时的附加电导
电阻R比半 电阻 比半 导体的电阻 大得多, 大得多,可 以认为通过 半导体的电 半导体的电 流基本不变
R
光 照 △V △σ
半 导 体
△p或△n的变化 或 的变化
光注入引起附加光电导
热平衡时: 热平衡时: 非平衡时: 非平衡时:
σ 0 = p0 q µ p + n0 q µ n
−
t
τ
∆p (0) = ∆p0
− t
∴∆p (t ) = ∆p0 e
τ
∆p
(∆p )0
(∆p )0 e
0 τ
t
非子的平均寿命: 非子的平均寿命
t
∫ = ∫
∞
0 ∞ 0
td ∆p (t ) d ∆p (t )
=τ
为非平衡载流子的寿命 ∴ τ为非平衡载流子的寿命 t=τ时,非子浓度减到: τ 非子浓度减到: 非子浓度减到
二、非子的直接复合 1.复合率和产生率
(1) 复合率: 复合率: 用R(restore)表示 表示 单位时间、单位体积中被复合的载流子对 单位时间、单位体积中被复合的载流子对 电子—空穴对),量纲为: 个 ),量纲为 (电子—空穴对),量纲为:对(个)/s·cm3
R∝np
R=rnp
r:比例系数,它表示单位时间一个电子 比例系数,
对同块材料 : 非平衡载流子浓度有: 非平衡载流子浓度有:∆n=∆p ∆ 热平衡时n 非平衡时, > 热平衡时 0·p0=ni2,非平衡时,n·p>ni2 n型: 型 ∆n—非平衡多子 非平衡多子 非平衡 ∆p—非平衡少子 非平衡少子 p型: 型 非平衡多子 ∆p—非平衡多子 非平衡 ∆n—非平衡少子 非平衡少子
= rd np − rd n0 p0
热平衡态下的复合率
= rd ∆p [ n0 + p0 + ∆p ]
3.直接复合的非子寿命 .
非子的净复合率= 非子的净复合率
非子寿命
注意: 注意:
∆n,∆p—非平衡载流子的浓度 , 非平衡载流子的浓度 n0,p0—热平衡载流子浓度 热平衡载流子浓度 n,p—非平衡时导带电子浓度 , 非平衡时导带电子浓度 和价带空穴浓度
4.大注入、小注入 .大注入、
● 注入的非平衡载流子浓度大于平衡时的多子浓 称为大注入 大注入。 度,称为大注入。
σ n = n0 qµn + ∆nqµn
σ p = p0 q µ p + ∆pq µ p
当外加的作用撤销后,将会有什么现象? 当外加的作用撤销后,将会有什么现象?
三、非平衡载流子的复合
光照停止, 光照停止,即停止注 入,系统从非平衡态 回到平衡态,电子回到平衡态,电子 空穴对逐渐消失的过 程。 即: 0 △n=△p △
第 五 章 非平衡载流子
Non-equilibrium Carrier
Prof. Dr. Jun Zhu
主要内容: 六个方面, 主要内容: (六个方面,8学时 )
*掌握非平衡载流子的概念,以及其的产生与复合的一 掌握非平衡载流子的概念 以及其的产生 复合的一 非平衡载流子的概念, 产生与
般过程,了解非平衡载流子对电导率的影响。 般过程,了解非平衡载流子对电导率的影响。 理解非平衡载流子寿命的概念 非平衡载流子寿命的概念, *理解非平衡载流子寿命的概念,掌握非平衡载流子浓 度随时间的变化规律及常用的测量寿命的方法。 度随时间的变化规律及常用的测量寿命的方法。 理解准费米能级的概念, 准费米能级的概念 *理解准费米能级的概念,并能用其表征非平衡态时载 流子浓度和衡量半导体偏离平衡态的程度。 流子浓度和衡量半导体偏离平衡态的程度。 掌握几种复合机构 复合理论 复合机构和复合理论 *掌握 复合机构 复合理论和各种情况下的少子寿 命表达式。 理解陷阱的概念和陷阱效应 陷阱的概念和陷阱效应。 *理解陷阱的概念和陷阱效应。 *载流子的扩散运动和漂移运动,掌握爱因斯坦关系式 载流子的扩散运动和漂移运动,掌握爱因斯坦关系式 扩散运动 连续性方程。 理解少数载流子遵循的方程 理解少数载流子遵循的方程——连续性方程。 少数载流子遵循的方程 连续性方程
同理: 同理:
p = p0 e
EF − EFp KT
2.准费米能级的位置 .准费米能级的位置
Q n = n0 + ∆n
Ec − EFn < Ec − EF
∴ EFn > EF
Q p = p0 + ∆p > p0
EFp − Ev < EF − Ev
∴ EFp < EF
N型材料: 型材料: 型材料 P型材料: 型材料: 型材料 远离E EFn 略高于 F , EFp 远离 F 略高于E
(1) 随光照时间的变化
△Vr
t=0,无光照,∆Vr=0 ,无光照 t>0,加光照 ,
0 ↑有净产生 有净产生
t
(2) 取消光照
在t=0时,取消照, 时 取消照, 复合>产生 复合 产生 。 非平衡载流子在半导体 中的生存时间称为非子 中的生存时间称为非子 寿命。 寿命。
△Vr
↓有净复合 有净复合
EF − EFp 小, EFp
EFp − EF
大,
略低于EF , 略低于 远离E 远离 F
EFn
N型 型
Ec EFn EF EFp Ev
P型 型
Ec EFn
EF EFp Ev
3.非平衡态的浓度积与平衡 非平衡态的浓度积与平衡 态时的浓度积
n = n0 e
EFn − EF KT
EFn − EF KT
在达到热平衡时, 在达到热平衡时,产生率必须等于复 合率: 合率: (n=n0, p=p0 )
Rd = G = rd n0 p0 = rd n
2 i
2.直接复合的净复合率 ud
直接复合的净复合率 ud
=非平衡态下的复合率-非平衡态下的产生率 非平衡态下的复合率- 非平衡态下的复合率
即‖ 即‖
热平衡态下的产生率
n / n0 = e
p = p0 e
EF − EFp KT
p EF − EF KT
p / p0 = e
n⋅ p KT =e n0 ⋅ p0 2 EFn和EFp两者相差愈大 ni 偏离平衡愈厉害
EFn − EFp
§5.4
复 合 理 论
内部的相互作用引起微观过程之间的平衡, 内部的相互作用引起微观过程之间的平衡,即非平衡向平 衡的过度,即非子的复合。复合理论是个统计性的理论 统计性的理论。 衡的过度,即非子的复合。复合理论是个统计性的理论。
σ = pq µ p + nq µ n = ( p0 + ∆p)qµ p + (n0 + ∆n)qµn